JPS645367B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS645367B2 JPS645367B2 JP1038380A JP1038380A JPS645367B2 JP S645367 B2 JPS645367 B2 JP S645367B2 JP 1038380 A JP1038380 A JP 1038380A JP 1038380 A JP1038380 A JP 1038380A JP S645367 B2 JPS645367 B2 JP S645367B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- magnetic layer
- layer
- recording head
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録ヘツドの製造方法に関するも
のである。
のである。
従来の磁気記録ヘツドの製造方法としては、フ
エライトヘツドのように機械加工を用いる方法や
薄膜ヘツドのようにスパツタ、メツキ、蒸着など
を用いて積層する方法とがある。前者は機械加工
を行う故に微細化が難しく、後者は積層数が増加
するにつれて積層が難しくなるという欠点があ
る。
エライトヘツドのように機械加工を用いる方法や
薄膜ヘツドのようにスパツタ、メツキ、蒸着など
を用いて積層する方法とがある。前者は機械加工
を行う故に微細化が難しく、後者は積層数が増加
するにつれて積層が難しくなるという欠点があ
る。
本発明の目的は、従来知られている磁気記録ヘ
ツド製造方法の、この様な欠点を改良するため、
磁気層、導体コイル層を形成した基板又はブロツ
クを対向して接着することにより、積層数を減少
させて積層を容易にし、又工程を短縮させると共
に効率よく高密度記録の可能な磁気記録ヘツドを
製造する方法を提供することにある。
ツド製造方法の、この様な欠点を改良するため、
磁気層、導体コイル層を形成した基板又はブロツ
クを対向して接着することにより、積層数を減少
させて積層を容易にし、又工程を短縮させると共
に効率よく高密度記録の可能な磁気記録ヘツドを
製造する方法を提供することにある。
本発明はスパツタ法、蒸着法、メツキ法などの
薄膜形成技術とガラス接着などの接着技術を組み
合せ、より容易に、高密度記録の可能な磁気記録
ヘツドを製造する方法である。
薄膜形成技術とガラス接着などの接着技術を組み
合せ、より容易に、高密度記録の可能な磁気記録
ヘツドを製造する方法である。
第１図、第２図及び第３図は本発明の一実施例
として４層の薄膜導体コイル層をもつ磁気記録ヘ
ツドの製造プロセスを示す。本図を用いて説明す
ると、基板２の上に磁性薄膜を接着してパターニ
ングを行うか、又は蒸着法、スパツタ法、メツキ
法などによつて形成しパターニングを行う事によ
り第１図ａに示される様な磁性層１を形成する。
同図a′は磁性層１の平面図である。
として４層の薄膜導体コイル層をもつ磁気記録ヘ
ツドの製造プロセスを示す。本図を用いて説明す
ると、基板２の上に磁性薄膜を接着してパターニ
ングを行うか、又は蒸着法、スパツタ法、メツキ
法などによつて形成しパターニングを行う事によ
り第１図ａに示される様な磁性層１を形成する。
同図a′は磁性層１の平面図である。
次に磁性層１の上にスパツタ、蒸着などを用い
て絶縁層３を形成する。（第１図ｂ参照） 次にスパツタ、蒸着、メツキ等を用いて一層目
の導体コイル層４を形成する。（第１図ｃ参照） 次にスパツタ、蒸着等を用いて絶縁層５を形成
する。（第１図ｄ参照） 次にスパツタ、蒸着、メツキ等を用いて２層目
の導体コイル層６を形成する。（第１図ｅ参照） 次に前記と同様にして絶縁層７を形成する。
（第１図ｆ参照） 次に磁性層８を積層する部分の絶縁層を除去す
る。（第１図ｇ参照） 次に磁性層８を積層する。（第１図ｈ参照、
h′は平面図である）同図h′に示す導体コイル層６
はパターンの一例であるが導体コイル層４のパタ
ーンは導体コイル層６との接続が容易に行える形
にすることが望ましい。
て絶縁層３を形成する。（第１図ｂ参照） 次にスパツタ、蒸着、メツキ等を用いて一層目
の導体コイル層４を形成する。（第１図ｃ参照） 次にスパツタ、蒸着等を用いて絶縁層５を形成
する。（第１図ｄ参照） 次にスパツタ、蒸着、メツキ等を用いて２層目
の導体コイル層６を形成する。（第１図ｅ参照） 次に前記と同様にして絶縁層７を形成する。
（第１図ｆ参照） 次に磁性層８を積層する部分の絶縁層を除去す
る。（第１図ｇ参照） 次に磁性層８を積層する。（第１図ｈ参照、
h′は平面図である）同図h′に示す導体コイル層６
はパターンの一例であるが導体コイル層４のパタ
ーンは導体コイル層６との接続が容易に行える形
にすることが望ましい。
以上の様なプロセスで磁性層と導体コイル層を
形成した基板２枚を第２図ｉに示すように、即ち
磁性層の中心部と側面部に形成した突出部８が対
向するようにし、希望するギヤツプ９が得られる
様に接着ガラス、エポキシ系接着剤１０などを用
いて接着する。（第２図ｊ参随） 第２図ｋに示す矢印の方向にラツピングを行い
書込み／読出し用のギヤツプ９を形成する。
形成した基板２枚を第２図ｉに示すように、即ち
磁性層の中心部と側面部に形成した突出部８が対
向するようにし、希望するギヤツプ９が得られる
様に接着ガラス、エポキシ系接着剤１０などを用
いて接着する。（第２図ｊ参随） 第２図ｋに示す矢印の方向にラツピングを行い
書込み／読出し用のギヤツプ９を形成する。
磁気記録ヘツドの完成図を第３図に示す。１１
は磁気テープ、磁気デイスク等の媒体である。
は磁気テープ、磁気デイスク等の媒体である。
本実施例では導体コイル層は４層であるが、各
基板について２層の積層を行うだけで良いので、
コイル層形成が容易である。又インナーギヤツプ
が広くなり漏洩磁束が減少する等の効果があつ
た。
基板について２層の積層を行うだけで良いので、
コイル層形成が容易である。又インナーギヤツプ
が広くなり漏洩磁束が減少する等の効果があつ
た。
第４図は本発明の他の実施例を示すもので、第
３図と異なる点は磁性層によつて構成される磁気
コア後部の磁性層を取り除いた点である。この実
施例では磁気コア後部の磁性層からの漏洩磁束を
減少させる効果がある。
３図と異なる点は磁性層によつて構成される磁気
コア後部の磁性層を取り除いた点である。この実
施例では磁気コア後部の磁性層からの漏洩磁束を
減少させる効果がある。
