JPS6382476A - 感光体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する感光体に
関する。

従来技術 カールソン法の発明以来、電子写真の応用分野は著しい
発展を続け、電子写真用感光体にも様々な材料が開発さ
れ実用化されてさ・た。

従来用いられて来た電子写真感光体材料の主なものとし
ては、非晶質セレン、セレン砒素、セレンテルル、硫化
カドミウム、酸化亜鉛、アモルファスシリコン等の無機
物質、ポリビニルカルバゾール、金属フタロシアニン、
ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔料、ペリレン顔料、トリフ
ェニルメタン化合物、トリフェニルアミン化合物、ヒド
ラゾン化合物、スチリル化合物、ピラゾリン化合物、オ
キサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、等の有機
物質が挙げられる。また、その構成形態としては、これ
らの物質を単体で用いる単層型構成、結着材中に分散さ
せて用いるバインダー型構成、機能別に電荷発生層と電
荷輸送層とを設ける積層型構成等が挙げられる。

しかしながら、従来用いられて来た電子写真感光体材料
にはそれぞれ欠点があった。その一つとして人体への有
害性が挙げられるが、前述したアモルファスシリコンを
除く無機物質においては、何れも好ましくない性質を持
つものであった。また、電子写真感光体が実際に複写機
内で用いられるためには、帯電、露光、現像、転写、除
電、清掃等の苛酷な環境条件に曝された場合においても
、常に安定な性能を維持している必要があるが、前述し
た有機物質においては、何れも耐久性に乏しく、性能面
での不安定要素が多かった。

このような欠点を解消すべく、近年、有害性を改善し耐
久性に富んだ材料として、グロー放電法により生成され
るアモルファスシリコンの電子写真感光体への応用が進
んで来ている。しかし、アモルファスシリコンは、原料
としてシランガスを多量に必要とする反面、高価なガス
であることから、出来上がった電子写真感光体も従来の
感光体に比べ大幅に高価なものとなる。また、成膜速度
が遅く、成膜時間の増大に伴い爆発性を有するシラン未
分解生成物を粉塵状に発生する等、生産ユ；の不都合も
多い。また、この粉塵が製造時に感光層中に混入した場
合には、画像品質に著しく悪影響を及ぼす。さらに、ア
モルファスシリコンは、元来、比誘電率が高いため帯電
性能が低く、複写機内で所定の表面電位に帯電するため
呻は膜厚を厚くする必要があり、高価なアモルファスシ
リコン膜を長時間堆積させなくてはならない。

ところでアモルファスカーボン膜自体は、プラズマ有機
重合膜として古くより知られており、例えばジエン（Ｍ
、５ｈｅｎ）及びベル（Ａ、Ｔ。

Ｂｅ　ｌ　ｌ）により、１９７３年発行ののジャーナル
・オブ・アプライド・ポリマー・サイエンス（Ｊｏｕｒ
ｎａｌ　　ｏｆ　　Ａｐｐ　１　ｉｅｄ　　Ｐ。

ｌｙｍｅｒ　　５ｃｉｅｎｃｅ）第１７巻の第８８５頁
乃至第８９２頁において、あらゆる有機化合物のガスか
ら作製きれ得る事が、また、同著者により、１９７９年
のアメリカンケミカルソサエテ−ｒ　　　（Ａｍｅｒｉ
ｃａｎ　　ＣｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ）発行によ
るプラズマポリマライせ−ション（Ｐｌａｓｍａ　　Ｐ
ｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）の中でもその成膜性が論
じられている。

しかしながら従来の方法で作製したプラズマ有機重合膜
は絶縁性を前提とした用途に限って用いられ、即ちそれ
らの腋は通常のポリエチレン膜の如＜１０１６Ωｃｍ程
度の比抵抗を有する絶縁膜と考えられ、或は、少なくと
もそのような膜であるとの認識のもとに用いられていた
。実際に電子写真感光体への用途にしても同様の認識か
ら、保護層、接着層、ブロッキング層もしくは絶縁層に
限られており、所謂アンダーコート層もしくはオーバー
コート層としてしか用いられていなかった。

例えば、特開昭５９−２８１６１号公報には、基板上に
ブロッキング層及び接着層としてプラズマ重合された網
目構造を有する高分子層を設け、その上にアモルファス
シリコン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５
９−３８７５３号公報には、基板上にブロッキング層及
び接着層として酸素と窒素と炭化水素の混合ガスから生
成される１０！３〜１０１５ΩＣｍの高抵抗のプラズマ
重合膜を１ｏ人〜１００人設けた上にアモルファスシリ
コン層を設けた感光体が開示されている。特開昭５９−
１３６７４．２号公報には、アルミ基板上に設けたアモ
ルファスシリコン層内へ光照射時にアルミ原子が拡散す
るのを防止するための保護層として１〜５μｍ程度の炭
素膜を基板表面に形成せしめた感光体が開示きれている
。特開昭６０−６３５４１号公報には、アルミ基板とそ
の上に設けたアモルファスシリコン層との接着性を改善
するために、接着層として２００人〜２μｍのダイヤモ
ンド状炭素膜を中間に設けた感光体が開示きれ、残留電
荷の面から膜厚は２μｍ以下が好ましいときれている。

これらの開示は、何れも基板とアモルファスシリコン層
との間に、所謂アンダーコート層を設けた発明であり、
電荷輸送性についての開示は全くなく、また、ａ−３ｉ
の有する前記した本質的問題を解決するものではない。

また、例えば、特開昭５０−２０７２８号公報には、ポ
リビニルカルバゾール−セレン系感光体の表面に保護層
としてグロー放電重合によるポリマー膜を０．１〜１μ
ｍ設けた感光体が開示されている。特開昭５９−２１４
８５９号公報には、アモルファスシリコン感光体の表面
に保護層としてスチレンやアセチレン等の有機炭化水素
モノマーをプラズマ重合させて５μｍ程度の膜を形成さ
せる技術が開示されている。特開昭６０−６１７６１号
公報には、表面保護層として、５００人〜２μｍのダイ
ヤモンド状炭素薄膜を設けた感光体が開示され、透光性
の面から膜厚は２１１ｍ以下が好ましいとされてている
。特開昭６０−２４９１１５号公報には、０．０５〜５
μｍ程度の無定形炭素または硬質炭素膜を表面保護層と
して用いる技術が開示され、膜厚が５μｍを越えると感
光体活性に悪影響が及ぶときれている。

これらの開示は、何れも感光体表面に所謂オーバーコー
ト層を設けた発明であり、電荷輸送性についての開示は
全くなく、また、ａ−Ｓｉの有する前記した本質的問題
を解決するものではない。

また、特開昭５１−４６１３０号公報には、ポリビニル
カルバゾール系電子写真感光体の表面にグロー放電重合
を行なって０．００１〜３μｍのポリマー膜を形成せし
めた電子写真感光板が開示されているが、電荷輸送性に
ついては全く言及されていないし、ａ−Ｓｉの持つ前記
した本質的問題を解決するものではない。

