JPS6382714A - デイスク基盤成形型 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明はディスク基盤成形型に係り、特に可動金型およ
びスタンパの耐久性の向上が効果的に図られ得て、良好
な品質の成形品を安定して製造することのできるディス
ク基盤成形型に関するものである。

（従来技術） 従来から、ビデオディスク、コンパクトディスクの如き
光ディスク等として用いられるディスク基盤の成形に際
しては、固定金型と、それに対して接近、離間可能に設
けられ且つ所定のスタンパがセットされた可動金型とを
含んで構成される成形型が利用されており、そしてそれ
ら金型にて形成される製品キャビティ内への所定の樹脂
材料の射出により、該スタンパ面の情報が転写されたデ
ィスク基盤が成形されるようになっている。

ところで、このようなディスク基盤成形型における製品
キャビティ内へのスタンパのセットは、通常、ドーナツ
形状を呈するスタンパの外周縁部および内周縁部分が、
それぞれスタンパ押えリングにて可動金型側に固定され
ることによって、行なわれるようになっている。

すなわち、例えば、第５図に示されているように、スタ
ンパ２の外周縁部が可動金型４に設けられた外周押えリ
ング６にて拘束されると共に、その内周縁部が、図示さ
れていない内周押えリングにて拘束されることによって
、スタンパ２の可動金型４に対するセットが為されるこ
ととなる。

また、かかるスタンパ２が載置、支持される可動金型４
の本体は、その支持面に鏡面加工が施されたミラーブロ
ック８にて構成されており、該スタンパ２の面が、成形
されるディスク盤の情報記録面として、高精度をもって
付与されるようになっているのである。

そして、このような構造とされた可動金型４に対して、
固定金型１０が型合わせされることにより、それらスタ
ンパ２と外周押えリング６および固定金型１０によって
製品キャビティ１２が画成されるのであり、そしてこの
製品キャビティ１２内に、所定の樹脂材料１４が射出せ
しめられることによって、その表面に所定の情報パター
ンが転写された、目的とするディスク基盤の成形が行な
われることとなる。

（問題点） しかしながら、このような従来のディスク基盤の成形型
にあっては、その製品キャビティ１２内への樹脂材料１
４の射出時において発生するモノマーガス等が、スタン
パ２と外周押えリング６との間の僅かな隙間から、可動
金型４のスタンパ２の外周縁部が位置する空間１６内に
入り込んで滞留し、或いはまたスタンパ２と内周押えリ
ングとの間の僅かな隙間から、可動金型４のスタンパ２
の内周縁部が位置する空間内に入り込んで滞留すること
となり、そしてその後、成形品離型時にスタンパ２が成
形品に引っ張られて、ミラーブロック８から僅かに離隔
せしめられる際、かかる滞留ガスが、それらスタンパ２
とミラーブロック８との間隙内に侵入するために、スタ
ンパ２裏面やミラーブロック８の鏡面に電解腐蝕が惹起
されるといった問題点を内在していたのである。

そして、スタンパ２は、その肉厚が０．２５〜０゜３鰭
程度の薄肉板であるために、このような腐蝕痕がスタン
パ２を介して成形品に転写されることとなり、それによ
ってディスク基盤の品質の低下が惹起されるのであり、
特に光デイスク基盤にあっては、その表面の僅かな歪み
が品質の低下に直接つながるところから、従来において
は、その成形に際して、スタンパ２およびミラーブロッ
ク８のクリーニング、更には交換、再加工などを、頻繁
に（例えば、２万〜３万シヨツト毎に）行なう必要があ
ったのである。

（解決手段） ここにおいて、本発明は、上述の如き事情を背景として
為されたものであって、射出成形時に発生ずるガス等に
よる可動金型およびスタンパの腐蝕が効果的に防止され
得て、良好な品質の成形品を安定して製造することので
きる、ディスク基盤成形型を提供することを、その目的
とするものである。

