JPS646454Y2 - - Google Patents
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- JPS646454Y2 JPS646454Y2 JP1985046649U JP4664985U JPS646454Y2 JP S646454 Y2 JPS646454 Y2 JP S646454Y2 JP 1985046649 U JP1985046649 U JP 1985046649U JP 4664985 U JP4664985 U JP 4664985U JP S646454 Y2 JPS646454 Y2 JP S646454Y2
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- Japan
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- valve
- shaft portion
- small passage
- valve seat
- diaphragm
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
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Landscapes
- Fluid-Driven Valves (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本考案はダイヤフラムの中央に開穿したパイロ
ツト孔を電磁コイルにより駆動されるプランジヤ
ーで閉じ、ダイヤフラムの外周側に開穿した小通
路から流路一次側の水が圧力室内に流入すること
によりダイヤフラムを弁座に押し付けて弁部が閉
弁する電磁弁に関する。
ツト孔を電磁コイルにより駆動されるプランジヤ
ーで閉じ、ダイヤフラムの外周側に開穿した小通
路から流路一次側の水が圧力室内に流入すること
によりダイヤフラムを弁座に押し付けて弁部が閉
弁する電磁弁に関する。
<従来の技術>
従来、この種の電磁弁として特開昭56−90176
号公報に開示される如く、小通路に、弁座側から
圧力室側へ向うに従つて先細り状に形成されたク
リーニングピンを遊嵌状に挿通させることによ
り、該水通路内にゴミや水垢が詰まらないように
したものがある。
号公報に開示される如く、小通路に、弁座側から
圧力室側へ向うに従つて先細り状に形成されたク
リーニングピンを遊嵌状に挿通させることによ
り、該水通路内にゴミや水垢が詰まらないように
したものがある。
<考案が解決しようとする問題点>
しかし乍ら、上記従来の電磁弁では弁部の閉弁
に伴つてクリーニングピンと小通路内周面との間
隙が変化し、弁部が閉まる速度も変化するため、
閉弁時間のコントロールが非常に難しくコントロ
ールを正確に行うには小通路及びクリーニングピ
ンの寸法精度を極めて厳密なものとする必要があ
り、これらの加工が困難になるという問題があ
る。
に伴つてクリーニングピンと小通路内周面との間
隙が変化し、弁部が閉まる速度も変化するため、
閉弁時間のコントロールが非常に難しくコントロ
ールを正確に行うには小通路及びクリーニングピ
ンの寸法精度を極めて厳密なものとする必要があ
り、これらの加工が困難になるという問題があ
る。
そこで、クリーニングピンの径を一定にするこ
とが考えられるが、クリーニングピンと小通路と
の間隙が常に一定であるので、この間隙にゴミが
詰まるとゴミがなかなか外れないという問題があ
る。
とが考えられるが、クリーニングピンと小通路と
の間隙が常に一定であるので、この間隙にゴミが
詰まるとゴミがなかなか外れないという問題があ
る。
本考案は斯る従来事情に鑑み、閉弁時間のコン
トロールを容易にすると共にゴミ詰まりが生じ難
くすることを目的とする。
トロールを容易にすると共にゴミ詰まりが生じ難
くすることを目的とする。
<問題点を解決するための手段>
上記問題点を解決するため本考案が講ずる技術
的手段は、小通路内を遊嵌状に挿通するクリーニ
ングピンに、小通路内径より稍小径の太軸部とこ
の太軸部より小径の細軸部とを、該太軸部が弁座
側、細軸部が圧力室側になるようにすると共に、
弁部全開時で両者の境界部が小通路の一次側開口
端付近に位置するように設けたことを特徴とする
ものである。
的手段は、小通路内を遊嵌状に挿通するクリーニ
ングピンに、小通路内径より稍小径の太軸部とこ