一方、アモルファスシリコン膜については、スピア（Ｗ
、Ｅ、５ｐｅａｒ）及びレコンバ（Ｐ。

Ｇ、ＬｅＣｏｍｂｅｒ）により１９７６年発行のフィロ
ソフィカル・マガジン（Ｐｈｉｌｏｓｏｐｈｉｃａｌ　
　Ｍａｇａｚｉｎｅ）第３３巻の第９３５頁乃至第９４
９頁において、極性制罪が可能な材料である事が報じら
れて瓜来、種々の光電デー〒 バイスへの応用が試みられて来た。感光体への応用に関
しては、例えば、特開昭５６−６２２５４号公報、特開
昭５７−１１９３５６号公報、特開昭５７−１７７１４
７号公報、特開昭５７−１１９３５７号公報、特開昭５
７−１７７１４９号公報、特開昭５７−１１９３５７号
公報、特開昭５７−１７７１４６号公報、特開昭５７−
１７７１４８号公報、特開昭５７−１７４４４８号公報
、特開昭５７−１７４４．４９号公報、特開昭５７−１
７４４５０号公報、等に、炭素原子を含有したアモルフ
ァスシリコン感光体が開示されているが、何れもアモル
ファスシリコンの光導電性を炭素原子により調整する事
を目的としたものであり、また、アモルファスシリコン
自体厚い膜を必要としている。

が　°′しようとする間哉 以上のように、従来、電子写真感光体に用いられている
プラズマ有機重合膜は所謂アンダーコート層もしくはオ
ーバーコート層として使用されていたが、それらはキャ
リアの輸送機能を必要としない膜であって、有機重合膜
が絶縁性で有るとの判断にたって用いられている。従っ
てその膜厚し高々５μｍ程度の極めて薄い膜としてしか
用いられず、キャリアはトンネル効果で膜中を通過する
か、トンネル効果が期待できない場合には、残留電位の
発生に関して事実上問題にならずに済む程度の薄い膜で
しか用いられていない。また、従来、電子写真に用いら
れているアモルファスシリコン膜は所謂厚膜で使用きれ
ており、価格或は生産性等に、不都合な点が多い。

本発明者らは、アモルファスカーボン膜の電子写真感光
体への応用を検討しているうちに、本来絶縁性であると
考えられていた水素化アモルファスカーボン膜が燐原子
及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有せしめる事に
より、燐原子及び硼素原子のうち少な（とも一方を含有
すると共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化ア
モルファスシリコンゲルマニウムＨ簗との積層において
は電荷輸送性を有し、容易に好適な電子写真特性を示し
始める事を見出した。その理論的解釈には本発明者にお
いても不明確な点が多く詳細に亙り言及はできないが、
燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有せしめ
た水素化アモルファスカーボン膜中に捕捉きれている比
較的不安定なエネルギー状態の電子、例えばπ電子、不
対電子、残存フリーラジカル等が形成するバンド構造が
、燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有する
と共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモル
ファスシリコンゲルマニウム膜が形成するバンド構造と
電導帯もしくは荷電子帯において近似したエネルギー準
位を有するため、燐原子及び硼素原子のうち少なくとも
一方を含有すると共に窒素原子を含有してなる水素化或
は弗素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜中で発生
したキャリアが容易に燐原子及び硼素原子のうち少なく
とも一方を含有せしめた水素化アモルファスカーボン膜
中へ注入され、ざらに、このキャリアは前述の比較的不
安定なエネルギー状態の電子の作用により燐原子及び硼
素原子のうち少なくとも一方を含有せしめた水素化アモ
ルファスカーボン膜中を好適に走行し得るためと推定さ
れる。

本発明はその新たな知見を利用することにより、アモル
ファスシリコン感光体の持つ前述の如き本質的問題点を
全て解消し、また従来とは全く使用目的も特性も異なる
、有機プラズマ重合膜、特に燐原子及び硼素原子のうち
少なくとも一方を含有してなる水素化アモルファスカー
ボン膜を電荷輸送層として使用し、かつ、燐原子及び硼
素原子のうち少なくとも一方を含有すると共に窒素原子
を含有してなる水素化或は弗素化アモルファスシリコン
ゲルマニウムの薄膜を電荷発生層として使用した感光体
を提供する事を目的とする。

同屈涜１３Ｗ妨雇υンへｑモ戊 即ち、本発明は、電荷発生層と電荷輸送層とを有する機
能分離型感光体において、該電荷輸送層がプラズマ重合
反応から生成される燐原子及び硼素原子のうち少なくと
も一方を含有してなる水素化アモルファスカーボン欣で
あり、かつ、該電荷発生層が燐原子及び硼素原子のうプ
う少なくとも一方を含有すると共に窒素原子を含有して
なる水素化或は弗素化アモルファスシリコンゲルマニ「
クム膜であることを特徴とする感光体に関する（以下、
本発明による電荷輸送層をａ−Ｃ膜及び電荷発生層をａ
−Ｓｉ膜と称する）。　本発明は、従来のアモルファス
シリコン感光体においては、電荷発生層として優れた機
能を有するアモルファスシリコンを、電荷発生能が無（
でも電荷輸送能ざえあれば済む電荷輸送層としても併用
していたため発生していたこれらの問題点を解決すべく
成されたものである。

即ち、本発明は、電荷輸送層としてグロー放電により生
成される燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含
有してなる水素化アモルファスカーボン膜を設け、かつ
、電荷発生層として同じくグロー放電により生成される
燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有すると
共に窒素原子を含有してなる水素化或は弗素化アモルフ
ァスシリコンゲルマニウム膜を設けた事を特徴とする機
能分離型感光体に関する。該電荷輸送層は、可視光もし
くは半導体レーザー光付近の波長の光に対しては明確な
る光導電性は有さないが、好適な輸送性を有し、さらに
、帯電能、耐久性、耐候性、耐環境汚染性等の電子写真
感光体性能に優れ、しかも透光性にも優れるため、機能
分離型感光体としての積層構造を形成する場合において
も極めて高い自由度が得られるものである。また、該電
荷発生層は、可視光もしくは半導体レーザー光付近の波
長の光に対して優れた光導電性を有し、しかも従来のア
モルファスシリコン感光体に比べて極めて薄い膜厚で、
その機能を活かす事ができるものである。

本発明においては、ａ　−Ｃ膜を形成するために有機化
合物ガス、特に炭化水素ガスが用いられる。

該炭化水慕における相状態は常温常圧において必ずしも
気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、蒸
発、昇華等を経て気化しうるものであれば、液相でも固
相でも使用可能である。