そして、かかる目的を達成するために、本発明の特徴と
するところは、前述の如き、固定金型と、所定のスタン
パがその外周縁部および内周縁部をそれぞれスタンパ押
えリングにて拘束されることによりセットされた可動金
型とを含むディスク基盤成形型において、該それぞれの
スタンパ押えリングにて押さえられた前記スタンパの外
周縁部及び／又は内周縁部に沿ってその全周に延びるガ
ス吸引空間を形成すると共に、該ガス吸引空間を外部の
所定の吸引手段に接続するための連通路を設けたことに
ある。

（作用・効果） 従って、このような本発明に従う構造とされたディスク
基盤成形型にあっては、スタンパの外周縁部或いは内周
縁部に沿って形成された、その全周に延びるガス吸引空
間を介して、射出成形時に発生するガス等が、所定の吸
引手段にて吸引され、外部に放出されることとなるので
あり、それ故それによって、そのような発生ガス等によ
るスタンパおよびミラーブロックにおける腐蝕の防止が
、極めて効果的に達成され得るのである。

そして、この本発明に係るディスク基盤成形型を用いる
ことによって、優れた品質のディスク基盤を、安定して
得ることが可能となるのであり、またスタンパおよびミ
ラーブロックの保守が容易となると共に、その耐久性が
向上されるところから、製造に際しての作業性および効
率が、効果的に高められ得ることとなるのである。

（実施例） 以下、本発明を、更に具体的に明らかにするために、本
発明の一実施例について、図面を参照しつつ、詳細に説
明することとする。

先ず、第１図には、本発明に従う構造とされたディスク
基盤成形型を備えた射出成形機の要部概略が一部切欠図
として示されている。そこにおいて、ディスク基盤用成
形型２０は、固定盤２２に取り付けられた固定金型・２
４と、可動盤２６に取り付けられた可動金型２８とを含
んだ構成とされている。また、この可動金型２８は、可
動盤２６の固定盤２２に対する接近、離間作動に応じて
固定金型２４に対して接近、離間せしめられるようにな
っており、図示されているように、可動盤２６の固定盤
２２側への移動によって固定金型２４に押し付けられる
ようになっている。そして、これによって、それら金型
２８．２４間に、目的とするディスク基盤の形状に応じ
た製品キャビティ３０が形成されるようになっている。

なお、第１図中、３２は、製品キャビティ３０内に所定
の射出材料を射出するための射出装置である。

より詳細には、上述の如く、互いに対向して配設された
可動金型２８と固定金型２４には、それぞれ、製品キャ
ビティ３０を挟んで対向する部位において、第２図に示
されているように、その対向面に鏡面加工が施された、
可動ミラーブロック３４および固定ミラーブロック３６
が配設されている。従って、それら可動ミラーブロック
３４、固定ミラーブロック３６が、それぞれ、可動側保
持部材３９および固定側保持部材４１にて保持されるこ
とによって、可動金型２８および固定金型２４が、構成
されているのである。

そして、かかる可動ミラーブロック３４の固定ミラーブ
ロック３６に対向する面上、即ち鏡面加工が施された鏡
面４４上には、ドーナツ形状のスタンパ３８が、その所
定の情報パターンの刻設されたスタンパ面４０が製品キ
ャビティ３０側に位置する状態でセットされている。即
ち、このスタンパ３８は、その内周縁部分を、図示され
ていない内側押えリングにて可動ミラーブロック３４に
対して拘束されると共に、外周縁部分を、可動ミラーブ
ロック３４の外周縁部に一体的に取り付けられた鉤型断
面の外周押えリング４２にて全周に亘って拘束されるこ
とによって、製品キャビティ３０内において、可動金型
２８にセットされているのである。

さらに、このようにスタンパ３８がセットされた可動ミ
ラーブロック３４の鏡面４４上には、第２図および第３
図に示されているように、かかるスタンパ３８の外周縁
部に沿って、ガス吸引空間としての周溝４６が、その全
周に亘って円環状に形成されている。また、この可動ミ
ラーブロック３４の側部外周面上には、凹溝５０が全周
に亘って設けられており、該凹溝５０の開口部が保持部
材３９によって覆蓋されることによって、可動金型２８
の外周面に沿った共通空気通路５４が、可動金型２８内
部に形成されている。なお、第２図中、４８は、共通空
気通路５４の気密性を保つために、共通空気通路５４の
両側部において、可動ミラーブロック３４と保持部材３
９との間に配されたＯ−リングである。