の太軸部より小径の細軸部とを、該太軸部が弁座
側、細軸部が圧力室側になるようにすると共に、
弁部全開時で両者の境界部が小通路の一次側開口
端付近に位置するように設けたことを特徴とする
ものである。
<作用>
本考案は上記技術的手段によれば、弁部の全開
から全閉に至る略全過程に亙つて小通路の一次側
開口端が太軸部上を移動することにより小通路の
通水面積に変化をなくして弁部を略一定の速度で
閉弁させ、弁部全開時において細軸部を一部小通
路内に存在させることにより該部分は小通路内面
とクリーニングピンとの間隙が大きくなるもので
ある。
から全閉に至る略全過程に亙つて小通路の一次側
開口端が太軸部上を移動することにより小通路の
通水面積に変化をなくして弁部を略一定の速度で
閉弁させ、弁部全開時において細軸部を一部小通
路内に存在させることにより該部分は小通路内面
とクリーニングピンとの間隙が大きくなるもので
ある。
<実施例>
以下、本考案の一実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
この実施例は第1図に示す如くダイヤフラムA
に対応する弁座B1を、円筒状に形成した弁座部
材Bを流路C中に配備することにより構成した場
合を示すものである。
に対応する弁座B1を、円筒状に形成した弁座部
材Bを流路C中に配備することにより構成した場
合を示すものである。
ダイヤフラムAはゴム等の弾性材で略円板状に
形成したダイヤフラム本体1と、このダイヤフラ
ム本体1の中央部1aに背面側より挿嵌して該本
体1中央部の変形を防止する受け板2とからな
る。
形成したダイヤフラム本体1と、このダイヤフラ
ム本体1の中央部1aに背面側より挿嵌して該本
体1中央部の変形を防止する受け板2とからな
る。
ダイヤフラム本体1はその中央部1a及び周縁
部1bを夫々厚肉に形成してこれら両部1a,1
bに挟まれた環状部分に薄肉の可撓部1cを形成
し、該周縁部1bを流路Cに形成した環状の段部
C1と後述する駆動部D内に嵌着されるガイドD1
下端とによつて流路Cを遮断するように挟持固定
すると共に、その取付け状態において上記中央部
1aが周縁部1bより下方に位置し、可撓部1c
が下方に向けて凹状にたるんでいる。
部1bを夫々厚肉に形成してこれら両部1a,1
bに挟まれた環状部分に薄肉の可撓部1cを形成
し、該周縁部1bを流路Cに形成した環状の段部
C1と後述する駆動部D内に嵌着されるガイドD1
下端とによつて流路Cを遮断するように挟持固定
すると共に、その取付け状態において上記中央部
1aが周縁部1bより下方に位置し、可撓部1c
が下方に向けて凹状にたるんでいる。
また、ダイヤフラム本体1はその全面に亙つて
例えばポリエステル等の補強布1dを埋入するこ
とにより特に可撓部1cを補強してその変形に伴
う伸縮による破れを防止している。
例えばポリエステル等の補強布1dを埋入するこ
とにより特に可撓部1cを補強してその変形に伴
う伸縮による破れを防止している。
受け板2は例えばノリル樹脂等の合成樹脂によ
り略こま型状に形成され、その中央にパイロツト
孔2aを上下方向へ貫通開穿すると共に、周縁の
一部を上方へ突出させてその内部に孔状の小通路
2bを上下方向へ貫通開穿し、これらパイロツト
孔2a及び小通路2bはその取付け状態で上記ダ
イヤフラム本体1の中央部1aを貫通してダイヤ
フラムAの背後に形成される圧力室C2と流路C
二次側とを連絡している。
り略こま型状に形成され、その中央にパイロツト
孔2aを上下方向へ貫通開穿すると共に、周縁の
一部を上方へ突出させてその内部に孔状の小通路
2bを上下方向へ貫通開穿し、これらパイロツト
孔2a及び小通路2bはその取付け状態で上記ダ
イヤフラム本体1の中央部1aを貫通してダイヤ
フラムAの背後に形成される圧力室C2と流路C
二次側とを連絡している。
そして、この小通路2bには上記ガイドD1の
下面にその上端基部を埋設固定したクリーニング
ピン3を遊嵌状に挿通せしめる。
下面にその上端基部を埋設固定したクリーニング
ピン3を遊嵌状に挿通せしめる。
クリーニングピン3はステンレス製で、小通路
2b内径より稍小径の太軸部3aと、この太軸部
3aに連続して形成された太軸部3aより小径の
細軸部3bを有しており、上記太軸部3aはピン
下部、即ち弁座B1側、細軸部3bはピン上部、
即ち圧力室C2側に設けられている。
2b内径より稍小径の太軸部3aと、この太軸部
3aに連続して形成された太軸部3aより小径の
細軸部3bを有しており、上記太軸部3aはピン