使用可能な炭化水素には種類が多いが、飽和炭化水素と
しては、例えば、メタン、エタン、プロパン、ブタン、
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、テ
°カン、ウンテ゛カン、ドデカン、トリデカン、テトラ
デカン、ペンタデカン、ヘキサコサン、ヘプタデカン、
オクタコサン、ノナデカン、エイコサン、ヘンエイコサ
ン、トコサン、トリコサン、テトラコサン、ペンタコサ
ン、ヘキサコサン、ヘプタコサン、オクタコサン、ノナ
コサン、トリアコンタン、トドリアコンタン、ペンタト
リアコンタン、等のノルマルパラフィン並びに、イソブ
タン、イソペンタン、ネオペンタン、イソヘキサン、ネ
オヘキサン、２，３−ジメチルブタン、２−メチルヘキ
サン、３−エチルペンタン、２．２−ジメチルペンタン
、２．４−ジメチルペンタン、３，３−ジメチルベンク
ン、トリブタン、２−メチルへブタン、３−メチルへブ
タン、２．２−ジメチルヘキサン、２．２．５−ジメチ
ルヘキサン、２，２．３−トリメデルペンタン、２．２
．４−トリメチルペンタン、２，３゜３−トリメチルペ
ンタン、２．’３．４−トリメチルペンタン、イソナノ
ン、等のイソパラフィン、等が用いられる。不飽和炭化
水素としては、例えば、エチレン、プロピレン、イソブ
チレン、１−ブテン、２−ブテン、１−ペンテン、２−
ペンテン、２−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−
ブテン、２−メチル−２−ブテン、■−ヘキセン、テト
ラメチルエチレン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−
ノネン、１−デセン、等のオレフィン、並びに、アレン
、メチルアレン、ブタジェン、ペンタジェン、ヘキサジ
エン、シクロペンタジェン、等のジオレフィン、並びに
、オシメン、アロオシメン、ミルセン、ヘキサトリエン
、等のトリオレフイン、並びに、アセチレン、ブタジイ
ン、１゜３−ペンタジイン、２．４−へキサジイン、メ
チルアセチレン、１−ブチン、２−ブチン、１−ペンチ
ン、１−ヘキシン、１−ヘプチン、１−オクチン、１−
ノニン、１−デシン、等が用いられる。

脂環式炭化水素としては、例えば、シクロプロパン、シ
クロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロ
へブタン、シクロオクタン、シクロノナン、シクロデカ
ン、シクロウンデカン、シクロドデカン、シクロトリデ
カン、シクロテトラデカン、シクロペンタデカン、シク
ロヘキサデカン、等のシクロパラフィン並びに、シクロ
プロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキ
セン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネン
、シクロデセン、等のシクロオレフィン並びに、リモネ
ン、テルピノレン、フエランドレン、シルベストレン、
ツエン、カレン、ピネン、ボルニレン、カンフエン、フ
エンチェン、シクロウンデカン、トリシクレン、ビサボ
レン、ジンギベレン、クルクメン、フムレン、カジネン
セスキベニヘン、セリネン、カリオフィレン、サンタレ
ン、セドレン、カンホレン、フィロクラテン、ボドカル
ブレン、ミレン、等のテルペン並びに、ステロイド等が
用いられる。芳香族炭化水素としては、例えば、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン、ヘミメリテン、プソイドクメ
ン、メシチレン、プレニテン、イソジュレン、ジュレン
、ペンタメチルベンゼン、ヘキサメチルベンゼン、エチ
ルベンゼン、プロピルベンゼン、クメン、スチレン、ピ
フェニル、テルフェニル、ジフェニルメタン、トリフェ
ニルメタン、ジベンジル、スチルベン、インデン、ナフ
タリン、テトラリン、アントラセン、フェナントレン、
等が用いられる。

ざらに、炭化水素以外でも、例えば、アルコール類、ケ
トン類、エーテル類、エステル類、等炭素と成りうる化
合物であれば使用可能である。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含まれる水素原子の量は
グロー放電を用いるというその製造面から必然的に定ま
るが、炭素原子と水素原子の総量に対して、概ね３０乃
至６ｏ原子％含有される。ここで、炭素原子並びに水素
原子の膜中含有量は、有機元素分析の常法、例えばＣＮ
Ｈ分析を用いる事により知る事ができる。

本発明におけるａ　−Ｃ膜中に含チれる水素原子の量は
、成膜装置の形態並びに成膜時の条件により変化するが
、例えば、基板温度を高くする、圧力を低くする、原料
炭化水素ガスの希釈率を低くする、印加電力を高くする
、交番電界の周波数を低くする、交番電界に重畳せしめ
た直流電界強度を高くする、等の手段、或は、これらの
組合せ操作は、含有水素量を低くする効果を有する。

本発明における電荷輸送層としてのａ　−Ｃ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、５乃至５
０μｍ、特に７乃至２０μｍが適当であり、５μｍより
薄いと、帯電電位が低いため充分な複写画像濃度を得る
事ができない。また、５０μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。

このａ−Ｃ膜は、高透光性、高暗抵抗を有するとともに
電荷輸送性に富み、膜厚を上記の様に５μｍ以上として
もキャリアはトラップされる事無く輸送きれ明減衰に寄
与する事が可能である。

本発明における原料気体からａ　−Ｃ膜を形成する過程
としては、原料気体が、直流、低周波、高周波、或はマ
イクロ波等を用いたプラズマ法により生成されるプラズ
マ状態を経て形成される方法が最も好ましいが、その他
にも、イオン化蒸着法、或はイオンビーム蒸着法等によ
り生成されるイオン状態を経て形成されてもよいし、真
空蒸着法、或はスパッタリング法等により生成される中
性粒子から形成されてもよいし、さらには、これらの組
み合わせにより形成されてもよい。

本発明においては炭化水素の他に、ａ　−Ｃ膜中に少な
くとも硼素原子或は燐原子を添加するための原料として
、硼素化合物或は燐化合物が用いられる。該硼素化合物
或は燐化合物における相状態は常温常圧において必ずし
も気相である必要はなく、加熱或は減圧等により溶融、
蒸発、昇華等を経て気化しうるものであぢば、液相でも
固相でも使用可能である。硼素化合物或は燐化合物とし
ては、例えば、ジボラン、ホスフィン等が用いられ本発
明において化学的＾を飾物質として含有される硼素原子
或は燐原子の量は、全構成原子に対して２００００原子
ｐｐｍ％以下である。ここで、硼素原子或は燐原子の膜
中含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或は
ＩＭＡ分析により知る事が可能である。硼素原子或は燐
原子を含まない場合には、好適な輸送性が確保されず、
ざらに、成膜後の経時劣化を招きやすくなる。一方、硼
素原子或は燐原子の量が２００００原子ｐｐｍを越える
場合には、少量の添加では好適な輸送性を保証していた
硼素原子或は燐原子が、逆に膜の低抵抗化を招く作用を
示し、帯電能が低下してしまう。従って、本発明におけ
る硼素原子或は燐原子の添加量範囲は重要である。

本発明において化学的修飾物質として含有される硼素原
子或は燐原子原子の量は、主に、プラズマ反応を行なう
反応室への前述の硼素化合物或は燐化合物の導入量を増
減することにより制御することが可能である。硼素化合
物或は燐化合物の導入量を増大させれば、本発明による
ａ　−Ｃ膜中への硼素原子或は燐原子の添加量を高くす
ることが可能であり、逆に硼素化合物或は燐化合物の導
入量を減少させれば、本発明によるａ−Ｃ膜中への硼素
原子或は燐原子の添加量を低くすることが可能である。

本発明においては、ａ−３ｉ膜を形成するためにシラン
ガス、ジシランガス、或は、弗化シランガスが用いられ
る。また、化学的修飾物質として燐原子或は硼素原子を
膜中に含有せしめるための原料ガスとして、ホスフィン
ガス或はジボランガス等が用いられる。ざらに、化学的
修飾物質として窒素原子を膜中に含有せしめるための原
料ガスとして、窒素ガス、アンモニアガス、亜酸化窒素
ガス、或は、二酸化窒素ガス、等の窒素化合物ガスが用
いられる。また、ゲルマニウム原子を含有きせるために
、ゲルマンガスが用いられる。