更にまた、これら周溝４６と共通空気通路５４とは、可
動ミラーブロック３４内に適数個形成された連通孔５６
によって、相互に連通せしめられていると共に、保持部
材３９には、共通空気通路５４を外部に連通せしめる貫
通孔５８が適数個貫設されている。そして、この貫通孔
５８に対して、吸引手段としての外部の所定のバキュウ
ム装置から延びる吸引バイブロ０が接続されることによ
って、可動ミラーブロック３４の鏡面４４に開口する周
溝４６が、連通孔５６、共通空気通路５４、貫通孔５８
および空気通路６０を介して、かかるバキュウム装置に
接続せしめられるようになっているのである。

一方、固定金型２４の固定ミラーブロック３６には、前
記可動ミラーブロック３４に取り付けられた外周押えリ
ング４２に対応する部分において、環状段部（逃げ部）
６１が形成されている。そして、この固定金型２４に対
して、可動金型２８を、接近移動せしめた際に、該固定
ミラーブロック３６の環状段部６１が、外周押えリング
４２の内周面に嵌まり込み、その鏡面６３が、可動ミラ
ーブロック３４上に配置されたスタンパ３８に対して、
所定距離を隔てて対向せしめられることによって、それ
ら固定ミラーブロック３６、外周押えリング４２および
スタンパ３８によって、所定の製品キャビティ３０が画
成されるようになっているのである。

ところで、このような構造とされた成形型２０を備えた
射出成形機を用いて、ディスク基盤を成形する場合にあ
っては、上述の如く、可動盤２６を固定盤２２に対して
接近移動せしめて、固定金型２４と可動金型２８とによ
って製品キャビティ３０を形成した後、そのキャビティ
３０内に所定の樹脂材料６２を射出せしめることによっ
て行なわれることとなるが、それに加えて、かかる樹脂
材料６２の射出操作に際して、前記空気通路６０に接続
されたバキューム装置が駆動せしめられて、可動ミラー
ブロック３４の鏡面に設けられた周溝４６を介してのガ
ス吸引作動が行なわれることとなる。

ここにおいて、製品キャビティ３０内への樹脂材料６２
の射出に際して発生する七ツマーガス等のガスは、樹脂
材料の射出に伴ってキャビティ３０内の径方向外方に移
動せしめられ、外周押えリング４２とスタンパ３８との
間の僅かな間隙６４を介して、スタンパ３８の外周縁部
において押えリング４２と可動ミラーブロック３４との
間に形成された環状空間６６内に入り込み、そこに滞留
することとなる。

そして、この環状空間６６内の滞留ガスは、成形品の離
型時において、スタンパ３８が成形品によって離型方向
に引っ張られることに伴い、該スタンパ３８と可動ミラ
ーブロック３４内に発生する間隙内に入り込むこととな
るが、本実施例における成形型２０にあっては、前述の
如く、可動ミラーブロック３４の鏡面４４上に開口する
周溝４６を介して、これらスタンパ３８と可動ミラーブ
ロック３４との間の空間が、バキュウム装置に接続され
ており、かかる空間内の空気に対して吸引作用が発揮せ
しめられるようになっているのであり、それによってか
かる空間内に入り込むガスが、掻めて速やかに吸引され
、外部に放出せしめられ得ることとなるのである。

従って、本実施例における成形型２０にあっては、射出
成形時に発生するガスによるスタンパ３８および可動ミ
ラーブロック３４の腐蝕が極めて有効に防止され得るの
であり、それ故そのような腐蝕痕が、スタンパ３８を介
して成形品に転写されることによる成形品の品質低下が
、効果的に防止され得ることとなる。そして、それによ
って、優れた品質のディスク基盤を、安定して製造する
ことが可能となるのであり、またスタンパ３８および可
動ミラーブロック３４の保守が容易となると共に、その
耐久性が向上されるところから、製造に際しての作業性
および効率が、効果的に高められ得るのである。