下部、即ち弁座B1側、細軸部3bはピン上部、
即ち圧力室C2側に設けられている。
また、このクリーニングピン3は、弁部Eが全
開した状態において小通路2bが流路Cの一次側
に開口する開口端に細軸部3bとの境界部3c近
くの太軸部3aが位置するように形成する。
開した状態において小通路2bが流路Cの一次側
に開口する開口端に細軸部3bとの境界部3c近
くの太軸部3aが位置するように形成する。
更に、上記ダイヤフラムAの中央部には流路C
二次側に突出して前記弁座部材Bの内周に形成し
た弁座孔B2内に嵌り込む突出部4を設ける。
二次側に突出して前記弁座部材Bの内周に形成し
た弁座孔B2内に嵌り込む突出部4を設ける。
突出部4は例えばノリル樹脂等の合成樹脂によ
り円筒状に形成され、基端側にその外径が弁座孔
B2の上端内径より稍小径な鉛直面4aを適宜幅
形成すると共に、この鉛直面4aから先端に亙つ
てその外径が先端に向うに従つて漸次小径となる
ような円錐面或いは曲面の傾斜面4bを形成す
る。
り円筒状に形成され、基端側にその外径が弁座孔
B2の上端内径より稍小径な鉛直面4aを適宜幅
形成すると共に、この鉛直面4aから先端に亙つ
てその外径が先端に向うに従つて漸次小径となる
ような円錐面或いは曲面の傾斜面4bを形成す
る。
また突出部4はその中央に上記パイロツト孔2
aと連通する通孔4cを上下方向へ貫通開穿し、
本実施例では通孔4cの上端部を大径に形成して
その内部にパイロツト孔2aの下端周縁部2cを
嵌入して超音波溶着等により固定している。
aと連通する通孔4cを上下方向へ貫通開穿し、
本実施例では通孔4cの上端部を大径に形成して
その内部にパイロツト孔2aの下端周縁部2cを
嵌入して超音波溶着等により固定している。
弁座部材Bは例えば青銅等の金属により円筒状
に形成され、その下端外周面B3を流路C内に区
画形成した仕切壁C3に螺着して流路Cの一次側
と二次側を連通させると共に弁座孔B2には上記
突出部4が弁座孔B2内に嵌り込んだ状態でその
傾斜面4bに対向するテーパ面部B4を形成して
内径を絞つている。
に形成され、その下端外周面B3を流路C内に区
画形成した仕切壁C3に螺着して流路Cの一次側
と二次側を連通させると共に弁座孔B2には上記
突出部4が弁座孔B2内に嵌り込んだ状態でその
傾斜面4bに対向するテーパ面部B4を形成して
内径を絞つている。
一方、駆動部Dは電磁石よりなり電磁コイル
D2への通電のON,OFFによつて上下方向に進退
移動するプランジヤーD3を備えている。
D2への通電のON,OFFによつて上下方向に進退
移動するプランジヤーD3を備えている。
プランジヤーD3はその下面を上記パイロツト
孔2aの上方に位置させ、上面と駆動部D上面と
の間にスプリングD4を弾装することにより常時
パイロツト孔2a上面を閉塞する方向に押圧付勢
されている。
孔2aの上方に位置させ、上面と駆動部D上面と
の間にスプリングD4を弾装することにより常時
パイロツト孔2a上面を閉塞する方向に押圧付勢
されている。
而して斯る電磁弁は電磁コイルD2への通電が
なされると、スプリングD4の付勢力に抗して電
磁コイルD2に吸引され、閉じられていたパイロ
ツト孔2aが開いて、このパイロツト孔2aより
圧力室C2内の水が流路C二次側に排出され、ダ
イヤフラム本体1の中央部1aにより弁座B1か
ら押し離されるをもつて弁部Eが開弁する。(第
2図) 次に、この状態において電磁コイルD2への通
電がなくなると、スプリングD4によつてプラン
ジヤーD3の下面がパイロツト孔2aを閉じ流路
C一次側からの水が小通路2bとクリーニングピ
ン3の細軸部3bとの間を通つて圧力室C2内に
流入し、その給水圧によつてダイヤフラム本体1
の中央部1aを弁座B1側へ移動させ弁部Eを閉
弁する(第1図)が、この時ダイヤフラム本体1
の中央部1aの移動に伴つてその下面に突設した
突出部4が弁座孔B2内に徐々に嵌り込み傾斜面
4bが弁座孔B2のテーパ面部B4に接近してこれ
ら両者間を通過する水量を緩やかに減少させ、更
に鉛直面4aが弁座孔B2内に嵌り込むことによ
り通過水量を略一定にして閉弁に至る。
なされると、スプリングD4の付勢力に抗して電
磁コイルD2に吸引され、閉じられていたパイロ
ツト孔2aが開いて、このパイロツト孔2aより
圧力室C2内の水が流路C二次側に排出され、ダ
イヤフラム本体1の中央部1aにより弁座B1か
ら押し離されるをもつて弁部Eが開弁する。(第