本発明におけるａｓｉＭ中に含有されるゲルマニウム原
子の含有量は、シリコン原子とゲルマニウム原子との総
和に対して、３０原子％以下が好ましい。ここで、ゲル
マニウム原子及びシリコン原子の含有率は、元素分析の
常法、例えばオージェ分析により知る事ができる。ゲル
マニウム原子の含有量は、膜形成時に流入するゲルマン
ガスの流量を増加する事により高くなる。ゲルマニウム
原子の含有量が高くなるにつれ本発明感光体の長波長感
度は向上し、短波長領域から長波長領域にまで幅広く露
光源が選択され得るようになり好ましいが、ゲルマニウ
ム原子が３０原子％より多く含有されると帯電能の低下
を招くため、過剰の添加は好ましくない。従って、本発
明におけるａ−５ｉ膜中に含有されるゲルマニウム原子
の含有量は重要である。

本発明において化学的修飾物質として含有される燐原子
或は硼素原子の量は、全構成原子に対して２００００原
子ｐｐｍ以下である。ここで燐原子或は硼素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばオージェ分析或はＩ
ＭＡ分析により知る事ができる。燐原子或は硼素原子の
膜中含有量が２００００原子ｐｐｍより高い場合には、
少量の添加では好適な輸送性、或は、極性制唾効果を保
証していた燐原子或は硼素原子が、逆に膜の低抵抗化を
招く作用を示し、帯電能の低下を来たす。従って、本発
明における燐原子或は硼素原子添加量の範囲は重要であ
る。

本発明において化学的修飾物質として含有される窒素原
子の量は、全構成原子に対して０，００１乃至３原子％
である。ここで窒素原子の膜中含有量は、元素分析の常
法、例えばオージェ分析或はＩＭＡ分析により知る事が
できる。窒素原子の膜中含有量が０．００１原子％より
低い場合には、ａ−３ｉＰＪの電気抵抗値が低くなる事
がらａ−５ｉ膜にコロナ帯電等による電界がかかりにく
くなり、光励起キャリアが必ずしも効率よ＜ａ−Ｃ膜中
に注入されなくなり感度の低下を招く。また、帯電能も
低下する。窒素原子の膜中含有量が３原子％まり高い場
合には、微量の添加においては好適な帯電能を保証して
いた窒素原子が、過剰の添加ではａ−Ｓｉ膜を高抵抗化
し電荷の易動度を低下ならしめることから感度の低下を
招く。従って、本発明における窒素原子添加量の範囲は
重要である。

本発明におけるａ−Ｓｉ膜中に含まれる水素原子或は弗
素原子の量はグロー放電を用いるというその製造面から
必然的に定まるが、シリコン原子と水素原子或はシリコ
ン原子と弗素原子の総量に対して、概ね１０乃至３５原
子％含有される。ここで、水素原子或は弗素原子の膜中
含有量は、元素分析の常法、例えばＯＮＨ分析、オージ
ェ分析等を用いる事により知る事ができる。

本発明における電荷発生層としてのａ−３ｉ膜の膜厚は
、通常の電子写真プロセスで用いるためには、０．１乃
至５μｍが適当であり、０．１μｍより薄いと、光吸収
が不十分となり充分な電荷発生が行なわれなくなり、感
度の低下を招く。また、５μｍより厚いと、生産性の面
で好ましくない。このａ−Ｓｉ膜は電荷発生能に富み、
ざらに、本発明の最も特徴とするところのａ−ＣＭとの
積層構成において効率よ＜ａ−Ｃ膜中に発生キャリアを
注入せしめ、好適なＦＩＡ減衰に寄与する事が可能であ
る。

本発明における原料気体からａ−Ｓｉ膜を形成する過程
は、ａ　　ＣＭ７ｃを形成する場合と同様にして行なわ
れる。

本発明において化学的修飾物質として含有きれる窒素原
子、燐原子、或は、Ｗ素原子の量は、主に、プラズマ反
応を行なう反応室への前述の窒素化合物ガス、ホスフィ
ンガス、或は、ジボランガスの導入量を増減することに
より制御することが可能である。窒素化合物ガス、ホス
フィンガス、或は、ジボランガスの導入量を増大させれ
ば、本発明によるａ−Ｓｉ膜中への窒素原子、燐原子、
或は、硼素原子の添加量を高くすることが可能であり、
逆に窒素化合物ガス、ホスフィンガス、或は、ジボラン
ガスの導入量を減少きせれば、本発明によるａ−３ｉ膜
中への窒素原子、燐原子、或は、硼素原子の添加量を低
くすることが可能である。

本発明における感光体は、電荷発生層と電荷輸送層から
成る機能分＃型の構成とするのが最適で、該電荷発生層
と該電荷輸送層の積層構成は、必要に応じて適宜選択す
ることが可能である。

第１図は、その一形態として、導電性基板（１）上に電
荷輸送層（２）と電荷発生Ｆ！ｔ　（３）を順次積層し
てなる構成を示したものである。第２図は、別の一形態
として、導電性基板（１）上に電荷発生層（３）と電荷
輸送層（２）を順次積層してなる構成を示したものであ
る。第３図は、別の一形態として、導電性基板（１）上
に、電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と電荷輸送層
（２）を順次積層してなる構成を示したものである。

感光体表面を、例えばコロナ帯電型等により正帯電した
後、画像露光して使用する場合においては、第１図では
電荷発生／！！　（３）で発生した正孔が電荷輸送層（
２）中を導電性基板（１）に向は走行し、第２図では電
荷発生層（３）で発生した電子が電荷輸送層（２）中を
感光体表面に向は走行し、第３図では電荷発生層（３）
で発生した正孔が導電性基板側の電荷輸送層（２）中を
導電性基板（１）に向は走行すると共に、同時に電荷発
止層（３）で発生した電子が表面側の電荷輸送層（２）
中を感光体表面に向は走行し、好適な明減衰に保証され
た静電潜像の形成が行なわれる。反対に感光体表面を負
帯電した後、画像露光して使用する場合においては、電
子と正孔の挙動を入れ代えて、キャリアーの走行性を解
すればよい。第２図及び第３図では、画像露光用の照射
光が電荷輸送層中を通過する事になるが、本発明による
電荷輸送層は透光性に優れることから、好適な潜像形成
を行なうことが可能である。

第４図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）と表面保護層（
４）を順次積層してなる構成を示したものである。即ち
第１図の形態に表面保護層を設けた形態に相当するが、
第１図の形態では、最表面が耐湿性に乏しいａ−Ｓｉ膜
で有ることから、多くの場合実用上の対湿度安定性を確
保するために表面保護層を設けることが好ましい。第２
図及び第３図の構成の場合、最表面が耐久性に優れたａ
−Ｃ膜であるため表面保護層を設けなくてもよいが、例
えば現像剤の付着による感光体表面の汚れを防止するよ
うな、複写機内の各棚エレメントに対する整合性を調整
する目的から、表面保護層を設けることもさらなる一形
態と成りうる。

第５図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷発生層（３）と電荷輸送層（２）
を順次積層してなる構成を示したものである。即ち第２
図の形態に中間層を設けた形態に相当するが、第２図の
形態では、導電性基板との接合面がａ−３ｉＮｆｆであ
る事から、多くの場合接着性及び注入阻止効果を確保す
るために中間層を設ける事が好ましい。第１図及び第３
図の構成の場合、導電性基板との接合面が、接着性及び
注入阻止効果に擾れた、本発明による電荷輸送層である
ため、中間層を設けなくてもよいが、例えば導電性基板
の前処理方法のような、感光層形成以前の製造工程との
整合性を調整する目的から、中間層を設けることもさら
なる一形態と成りうる。

