JPS6412108B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6412108B2
JPS6412108B2 JP10696283A JP10696283A JPS6412108B2 JP S6412108 B2 JPS6412108 B2 JP S6412108B2 JP 10696283 A JP10696283 A JP 10696283A JP 10696283 A JP10696283 A JP 10696283A JP S6412108 B2 JPS6412108 B2 JP S6412108B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
basic element
insulating cylinder
curable resin
semiconductor
light
Prior art date
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Expired
Application number
JP10696283A
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English (en)
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JPS59231858A (ja
Inventor
Moichi Yoshida
Toyohiko Kyohara
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP10696283A priority Critical patent/JPS59231858A/ja
Publication of JPS59231858A publication Critical patent/JPS59231858A/ja
Publication of JPS6412108B2 publication Critical patent/JPS6412108B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24Coupling light guides
    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
    • G02B6/4295Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with semiconductor devices activated by light through the light guide, e.g. thyristors, phototransistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/111Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors
    • H01L31/1113Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by at least three potential barriers, e.g. photothyristors the device being a photothyristor

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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、光駆動半導体装置に関し、特に平
型光駆動サイリスタの位置決めの改良に係るもの
である。
第1図は従来の平型光駆動サイリスタの断面図
である。この図で、1は表面中心部にトリガ受光
部を有する半導体素子1Aと、モリブデン円板等
の導電体1Bからなるベーシツクエレメント、2
は前記ベーシツクエレメント1のトリガ受光部側
表面に形成された電極に加圧接触された第1の電
極、3は第2の電極で、ベーシツクエレメント1
の導電体側に加圧接触される。4は前記ベーシツ
クエレメント1を包囲する絶縁筒体であり、この
絶縁筒体4は第1の電極2および第2の電極3と
によつてパツケージを構成する。また、絶縁筒体
4はアルミナなど機械的強度が強く絶縁性、熱伝
導性の良好な材質で作られる。5は前記ベーシツ
クエレメント1のトリガ受光部に光信号を導きサ
イリスタを点弧させるためのライトガイドで、絶
縁筒体4の円筒面の一部に設けられた挿入穴を通
して絶縁筒体4の外部に通じている。6は前記ベ
ーシツクエレメント1の半導体接合露出部を保護
するための被覆樹脂で、シリコンゴム等から作ら
れている。7は前記ベーシツクエレメント1を絶
縁筒体4に固定するための、たとえば、シリコン
LTVやエポキシ樹脂のような硬化性樹脂である。
このような従来の光駆動サイリスタの半導体パ
ツケージにおいて、ベーシツクエレメント1のト
リガ受光部にライトガイド5からの光信号を導く
ことにより、サイリスタをできるだけ低いエネル
ギーで点弧させるようにしている。このためライ
トガイド5の光出力端をベーシツクエレメント1
のトリガ受光部に精度良く固定する必要がある。
そこで、ベーシツクエレメント1の固定に際して
は第1の電極2が予め固定された絶縁筒体4に設
けられたライトガイド5の挿入穴にライトガイド
5を挿入しこれを固定する。さらに、ライトガイ
ド5の光出力端とベーシツクエレメント1のトリ
ガ受光部が合致するように、ベーシツクエレメン
ト1を第1の電極2の内面上に載置し、ベーシツ
クエレメント1の外周面と絶縁筒体4の内周面の
間隙に硬化性樹脂7を注入し硬化させる。
この硬化性樹脂7は、作業性、量産性の向上の
ため比較的硬化度の低いものが使用されるが、こ
れに伴う硬化剤の半導体接合表面への樹脂流出防
止のため、絶縁筒体4と被覆樹脂6を接触させて
いる。
しかしながら、被覆樹脂6はその材質上表面形
状が不均一になり、絶縁筒体4と被覆樹脂6との
接触部に間隙が生じ、この間隙から硬化性樹脂7
が第1の電極2側へ流出し、これに伴いベーシツ
クエレメント1の固定ができなくなり、ベーシツ