因みに、本実施例の装置を用いて、光デイスク基盤の成
形を行なった場合には、連続で５０万ショット以上の成
形を行なった後も、スタンパ３８および可動ミラーブロ
ック３４の鏡面４４における、製品に影響を与える程の
異常（腐蝕）は−切認められないことが、本発明者によ
って確認されており、このことから２万〜３万シヨツト
毎にクリーニングが必要とされていた従来の装置に比し
て、その効果が極めて大きいことが認められるのである
。また、それに伴い、スタンパ３８および可動ミラーブ
ロック３４における鏡面４４の耐用寿命も、従来の装置
に比して、１０倍近く向上され得ることが確認されてい
る。

また、本実施例における成形型２０にあっては、ガス吸
引空間としての周溝４６が、可動ミラーブロック３４の
鏡面４４上に開口され、その開口部がスタンパ３８にて
覆蓋されるようになっているところから、かかる周溝４
６を介してのガスの吸引作用によって、ディスク基盤の
成形時に、スタンパ３８が可動ミラーブロック３４の鏡
面４４上に吸着され、それら両部材が、その間にガス等
が介在することなく、より良好に密接され得ることとな
るのであり、それによって得られるディスク基盤の表面
成形精度が、−層間上せしめられるといった効果をも奏
し得るのである。

一方、第４図には、ガス吸引空間を、スタンパの内周縁
部に沿って設けた場合の一実施例が示されている。なお
、本実施例における射出成形機の構造は、前記実施例と
略同−であるために、その説明は省略することとし、ま
た図中、前記実施例と同様の部材については、同一の符
号を付することにより、その詳細な説明は省略すること
とする。

先ず、図中、７０は、可動ミラーブロック３４の中央部
に配設された略円筒形状の内周押えリングであって、そ
の製品キャビティに面する先端部の外周縁部において、
径方向外方に延びるフランジ状の係止突起７２が、全周
に亘って一体的に形成されている。

そして、この係止突起７２によって、スタンパ３８の内
周縁部が、可動ミラーブロック３４の鏡面４４との間に
おいて挟持され、拘束されるようになっている。なお、
図中、７４は成形品突き出し用のポンチである。

また、図示されている如く、内周押えリング７０と、可
動ミラーブロック３４との間には、可動ミラーブロック
３４の鏡面４４に開口するガス吸引空間としての筒状周
溝７６が形成されている。

更に、この筒状周溝７６は、可動ミラーブロック３４内
に貫設された適数個の連通孔７８を介して、前記実施例
の如く、所定の吸引手段に対して接続されている。なお
、図中、８４は、筒状周溝７６の気密性を保つために、
可動ミラーブロック３４と内周押えリング７０との間に
配されたＱ−リングである。

従って、このような構造とされた可動金型２８を用いる
ことによって、製品キャビティ内への樹脂材料の射出の
際に発生し、内周押えリング７０の係止突起７２とスタ
ンパ３８との間の間隙８０を経て、スタンパ３８内周縁
部が位置する空間８２内に入り込むガスは、筒状空間７
６および連通孔７８を介して、速やかに吸引され、外部
に放出されることとなるのであり、それ数発生ガスによ
るスタンパ３８、可動ミラーブロック３４に対する悪影
響が良好に防止され得ることとなるのであり、前述の如
き、本発明の種々なる効果が有効に発現せしめられ得る
のである。

なお、本実施例における筒状周溝７６の如き、スタンパ
３８の内周側部分に対するガス吸引機構は、前記実施例
に示されているスタンパ３８の外周部分に対するガス吸
引機構と共に設けるようにすることも可能であり、それ
によって射出操作時に発生するガスの吸引、放出が、よ
り有効に為され得ることとなるのである。

以上、本発明に従う構造とされた実施例について詳述し
てきたが、これらは文字通りの例示であって、本発明は
、かかる具体例にのみ限定して解釈されるものではない
。

例えば、前記第一の実施例にあっては、外部の吸引手段
としてのバキュウム装置に接続されるガス吸引空間が、
可動ミラーブロック３４の鏡面４４上に形成された周溝
４６によって構成されていたが、その形成部位は、かか
る実施例に限定されるものではな（、例えば外周部えリ
ング４２と可動ミラーブロック３４との間に画成された
環状空間６６を、ガス吸引空間として用いることも可能
である。