第６図は、ざらなる一形態として、導電性基板（１）上
に中間層（５）と電荷輸送層（２）と電荷発生層（３）
と表面保護Ｎ（４）を順次積層してなる構成を示したも
のである。即ち第１図の形態に中間層と表面保護層を設
けた形態に相当する。

中間層と表面保護層の設置理由は前述と同様であり、従
って第２図及び第３図の構成において中間層と表面保護
層を設けることもざらなる一形態と成りうる。

本発明において中間層と表面保護層は、材料的にも、製
法的にも、特に限定を受けるものではなく所定の目的が
達せられるものであれば、適宜選択することが可能であ
る。本発明によるａ−Ｃ膜を用いてもよい。但し、用い
る材料が、例えば従来例で述べた如ぎ絶縁性材料である
場合には、残留電位発生の防止のため膜厚は５μｍ以下
に留める必要がある。

本発明による感光体の電荷輸送層は、気相状態の分子を
減圧下で放電分解し、発生したプラズマ雰囲気中に含ま
れる活性中性種あるいは荷電様を基板上に拡散、電気力
、あるいは磁気力等により誘導し、基板上での再結合反
応により固相として堆積きせる、所謂プラズマ重合反応
から生成される事が好ましい。

第７図は本発明に係わる感光体の製造装置を示し、図中
（７０１）〜（７０６）は常温において気相状態にある
原料化合物及びキャリアガスを！封した第１乃至第６タ
ンクで、各々のタンクは第１乃至第６調節弁（７０７）
〜（７１２）と第１乃至第６流量制御器（７１３）〜（
７１”８）に接続きれている。図中（７１９）〜（７２
１）は常温において液相または同相状態にある原料化合
物を封入した第１乃至第３容器で、各々の容器は気化の
ため第１乃至第３温調器（７２２）〜（７２４）により
与熱可能であり、ざらに各々の容器は第７乃至第９調節
弁（７，２５）〜（７２７）と第７乃至第９流量制瀕器
（７２８）〜（７３０）に接続されている。これらのガ
スは混合器（７３１）で混合きれた後、主管（７３２）
を介して反応室（７３３）に送り込まれる。途中の配管
は、常温において液相または固相状態にあった原料化合
物が気化したガスが、途中で凝結しないように、適宜装
置された配管加熱器（７３４）により、与熱可能ときれ
ている。反応室内には接地電極（７３５）と電力印加電
極（７３６）が対向して設置され、各々の電極は電極加
熱器（７３７）により与熱可能とされている。電力印加
電極（７３６）には、高周波電力用整合器（７３８）を
介して高周波電源（７３９）、低周波電力用整合器（７
４０）を介して低周波Ｎ源（７４１）、ローパスフィル
タ（７４２）を介して直流電源（７４３）が接続されて
おり、接続選択スイッチ（７４’４）により周波数の異
なる電力が印加可能とされている。反応室（７３３）内
の圧力は圧力制御弁（７４５）により調整可能であり、
反応室（７３３）内の減圧は、′排気系選択弁（７４６
）を介して、拡散ポンプ（７４７）　、油回転ポンプ（
７４８）、或は、冷却除外装置（７４９）　、メカニカ
ルブースターポンプ（７５０）　、油回転ポンプ（７４
８）により行なわれる。排ガスについては、さらに適当
な除外装置（７５３）により安全無害化した後、大気中
に排気きれる。これら排気系配管についても、常温にお
いて液相または固相状態にあった原料化合物が気化した
ガスが、途中で凝結しないように、適宜配置された配管
加熱器（７３４）により、与熱可能ときれている。反応
室（７３３）も同様の理由から反応室加熱器（７５１）
により与熱可能とされ、内部に配された電極上に導電性
基板（７５２）が設置される。第７図において導電性基
板（７５２）は接地電極（７３５）に固定して配されて
いるが、電力印加電極（７３６）に固定して配されても
よく、ざらに双方に配されてもよい。

第８図は本発明に係わる感光体の製造装置の別の一形態
を示し、反応室（８３３）内部の形態以外は、第７図に
示した本発明に係わる感光体の製造装置と同様であり、
付記された番号は、７００番台のものを８００番台に置
き換えて解すればよい。第８図において、反応室（８３
３）内部には、第７図における接地電極（７’３５）を
兼ねた円筒形の導電性基板（８５２）が設置され、内側
にはＭ極論熱器（８３７）が配されている。導電性基板
（８５２）周囲には同じく円筒形状をした電力印加電極
（８３６）が配され、外側には電極加熱器（８３７）が
配されている。導電性基板（８５２）は、外部より駆動
モータ（８５４）を用いて自転可能となっている。

感光体製造に供する反応室は、拡散ポンプにより予め１
０−４乃至１（１６Ｔｏｒｒ程度にまで減圧し、真空度
の確認と装置内部に吸着したガスの脱着を行なう。同時
に電極加熱器により、電極並びに電極に固定して配され
た導電性基板を所定の温度まで昇温する。導電性基板に
は、前述の如き感光体構成の中から所望の構成を得るた
めに、必要であれば、予めアンダーコート層或は電荷発
生層を設けて置いてもよい。アンダーコート層或は電荷
発生層の設置には、本装置を用いてもよいし別装置を用
いてもよい。次いで、第１乃至第６タンク及び第１乃至
第３容器から、原料ガスを適宜第１乃至第９流量制御器
を用いて定流量化しながら反応室内に導入し、圧力調節
弁により反応室内を一定の減圧状態に保つ。ガス流量が
安定化した後、接続選択スイッチにより、例えば高周波
電源を選択し、電力印加電極に高周波電力を投入する。

両を極間には放電が開始され、時間と共に基板上に固相
の膜が形成される。ａ−３ｉ膜或はａ　−Ｃ膜は、原料
ガスを代える事により任意に形成可能である。放電を一
旦停止し、原料ガス組成を変更した後、再び放電を再開
すれば異なる組成の膜を積層する事ができる。また、放
電を持続きせながら原料ガス流量だけを徐々に代え、異
なる組成の膜を勾配を持たせながら積層する事も可能で
ある。

反応時間により膜厚を制御し、所定の膜厚並びに積層構
成に達したところで放電を停止し、本発明による感光体
を得る。次いで、第１乃至第９調節弁を閉じ、反応室内
を充分に排気する。ここで所望の感光体構成が得られる
場合には反応室内の真空を破り、反応室より本発明によ
る感光体を取り出す。更に所望の感光体構成において、
電荷発生層或はオーバーコート層が必要とされる場合に
は、そのまま本装置を用いるか、或は同様に一旦真空を
破り取り出して別装置に移してこれらの層を設け、本発
明による感光体を得る。

以下実施例を挙げながら、本発明を説明する。

大施泗上 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１Ｏ−ＧＴｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１ＦＡ節弁（７０７）、及び第４調節弁（
７１０）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガス
、及び第４タンク（７０４）より水素ガスで０．１６％
に希釈したジボランガスを各々出力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ
２の下で第１、及び第４流量制御器（７１３、及び７１
６）内へ流入させた。同時に、第１容器（７１９）より
スチレンガスを第１温調器（７２２）温度３５℃のもと
第７流量制纒器（７２８）内へ流入させた。