2図) 次に、この状態において電磁コイルD2への通
電がなくなると、スプリングD4によつてプラン
ジヤーD3の下面がパイロツト孔2aを閉じ流路
C一次側からの水が小通路2bとクリーニングピ
ン3の細軸部3bとの間を通つて圧力室C2内に
流入し、その給水圧によつてダイヤフラム本体1
の中央部1aを弁座B1側へ移動させ弁部Eを閉
弁する(第1図)が、この時ダイヤフラム本体1
の中央部1aの移動に伴つてその下面に突設した
突出部4が弁座孔B2内に徐々に嵌り込み傾斜面
4bが弁座孔B2のテーパ面部B4に接近してこれ
ら両者間を通過する水量を緩やかに減少させ、更
に鉛直面4aが弁座孔B2内に嵌り込むことによ
り通過水量を略一定にして閉弁に至る。
この際、弁部E全開時には小通路2bの流路C
一次側の開口端部はクリーニングピン3の太軸部
3aと細軸部3bと境界部3c近くにあるので、
弁部Eが完全に閉弁するまでの略全課程に亙つて
小通路2bは太軸部3aに沿つて移動し、その通
水面積に変化はない。
一次側の開口端部はクリーニングピン3の太軸部
3aと細軸部3bと境界部3c近くにあるので、
弁部Eが完全に閉弁するまでの略全課程に亙つて
小通路2bは太軸部3aに沿つて移動し、その通
水面積に変化はない。
従つて弁部Eは全開から閉止まで略一定の速度
で閉弁するので、閉弁時間のコントロールが容易
であるうえ、クリーニングピン3に設けた細軸部
3bが、弁部E全開時において一部小通路2b内
に存在し、この部分は小通路2b内面とクリーニ
ングピン3との間の間隙が大きくなるので、万一
小通路2b内にゴミが入り込んでもゴミが外れて
抜け易い。
で閉弁するので、閉弁時間のコントロールが容易
であるうえ、クリーニングピン3に設けた細軸部
3bが、弁部E全開時において一部小通路2b内
に存在し、この部分は小通路2b内面とクリーニ
ングピン3との間の間隙が大きくなるので、万一
小通路2b内にゴミが入り込んでもゴミが外れて
抜け易い。
斯る電磁弁は例えば第3図に示す如く流路Cの
一次側を給水源(図示せず)に連絡すると共に二
次側を吐水具Fに連絡し、該吐水具Fに設けた感
知部Gの人体感知により感知信号を制御部Hに送
り、この制御部Hからの出力を受けて駆動部Dの
電磁コイルD2に通電する所謂自動水栓等に使用
される。
一次側を給水源(図示せず)に連絡すると共に二
次側を吐水具Fに連絡し、該吐水具Fに設けた感
知部Gの人体感知により感知信号を制御部Hに送
り、この制御部Hからの出力を受けて駆動部Dの
電磁コイルD2に通電する所謂自動水栓等に使用
される。
尚、前示実施例においては流路C中に弁座部材
Bを配備することにより弁座B1を構成したが、
これに限定されず弁座B1は、流路Cを構成する
弁本体に一体に形成しても良く、又クリーニング
ピン3の上端基部をガイドD1の下面に埋設固定
したがこれに限定されず、例えば弁座部材Bに取
付け部を突設しこれにクリーニングピン3の下端
を埋設固定する等任意である。
Bを配備することにより弁座B1を構成したが、
これに限定されず弁座B1は、流路Cを構成する
弁本体に一体に形成しても良く、又クリーニング
ピン3の上端基部をガイドD1の下面に埋設固定
したがこれに限定されず、例えば弁座部材Bに取
付け部を突設しこれにクリーニングピン3の下端
を埋設固定する等任意である。
<考案の効果>
本考案は上記の構成であるから、以下の利点を
有する。
有する。
弁部の全開から全閉に至る略全過程に亙つて
小通路の一次側側開口端が太軸部上を移動する
ことにより小通路の通水面積に変化をなくして
弁部を略一定の速度で閉弁させるので、閉弁時
間のコントロールが容易であるうえ、細軸部が
弁部全開時において一部小通路内に存在し、該
部分は小通路内面とクリーニングピンとの間隙
が大きくなるので、万一小通路内にゴミが入り
込んでもゴミが外れて抜け易い。
小通路の一次側側開口端が太軸部上を移動する
ことにより小通路の通水面積に変化をなくして
弁部を略一定の速度で閉弁させるので、閉弁時
間のコントロールが容易であるうえ、細軸部が
弁部全開時において一部小通路内に存在し、該
部分は小通路内面とクリーニングピンとの間隙
が大きくなるので、万一小通路内にゴミが入り
込んでもゴミが外れて抜け易い。
第1図は本考案の一実施例を示す電磁弁の縦断
正面図でその閉弁状態を示し、第2図は開弁状態
を示す縦断正面図、第3図は本考案電磁弁の使用
の一例を示す縮小正面図で一部切欠して示す。 A……ダイヤフラム、B1……弁座、C……流