また、前記第一の実施例における可動金型２８にあって
は、可動ミラーブロック３４と保持部材３９との間に共
通空気通路５４が形成され、前記ガス吸引空間たる周溝
４６が該共通空気通路５４を介して、バキュウム装置に
接続されるようになっており、それによって可動ミラー
ブロック３４の保持部材３９に対する組付作業性の向上
が図られていたが、このような共通空気通路５４は必ず
しも必要なものではなく、更に、ガス吸引空間を外部に
連通せしめる連通路（５６，５８）を、可動金型２８内
をその移動方向に延びる形態において設けることも、ま
た外周押えリング４２内を貫通して設けること等も可能
である。

さらに、前記第二の実施例におけるガス吸引空間は、内
周押えリング７０と可動ミラーブロック３４との間に形
成された筒状周溝７６によって構成されていたが、その
他、例えば第一の実施例における周溝４６の如く、可動
ミラーブロック３４の鏡面４４上に形成することも可能
であり、それによって前述の如き、スタンパ３８に対す
る吸着効果をも発揮し得ることとなるのである。

その他、−々列挙はしないが、本発明は当業者の知識に
基づいて種々なる変更、修正、改良等を加えた態様にお
いて実施され得るものであり、また、そのような実施態
様が、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、何れも
本発明の範囲内に含まれるものであることは、言うまで
もないところである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に従う構造とされたディスク基盤成形型
を備えた射出成形機の要部を示す概略図であり、第２図
はかかる射出成形機における成形型の要部拡大断面図で
あり、第３図は第２図の要部拡大説明図である。第４図
は本発明に従う構造とされたディスク基盤用成形型の他
の実施例を示す要部拡大断面図である。また、第５図は
従来のディスク基盤用成形型を示す、第２図に対応する
断面図である。 ２０：ディスク基盤用成形型 ２４：固定金型　　　　２８：可動金型３０：製品キャ
ビティ　３２：射出装置３４：可動ミラーブロック ３６：固定ミラーブロック ３８ニスタンパ　　　　４０ニスタンパ面４２：外周押
えリング　４６：周溝 ５４：共通空気通路　　５６：連通孔 ５８：貫通孔　　　　　６０：空気通路６２：樹脂材料
　　　　７０：内周押えリング７６：ｉ＊状同周溝　　
　７８：連通孔出願人　　株式会社　名機製作所 第５図 手続主甫正書（自発） 昭和６２年８月２５日 特許庁長官　小　川　邦　夫　殿 ２、発明の名称 ディスク基盤成形型 ３、補正をする者 事件との関係　　　　特許出願人 名　称　　株式会社　多機製作所 ４、代理人 （１）図　面 ６、補正の内容 （１）図面第５図を別紙の通り訂正する。 第５図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）固定金型と、それに対して接近、離間可能に設け
   られ且つ所定のスタンパがその外周縁部及び内周縁部を
   それぞれ押さえるスタンパ押えリングにてセットされた
   可動金型とを含み、それら金型にて形成される製品キャ
   ビティ内への所定の樹脂材料の射出により、該スタンパ
   面の情報が転写されたディスク基盤を成形するようにし
   たディスク基盤成形型において、 該それぞれのスタンパ押えリングにて押さえられた前記
   スタンパの外周縁部及び／又は内周縁部に沿ってその全
   周に延びるガス吸引空間を形成すると共に、該ガス吸引
   空間を外部の所定の吸引手段に接続するための連通路を
   設けたことを特徴とするディスク基盤成形型。
2. （２）前記ガス吸引空間が、前記スタンパのセットされ
   る可動金型面に、該スタンパに対向して且つ該スタンパ
   の外周縁部及び／又は内周縁部に沿って設けられた周溝
   にて形成されると共に、前記連通路が該周溝を外部に連
   通させるように前記可動金型内に設けられている特許請
   求の範囲第１項記載のディスク基盤成形型。