各流量制御器を用いて、水素ガスの流量を４０ｓｅｃｍ
、水素ガスでＱ、１６％に希釈したジボランガスの流量
を１０１０５ｅ、及びスチレンガスの流量を４０ｓｅｃ
ｍとなるように設定して、途中混合器（７３１）を介し
て、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した
。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧
力が２゜○Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）
を調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、［
５０Ｘ横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、
予め２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定
した状態で、予め接続遷択スイッチ（７４４）により接
続しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加
電極（７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数３０Ｋ
Ｈｚの下で印加して約１時間３０分プラズマ重合反応を
行ない、導電性基板（７５２）上に厚き１５μｍのａ−
Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力
印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充
分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４７原子％であった。また
、ＩＭＡ分析より含有される硼素原子の量は全構成原子
に対して９８原子ｐｐｍであった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第３調節弁（７０９）、第５調
節弁（７１１）、及び第６調節弁（７１２）を解放し、
第１タンク（７０１）から水素ガス、第２タンク（７０
２）からゲルマンガス、第３タンク（７０３）から四弗
化シランガス、第５タンク（７０５）から窒素ガス、及
び第６タンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫ
ｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、第３、第５、及び第６流
量制御器（７１３，７１４，７１５，７１７、及び７１
８）内へ流入きせた。同時に、第４調節弁（７１０）を
解放し、第４タンク（７０４）よや水素ガスで１１００
ｐｐに希釈されたジボランガスを、出力圧１．５Ｋｇ／
ａｍ２の下で第４流量制御器（７１６）内へ、流入させ
た。各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２
００５ＣＣｍｓゲルマンガスの流量を６ｓｅｃｍ、四弗
化シランガスの流量を５０ｓｅｃｍｓ窒素ガスの流量を
ｌｓｃｃｍ、シランガスの流量を５０ｓｅｃｍ１水素ガ
スで１１００ｐｐに希釈きれたジボランガスの流量を１
０１００５ｅとなるように設定し、反応室（７３３）内
に流入させな。各々の流量が安定した後に、反応室（７
３３）内の圧力が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節
弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されて
いる導電性基板（７５２）は、２５０℃に加熱しておき
、ガス流量及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７
３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加′Ｒ
極（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放
電を発生させた。この放電を５分間行ない、厚き０．３
μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）、オージェ分析、及びＩＭ
Ａ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構成
原子に対して２２原子％、硼素原子は９５原子ｐｐｍ、
弗素原子は５原子％、窒素原子は０．１原子％、ゲルマ
ニウム原子は１０．３原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一７２０Ｖ　（＋５９０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は４７Ｖ／μｍ（３９Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１５秒（約１０
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解ざちた。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたとこる必要ときれた光量は１．８ルツク
ス・秒（１，３ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解きれた。また、最高帯
電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光波長
７８０ｎｍ）を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位
にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は１１．６
ｅｒｇ／ｃｍ２（８，１ｅｒｇ／ｃｍ２）であり、この
ことから充分な長波長光感度性能を有する事が理解され
た。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去施勇旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）、第２調節弁（７
０８）　、及び第４調節弁（７１０）を解放し、第１タ
ンク（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０２）か
らエチレンガス、及び第４タンク（７０４）より水素ガ
スで６０ｐｐｍに希釈したジボランガスを各々出力圧１
．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び第４流量制都
器（７１３，７１４、及び７１６）内へ流入させな。各
流量制御式を用いて、水素ガスの流量を６０ｓｅｃｍ、
水素ガスで６０ｐｐｍに希釈したジボランガスの流量を
２０ｓｅｃｍ、及びエチレンガスの流量を６０ｓｅｃｍ
となるように設定して、途中混合器（７３１）を介して
、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が１．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、！５
０Ｘ横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２２０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加！
１ｆ１（７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数１３
．５６ＭＨｚの下で印加して約９時間プラズマ重合反応
を行ない、導電性基板（７５２）上に厚と１５μｍのａ
−Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電
力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を
充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−ＣＭ’Ａにつき有機元
素分析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭
素原子と水素原子の総量に対して４１原子％であった。

また、ＩＭＡ分析より含有きれる硼素原子の量は全構成
原子に対して２１原子ｐｐｍであった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク’（７０２）からゲルマンガス
、第５タンク（７０５）からアンモニアガス、及び第６
タンク（７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ａ
ｍ２の下で第１、第２、第５、及び第６′ｔＣ量制御器
（７１３，７１４，７１７、及び７１８）内へ流入させ
た。同時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タン
ク（７０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈された
ジボランガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４
流量制御器（７１６）内へ、流入させた。各流量制御器
の目盛を調整して水素ガスの流量を１８０ｓｅｃｍ、ゲ
ルマンガスの流量を８ｓｅｃｍ、アンモニアガスの流量
を２ｓｅｃｍ１シランガスの流量を１０１００５ｅ、水
素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガスの流量
を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内に流入さ
せた。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内
の圧力が０．９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４
５）を調整した。一方、ａ−Ｃ膜が形成されている導電
性基板（７５２）は、２４０℃に加熱しておき、ガス流
量及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）よ
り周波数１３．５６ＭＨｚの下で電力印加電極（７３６
）に４５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生さ
せた。この放電を５分間行ない、厚き０．３μｍの電荷
発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき・、金属中ＯＮＨ分析（板場
製作所製ＥＭＧＡ−１３００）　、オージェ分析、及び
ＩＭＡ分析を行なったところ、含有される水素原子は全
構成原子に対して２１原子％、硼素原子は１１原子ｐｐ
ｍ、窒素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１３
．２原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一５５０Ｖ、（＋５３０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３６■／μｍ（３５Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解きれた
。７また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表
面電位にまで暗減衰するのに要した時間は約１４秒（約
１３秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有
する事が理解された。また、最高帯′Ｒ電位に初期帯電
した後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電
位にまで明減衰させたところ必要とされた光景は２．３
ルツクス・秒（１，２ルツクス・秒）であり、このこと
から充分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

Ｘ旅桝旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、老ず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）、及び第４調節弁
（７１０）を解放し、第１タンク（７０１）より水素ガ
ス、及び第４タンク（７０４）より水素ガスで２０００
ｐｐｍに希釈したホスフィンガスを各々出力圧１．０Ｋ
ｇ／ａｍ２の下で第１、及び第４流量制御器（７１３、
及び７１６）内へ流入させた。同時に、第１容器（７１
９）よりミルセンガスを第１温調器（７２２）温度４８
℃のもと第７流量制御器（７２８）内へ流入させた。各
流量制御器を用いて、水素ガスの流量を２０３　ＣＣｍ
　Ｎ水素ガスで２０００ｐｐｍに希釈したホスフィンガ
スの流量を３０ｓｃｃｒｎ、及びミルセンガスの流量を
２０　ｓ　ｅ　ｃｍとなるように設定して、途中混合器
（７３１）を介して、主管（７３２）より反応室（７３
３）内へ流入した。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が１．２Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、樅５
０×横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加電
極（７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数４０ＫＨ
ｚの下で印加して約３時間１５分プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板（７５２）上に厚さ１５μｍのａ−Ｃ
膜を電荷輸送層として形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（７３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　−Ｃ膜につき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４３原子％であった。また
、ＩＭＡ分析より含有きれる燐原子の量は全構成原子に
対して２９０原子ｐｐｍであった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制ｔａｌｌ器（７１
３，７１４，７１７、及び７１８）内べ流入させな。同
時に、第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７
０４）より水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボラ
ンガスを、出力圧１．５Ｋｇ／ａｍ２の下で第４流量制
御器（７１６）内へ、流入させた。