クエレメント1の位置ずれを生ずることがある。
さらに、硬化性樹脂7の流出に伴う硬化性樹脂7
のライトガイド5への付着により、光伝送損失を
増大させることもある。これら硬化性樹脂7の流
出を防止するためには、被覆樹脂6の表面形状を
均一にする必要がある。このためには多大の労力
を要する。
一方、被覆樹脂6の不均一性を考慮して絶縁筒
体4との密着性を保持するためには、絶縁筒体4
に被覆樹脂6を圧迫する必要があり、ベーシツク
エレメント1の半導体接合露出部を損傷すること
になる。
この発明は、かかる従来の光駆動サイリスタの
欠点を解消しようとするもので、ベーシツクエレ
メントの外周面と絶縁筒体内周面で形成される間
隙に注入される硬化性樹脂の半導体表面側への流
出を遮断する遮断材を設けることにより、上記硬
化性樹脂の半導体表面側への流出を防止し、パツ
ケージの量産性.歩留りを向上させる光駆動半導
体装置を提供するものである。以下この発明につ
いて説明する。
第2図はこの発明の一実施例を示す断面図であ
る。この図で、1〜7は従来の光駆動半導体装置
と同一もしくは相当部分を示すものであり、説明
は省略する。8は前記ベーシツクエレメント1と
絶縁筒体4とに密着した遮断材であり、ゴムリン
グ等からなる。
上記のように構成されたパツケージにおいて
は、遮断材8は断面が角型のゴムリングであり、
このゴムリングの直径は、ベーシツクエレメント
1を構成する導電体1Bのそれよりも若干小さく
作られている。したがつて、ベーシツクエレメン
ト1とライトガイド5の位置決め前に遮断材8が
ベーシツクエレメント1の導電体1Bの外周を圧
迫して導電体1Bに接着される。この後、ベーシ
ツクエレメント1とライトガイド5の位置決めを
行い、遮断材8が絶縁筒体4に密着するように遮
断材8を導電体1Bの外周面に沿つて押し込み、
絶縁筒体4に接触させる。
このため、導電体1Bの外周面と絶縁筒体4の
内周面は遮断材8で完全に密着される。したがつ
て、ベーシツクエレメント1と絶縁筒体4を直接
接触させないで、遮断材8を介して硬化性樹脂7
の半導体表面側への流出を遮断するため、被覆樹
脂6の表面形状が不均一でも硬化性樹脂7の流出
する間隙は生じない。これにより被覆樹脂6の表
面形状を均一にする必要がなくなり、被覆樹脂6
の添加の作業性が飛躍的に向上する。さらに、被
覆樹脂6が絶縁筒体4で直接圧迫されることがな
く、したがつて、ベーシツクエレメント1の半導
体接合露出部を絶縁筒体4で損傷することはな
い。これにより半導体装置の信頼性.歩留りの向
上がはかられる。
なお、上記実施例では、ベーシツクエレメント
1の位置決め後の絶縁筒体4への挿入を容易にす
るため遮断材8の外周面と絶縁筒体4の内周面の
間隙を設けるような形状の遮断材8を用いている
が、第3図aおよびbに示す形状にしても同様の
効果が期待できる。すなわち、第3図aは遮断材
8aの外周面と絶縁筒体4の内周面が密着する形
状の遮断材8aを用いることにより、遮断材8a
と絶縁体筒4の密着性を増大させることができ
る。また、第3図bは遮断材8bの一部をベーシ
ツクエレメント1を構成する導電体1Bと半導体
素子1Aとの接合面上に突出させたもので、さら
に、ベーシツクエレメント1の絶縁筒体4への挿
入時に遮断材8bが絶縁筒体4を圧接する大きさ
を有している。これによれば、ベーシツクエレメ
ント1の位置決め時の遮断材8bへの加圧力が遮
断材8bと絶縁筒体4との密着部に加わることに
なるため、遮断材8bと絶縁筒体4の密着性が大
きくなる。
要するにベーシツクエレメント1を構成する導
電体1Bの外周と絶縁筒体4の内周面とに密着
し、硬化性樹脂7の半導体素子1Aの表面側への
流出を防止するものであれば、この遮断材8の形
状および材質はどのようなものであつてもよいこ
とはいうまでもない。
以上説明したように、この発明は、ベーシツク
エレメントと絶縁筒体との間隙に注入される硬化
性樹脂の半導体表面側への流出を遮断する遮断材
を設けたことにより、硬化性樹脂の流出を防止
し、半導体素子の位置ずれを起こさずにその装
着.固定を容易にし、パツケージの量産性.歩留
り.さらに、信頼性を向上させるという効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の光駆動サイリスタの半導体装置
を示す断面図、第2図はこの発明の一実施例を示
す断面図、第3図a,bはこの発明の他の実施例
を示す遮断材挿入部の拡大断面図である。 図中、1はベーシツクエレメント、1Aは半導
体素子、1Bは導電体、2は第1の電極、3は第
2の電極、4は絶縁筒体、5はライトガイド、6
は被覆樹脂、7は硬化性樹脂、8,8a,8bは
遮断材である。なお、図中の同一符号は同一また
は相当部分を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 中央部にトリガ受光部を有する半導体素子お
    よびこの半導体素子の前記トリガ受光部と反対面
    全面に密着接合された導電体からなるベーシツク
    エレメントと、このベーシツクエレメントを包囲
    固定する絶縁筒体と、前記ベーシツクエレメント
    の外周面と前記絶縁筒体内面によつて形成される
    間隙に注入され前記ベーシツクエレメントを前記
    絶縁筒体に固着する硬化性樹脂と、前記間隙に設
    けられ前記硬化性樹脂の半導体素子表面への流出
    を遮断する遮断材とを備えたことを特徴とする光
    駆動半導体装置。
JP10696283A 1983-06-13 1983-06-13 光駆動半導体装置 Granted JPS59231858A (ja)

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JPS59231858A JPS59231858A (ja) 1984-12-26
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JP3469304B2 (ja) * 1994-04-12 2003-11-25 三菱電機株式会社 半導体装置

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