第５図は本発明の他の実施例を示すもので、第
３図の例とは磁性層の形成方法が異なる。本実施
例では第５図ｌ，ｍに示す如く磁性体ブロツク１
３を基板１２にはさみ込む形、又は埋め込む形で
接着し、第５図ｎに示す如くその上部に磁性層１
５と導体コイル層１４を形成し、第５図ｐに示す
如く基板２枚を導体コイル層が重なる様に対向さ
せ接着する。次に矢印の方向に一点鎖線部迄ラツ
ピングして完成する。
３図の例とは磁性層の形成方法が異なる。本実施
例では第５図ｌ，ｍに示す如く磁性体ブロツク１
３を基板１２にはさみ込む形、又は埋め込む形で
接着し、第５図ｎに示す如くその上部に磁性層１
５と導体コイル層１４を形成し、第５図ｐに示す
如く基板２枚を導体コイル層が重なる様に対向さ
せ接着する。次に矢印の方向に一点鎖線部迄ラツ
ピングして完成する。
第１図は本発明の一実施例で４層の薄膜導体コ
イル層をもつ磁気記録ヘツドの製造プロセスを示
す。１は磁性層、２は基板、３，５，７は絶縁
層、４，６は導体コイル層、８は磁性層である。 第２図は第１図に示されるプロセスによりパタ
ーンを形成した基板２枚を接着しラツピングする
ことによつて磁気記録ヘツドを得る工程を示す。
１０は接着剤、９は書込み／読出し用のギヤツプ
である。 第３図は第１図、第２図のプロセスにより製造
された磁気記録ヘツドの完成図である。第４図は
他の実施例による磁気記録ヘツドの完成図であ
る。第５図は他の実施例による磁気記録ヘツドの
製造プロセスを示す。１２は基板、１３は磁性体
ブロツク、１４は導体コイル層、１５は磁性層で
ある。
イル層をもつ磁気記録ヘツドの製造プロセスを示
す。１は磁性層、２は基板、３，５，７は絶縁
層、４，６は導体コイル層、８は磁性層である。 第２図は第１図に示されるプロセスによりパタ
ーンを形成した基板２枚を接着しラツピングする
ことによつて磁気記録ヘツドを得る工程を示す。
１０は接着剤、９は書込み／読出し用のギヤツプ
である。 第３図は第１図、第２図のプロセスにより製造
された磁気記録ヘツドの完成図である。第４図は
他の実施例による磁気記録ヘツドの完成図であ
る。第５図は他の実施例による磁気記録ヘツドの
製造プロセスを示す。１２は基板、１３は磁性体
ブロツク、１４は導体コイル層、１５は磁性層で
ある。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板またはブロツクの中心部と側面部におい
て突出部を有する磁性層を形成するとともに、 前記磁性層上で、且つ前記磁性層の中心部に設
けられた突出部を中心として薄膜導体コイルを形
成した略同一の形状の２つの基板またはブロツク
を用意し、 前記２つの基板またはブロツクに形成した磁性
層の突出部を互いに向き合う形で接着し、 その後、前記側面部の突出部を研削して所望の
ギヤツプを形成する ことを特徴とする磁気記録ヘツドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1038380A JPS56107325A (en) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | Manufacture for magnetic recording head |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1038380A JPS56107325A (en) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | Manufacture for magnetic recording head |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56107325A JPS56107325A (en) | 1981-08-26 |
| JPS645367B2 true JPS645367B2 (ja) | 1989-01-30 |
Family
ID=11748596
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1038380A Granted JPS56107325A (en) | 1980-01-31 | 1980-01-31 | Manufacture for magnetic recording head |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56107325A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5952421A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-27 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘッドとその製造方法 |
| JPS5952420A (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-27 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS61217921A (ja) * | 1985-03-25 | 1986-09-27 | Sharp Corp | 薄膜ビデオヘツド |
| JPH06176312A (ja) * | 1992-12-04 | 1994-06-24 | Pfu Ltd | 薄型磁気ディスク装置 |
| EP0709828B1 (en) * | 1994-05-09 | 2001-08-01 | Sony Corporation | Magnetic head and its manufacture |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5184618A (ja) * | 1975-01-22 | 1976-07-24 | Nippon Electric Co | Jikihetsudo |
-
1980
- 1980-01-31 JP JP1038380A patent/JPS56107325A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56107325A (en) | 1981-08-26 |
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