各流量制御ｌ器の目盛を調整して水素ガスの流量を２０
０ｓｅｃｍ、窒素ガスの流量を１０１０５ｅ。

ゲルマンガスの流量を１０１０５ｅ、シランガスの流量
を１００３　ＣＣｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈さ
れたジボランガスの流量を５０ｓｅｃｍに設定し、反応
室（７３３）内に流入させた。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が０．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、ａ　−ＣＩＩＪが形成きれている導電
性基板（７５２）は、２５０℃ニ加熱しておき、ガス流
量及び圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）よ
り周波数１３．６６ＭＨ２の下で電力印加型ｔ！（７３
６）に４０Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生
させな。この放電を５分間行ない、厚ざ０．３μｍの電
荷発生層を得た。

得られたａ−Ｓｉ膜につき、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）、オージェ分析、及びｒＭ
Ａ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構成
原子に対して２４原子％、硼素原子は３０原子ｐｐｍ、
窒素原子は１．０原子％、ゲルマニウム原子は１５．８
原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一５４０Ｖ　（＋６８０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３５■／μｍ　（４４Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事か理解され
た。

また、暗中にてＶｍａＸからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１２秒（約１７
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は４．０ルツク
ス・秒（１，２ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

実施例４ 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）、第２調節弁（７
ｏ８）、及び第４調節弁（７１０）を解放し、第１タン
ク（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０２）から
エチレンガス、及び第４タンク（７０４）より水素ガス
で６０ｐｐｍに希釈したジボランガスを各々出力圧１．
０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び第４流量制御器
（７１３，７１４、及び７１６）内へ流入とせな。各流
量制御器を用いて、水素ガスの流量を６０ｓｃＣｍ％水
素ガスで６０ｐｐｍに希釈したジボランガスの流量を２
０ｓｅｃｍ、及びエチレンガスの流量を６０ｓｅｃｍと
なるように設定して、途中混合器（７３１）を介して、
主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した。各
々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力が
１．８Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調
整した。一方、導電性基板（７５２）としては、ｗ１５
０Ｘ横５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２２０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電
極（７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波８０３．５
６ＭＨｚの下で印加して約９時間プラズマ重合反応を行
ない、導電性基板（７５２）上に厚と１５μｍのａ　−
Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。成膜完了後は、電力
印加を停止し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充
分に排気した。

以上のようにして得られたａ　　ＣＭにつき有機元素分
析を行なったところ、含有される水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して４１原子％であった。また
、ＩＭＡ分析より含有される硼素原子の量は全構成原子
に対して２１原子ｐｐｍであった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換い第１調節弁（７０７）、第
２調節弁（７０８）、第５調節弁（７１１）、及び第６
調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）から
水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、第
５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（７
０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下で
第１、第２、第５、及び第６流量制御器（７１３，７１
４，７１７、及び７１８）内へ流入させな。同時に、第
４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）よ
り水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたジボランガスを
、出力圧１．５Ｋｇ／ａｍ２の下で第４流量制御器（７
１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量６ｓｃｃｍ、を窒素ガス
の流量を０．０１ｓｅｃｍ、シランガスの流量を１０１
００５ｅ、水素ガスでＬｏｏｐｐｍに希釈されたジボラ
ンガスの流量を１１０５ｃＣとなるように設定し、反応
室（７３３）内に流入させた。各々の流量が安定した後
に、反応室（７３３）内の圧力が０．８Ｔｏｒｒとなる
ように圧力調節弁（７４５）を調整した。一方、ａ−Ｃ
膜が形成されている導電性基板（７５２）は、２５０℃
に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態で、
高周波電源（７３９）より周波数１３．５６ＭＨｚの下
で電力印加型ｗ１（７３６）に３５Ｗａｔｔの電力を印
加し、グロー放電を発生させた。この放電を５分間行な
い、厚き０．３μｍの電荷発生層を得た。

得られたａ−３ｉ膜につき、金属中○ＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）、オージェ分析、及びＩＭ
Ａ分析を行なったところ、含有きれる水素原子は全構成
原子に対して２３原子％、硼素原子は１ｏ原子ｐｐｍ、
窒素原子は０．００゛１原子％、ゲルマニウム原子は１
１原子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最窩
帯電電位は一５２０Ｖ　（＋４８０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当り
の帯電能は３４■／μｍ（３１Ｖ／μｍ）と極めて高く
、このことから充分な帯電性能を有する事が理解された
。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約１３秒（約１２
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高ｗ７４ｉｔ位に初期帯電し
た後、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位
にまで明減衰させたところ必要ときれた光量は１．３ル
ツクス・秒（１，２ルツクス・秒）であり、このことか
ら充分な光感度性能を有する事が理解された。また、最
高帯電電位に初期帯電した後、半導体レーザー光（発光
波長７８０ｎｍ）を用いて最高帯ｉｔ位の２０％の表面
電位にまで明減衰させたとこる必要とされた光量は？、
ｌｅｒｇ／ａｍ２（６，７ｅｒｇ／ａｍ２）であり、こ
のことから充分な長波長光感度性能を有する事が理解さ
れた。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

去旅撚旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの頭に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−’Ｔｏｒｒ程度の高真空
にした後、第１調節弁（７０？）、第２調節弁（７０８
）　、及び第４調節弁（７１０）を解放し、第１タンク
（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０２）からブ
タジインガス、及び第４タンク（７０４）より水素ガス
で１２％に希釈したジボランガスを各々出力圧１．０Ｋ
　ｇ　／　ｃｍ２の下で第１、第２、及び第４流量制御
器（７１３，７１４、及び７１６）内へ流入させた。各
流量制御器を用いて、水素ガスの流量を６０ｓｅｃｍ１
水素ガスで１２％に希釈したジボランガスの流量を２０
８　ＣＣｍ　％及びブタジインガスの流量を６０ｓｅｃ
ｍとなるように設定して、途中混合！（７３１）を介し
て、主管（７３２）より反応室（７３３）内へ流入した
。各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧
力が１．９Ｔ。

ｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を：Ａ整した。

一方、導電性基板（７５２）としては、樅５０Ｘ４１ｉ
５０Ｘ厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予め２２
０℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定した状態
で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続してお
いた低周波電源（７４１）を投入し、電力印加電極（７
３６）に１６０Ｗａｔｔの電力を周波数４００ＫＨｚの
下で印加して約４５分間プラズマ重合反応を行ない、導
電性基板（７５２）上に厚さ１５μｍのａ−Ｃ股を電荷
輸送層として形成した。成膜完了後は、電力印加を停止
し、調節弁を閉じ、反応室（７３３）内を充分に排気し
た。

以上のようにして得られたａ　−ＣＩＪにつき有機元素
分析を行なフたところ、含有される水素原子の量は炭素
原子と水素原子の総量に対して４０原子％であった。ま
た、ＩＭＡ分析より含有される硼素原子の量は全構成原
子に対して２原子％であった。