路、C2……圧力室、D2……電磁コイル、D3……
プランジヤー、E……弁部、2a……パイロツト
孔、2b……小通路、3……クリーニングピン、
3a……太軸部、3b……細軸部、3c……境界
部。
正面図でその閉弁状態を示し、第2図は開弁状態
を示す縦断正面図、第3図は本考案電磁弁の使用
の一例を示す縮小正面図で一部切欠して示す。 A……ダイヤフラム、B1……弁座、C……流
路、C2……圧力室、D2……電磁コイル、D3……
プランジヤー、E……弁部、2a……パイロツト
孔、2b……小通路、3……クリーニングピン、
3a……太軸部、3b……細軸部、3c……境界
部。
Claims (1)
- ダイヤフラムの中央に開穿したパイロツト孔を
電磁コイルにより駆動されるプランジヤーで閉
じ、ダイヤフラムの外周側に開穿した小通路から
流路一次側の水が圧力室内に流入することにより
ダイヤフラムを弁座に押し付けて弁部が閉弁する
電磁弁において、前記小通路内を遊嵌状に挿通す
るクリーニングピンに、小通路内径より稍小径の
太軸部とこの太軸部より小径の細軸部とを、該太
軸部が弁座側、細軸部が圧力室側になるようにす
ると共に、弁部全開時で両者の境界部が小通路の
一次側開口端付近に位置するように設けたことを
特徴とする電磁弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985046649U JPS646454Y2 (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1985046649U JPS646454Y2 (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61161486U JPS61161486U (ja) | 1986-10-06 |
JPS646454Y2 true JPS646454Y2 (ja) | 1989-02-20 |
Family
ID=30561247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1985046649U Expired JPS646454Y2 (ja) | 1985-03-28 | 1985-03-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS646454Y2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0526386Y2 (ja) * | 1988-04-12 | 1993-07-02 | ||
JP2007247823A (ja) * | 2006-03-17 | 2007-09-27 | Rinnai Corp | パイロット式水電磁弁 |
JP4586099B1 (ja) * | 2009-07-09 | 2010-11-24 | 富士精工株式会社 | 定流量制御装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652673A (en) * | 1979-09-29 | 1981-05-11 | Toto Ltd | Ball tap for cistern |
JPS5690176A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electromagnetic water supply valve |
-
1985
- 1985-03-28 JP JP1985046649U patent/JPS646454Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652673A (en) * | 1979-09-29 | 1981-05-11 | Toto Ltd | Ball tap for cistern |
JPS5690176A (en) * | 1979-12-19 | 1981-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Electromagnetic water supply valve |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61161486U (ja) | 1986-10-06 |
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