電荷発生層形成工程： 次いで、実施例２と同様にして本発明による感光体の電
荷発生層を形成した。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
帯電電位は一８６０Ｖ　（＋３１０Ｖ）で有り、即ち、
全感光体膜厚が１５゜３ｕｍであることから１μｍ当り
の帯電能は５６■／μｍ　（２０Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９ｏ％の表面電
位にまで暗減衰するのに要しｔ：時間は約３８秒（約９
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明減衰させたところ必要とされた光量は５．２ルツク
ス・秒（１゜４ルツクス・秒）であり、このことから充
分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

Ｘ施ガ旦 本発明に係わる製造装置を用いて、第１図に示す如き、
導電性基板、電荷輸送層、電荷発生層をこの順に設けた
本発明感光体を作製した。

電荷輸送層形成工程： 第７図に示すグロー放電分解装置において、まず、反応
装置（７３３）の内部を１０−６Ｔｏ　ｒ　ｒ程度の高
真空にした後、第１調節弁（７０７）、第２調節弁（７
０８）　、及び第４調節弁（７１０）を解放し、第１タ
ンク（７０１）より水素ガス、第２タンク（７０２）か
らアセチレンガス、及び第４タンク（７０４）より水素
ガスで４５００ｐｐｍに希釈したジボランガスを各々出
力圧１．０Ｋｇ／ｃｍ２の下で第１、第２、及び第４流
量制御器（７１３，７１４、及び７１６）内へ流入させ
た。各流量制御器を用いて、水素ガスの流量を１０１０
５ｓｅ、水素ガスで４５００ｐｐｍに希釈したジボラン
ガスの流量を８０３ＣＣｍ％及びアセチレンガスの流量
を４５ｓｅｃｍとなるように設定して、途中混合器（７
３１）を介して、主管（７３２）より反応室（７３３）
内へ流入した。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が２．○Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を
調整した。一方、導電性基板（７５２）としては、樅５
０×横５０×厚３ｍｍのアルミニウム基板を用いて、予
め２００℃に加熱しておき、ガス流量及び圧力が安定し
た状態で、予め接続選択スイッチ（７４４）により接続
しておいた高周波電源（７３９）を投入し、電力印加電
極（７３６）に１５０Ｗａｔｔの電力を周波数１３゜５
６ＭＨｚの下で印加して約２時開平プラズマ重合反応を
行ない、導電性基板（７５２）上に厚ざ１５μｍのａ−
Ｃ膜を電荷輸送層として形成した。

成膜完了後は、電力印加を停止し、調節弁を閉じ、反応
室（７３３）内を充分に排気した。

以上のようにして得られたａ　　ＣＭにつき有機元素分
析を行なったところ、含有きれる水素原子の量は炭素原
子と水素原子の総量に対して３４原子％であった。また
、ＩＭＡ分析より含有される硼素原子の量は全構成原子
に対して８００ｏ原子ｐｐｍであった。

電荷発生層形成工程： 次いで、一部タンクを交換し、第１調節弁（７０７）、
第２調節弁（７０８）、第５調佃弁（７１１）、及び第
６調節弁（７１２）を解放し、第１タンク（７０１）か
ら水素ガス、第２タンク（７０２）からゲルマンガス、
第５タンク（７０５）から窒素ガス、及び第６タンク（
７０６）からシランガスを、出力圧ＩＫｇ／ｃｍ２の下
で第１、第２、第５、及び第６流量制御！（７１３，７
１４，７１７、及び７１８）内へ流入させな。同時に、
第４調節弁（７１０）を解放し、第４タンク（７０４）
より水素ガスで１０ｐｐｍに希釈されたホスフィンガス
を、出力圧１．５Ｋｇ／ｃｍ２の下で第４流量制御器（
７１６）内へ、流入させた。

各流量制御器の目盛を調整して水素ガスの流量を２００
ｓｅｃｍ、ゲルマンガスの流量を６ｓｅｃｍ１窒素ガス
の流量を３ｓｅｃｍ１シランガスの流量を２００ｓｅｃ
ｍ、水素ガスで１１００ｐｐに希釈されたホスフィンガ
スの流量を１０１０５ｅに設定し、反応室（７３３）内
に流入させた。

各々の流量が安定した後に、反応室（７３３）内の圧力
が領９Ｔｏｒｒとなるように圧力調節弁（７４５）を調
整した。一方、ａ　−Ｃ膜が形成されている導電性基板
（７５２）は、２５０℃に加熱しておき、ガス流量及び
圧力が安定した状態で、高周波電源（７３９）より周波
数１３．５６ＭＨ２の下で電力印加電極（７３６）に３
５Ｗａｔｔの電力を印加し、グロー放電を発生させた。

この放電を５分間行ない、厚ざ領３μｍの電荷発生層を
得た。

得られたａ−３ｉ膜につぎ、金属中ＯＮＨ分析（板場製
作所製ＥＭＧＡ−１３００）、オージェ分析、及びＩＭ
Ａ分析を行なったところ、含有される水素原子は全構成
原子に対して１８原子％、燐原子は１２原子ｐｐｍ５窒
素原子は０．３原子％、ゲルマニウム原子は１０．０原
子％であった。

特性： 得られた感光体を常用のカールソンプロセスの中で負帯
電並びに正帯電で用いたところ次の如き性能が得られた
。ここでは、正帯電時の測定値を括弧内に示すが、最高
＋ｙ電電位は一６７０Ｖ　（＋５７０Ｖ）で有り、即ち
、全感光体膜厚が１５゜３μｍであることから１μｍ当
りの帯電能は４４Ｖ／μｍ（３８Ｖ／μｍ）と極めて高
く、このことから充分な帯電性能を有する事が理解され
た。

また、暗中にてＶｍａｘからＶｍａｘの９０％の表面電
位にまで暗減衰するのに要した時間は約２４秒（約１１
秒）であり、このことから充分な電荷保持性能を有する
事が理解された。また、最高帯電電位に初期帯電した後
、白色光を用いて最高帯電電位の２０％の表面電位にま
で明′ｇ衰させたとこる必要とされた光量は２．３ルツ
クス・秒（２，４ルツクス・秒）であり、このことから
充分な光感度性能を有する事が理解された。

以上より、本例に示した本発明による感光体は、感光体
として優れた性能を有するものである事が理解される。

また、この感光体に対して常用のカールソンプロセスの
中で、作像して転写したところ、鮮明な画像が得られた
。

【図面の簡単な説明】

第１図乃至第６図は本発明感光体の構成を示す図面、第
７図乃至第８図は本発明に係わる感光体の製造装置を示
す図面である。 出願人　ミノルタカメラ株式会社 第１図 第３図 第５図 第２図 第４図 第６図 手続補正書 昭和６２年１０月２１日

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離型感光体に
   おいて、該電荷輸送層は燐原子及び硼素原子のうち少な
   くとも一方を含有してなる水素化アモルファスカーボン
   膜であり、かつ、該電荷発生層は窒素原子を含有すると
   共に燐原子及び硼素原子のうち少なくとも一方を含有し
   てなる水素化アモルファスシリコンゲルマニウム膜或は
   窒素原子を含有すると共に燐原子及び硼素原子のうち少
   なくとも一方を含有してなる弗素化アモルファスシリコ
   ンゲルマニウム膜であることを特徴とする感光体。