JPS63819A - ディスク状記録媒体の表面保護膜形成装置 - Google Patents

ディスク状記録媒体の表面保護膜形成装置

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JPS63819A
JPS63819A JP14367586A JP14367586A JPS63819A JP S63819 A JPS63819 A JP S63819A JP 14367586 A JP14367586 A JP 14367586A JP 14367586 A JP14367586 A JP 14367586A JP S63819 A JPS63819 A JP S63819A
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disk
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film forming
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Noboru Murakami
昇 村上
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、例えばコンパクトディスクのような記録媒
体の表面に、紫外線を照射することによって硬化する塗
料を塗布し、保護、漠を形成させるようにするディスク
表面に保護膜を形成する2 ’j’jに関する。
[従来の技術] 例えば音響信号のような信号をディジタル化した情報を
記録するコンパクトディスクにあっては、例えば合成樹
脂によって構成したディスクの表面にディジタル記録を
行ない、この記録面にアルミニウム箔を反射膜として蒸
管している。そして、このアルミニウム蒸着膜の上記デ
ィスクの記録面に対向する面には、上記のようなディジ
タル化した情報が記録されるようにしている。そして、
この記録は例えばレーザ光等を利用して読み取り再生で
きるようにしているものである。
しかし、上記アルミニウムの蒸着膜に記録された情報は
非常に微細なものであるため、簡単に損傷する状態にあ
り、したがってこの情報記録面を機械的な接触による損
傷がら保護する必要がある。
したがって、このような情報の記録されたディスクの記
録面部分には、保護膜を形成することが要求されている
この保護膜の形成手段としては種々のものがあるもので
あるが、保護膜として機械的な強度が充分なものである
と共に、この保護膜の形成手段が12カ単となるもので
あることが要求される。このため、例えば紫外線を照射
することによって硬化する性質を冑する塗料を、上記デ
ィスクの表面の薄く塗布し、この塗料の塗布面に紫外線
を照射するようにする手段が考えられている。
しかし、このような目的で使用される塗料は、非常に高
価なものであるばかりか、強い悪臭を膏するものであり
、また皮膚等に接触した場合にはその皮膚を痛めるおそ
れがある。さらに、このような塗料が機械的な機構部分
に付着したような場合には、特に機械的な摺動摩擦部分
にその塗料が付着したような場合には、時間の経過と共
に紫外線によってその付着塗料が硬化し、機械的な動作
が円滑に行われないような状態となる。
[発明が解決しようとする問題点] この発明は上記のような点に鑑みなされたちのて、例え
ば音響情報を記録するようなコンパクトディスクにおい
て、その表面に紫外線を照射することによって硬化する
ような塗料を効果的に、特に薄い均一な膜の状態で塗布
することができるようにするティスフ状記録媒体の表面
保護膜形成装置を提供しようとするものである。
c問題点を解決するための手段] すなわち、この発明に係るディスク上記記録媒体の表面
保護膜形成装置にあっては、ディスクを高速回転する状
態で支持設定するようにすると共に、このディスクの外
周部を取囲むように上方の径を小さくした円錐状の第1
のリング設定し、上記ディスク上に所定の塗料を滴下さ
せるようにする。また、上記第1のリングの上方には、
円筒状の第2のリングを設定し、第1のリングから第2
のリングの方向に向けて空気流が設定されるようにして
いるものである。
〔作用] したがって、上記のように構成される装置にあっては、
高速で回転される状態にあるディスク上に塗料が滴下さ
れるものであるため、この塗料はディスク表面で極く薄
く均一に伸ばされるようになり、余剰の塗料はその周囲
の第1のリング内面部に飛ばされるようになる。したが
って、その余剰塗料は効果的に回収されるようになるも
のである。また、霧の状態とされた塗料は、第1のリン
グから第2のリングの方向に流れる空気流によって確実
に排出されるようになるものであり、人体や周辺に付着
することが確実に阻止され、作業環境が確実に良好に保
たれるようになる。
C発明の実施例コ 以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
第1図は全体的な構成を示すもので、保護膜の形成処理
前のディスク11はストッカー治具12に集積されてお
り、この集積されているディスク11は、1枚つづピッ
クアップ機fi413により取り上げられ、第1のディ
スク移送ライン14上のトレイ15に移されるようにな
る。このようにティスフ11を乗せるようになったトレ
イ15は、例えば4列にしたブツシャ部16に搬送され
、このブツシャ部16で4個のトレイが、4列に並べて
設定された塗料塗布機構17a〜17dに押し込まれ、
この塗布機tM 17a −17dでトレイ上のディス
ク表面に保護膜形成用の塗料が塗布されるようになる。
この塗料塗布機構17a〜17dでそれぞれトレイ上の
ディスクに所定の塗料が塗布されたならば、そのトレイ
はさらに第2の移送ランン18上に押し出され、ランプ
ハウス19内に導かれるようになる。
そして、このランプハウス19内では、上記塗料の塗布
されたディスク11の塗料塗布面に、例えば水銀ランプ
等の紫外線を含む光を発生する光源によって光を照射し
、上記塗布された塗料を硬化させて、ディスク表面に保
護膜が形成されるようにしている。そして、この保護膜
の形成が完了されたディスクは、排出スタッカ上に集積
されるようになるものである。
第2図は上記塗料塗布機構17a〜17dの1つを取り
出して示したもので、この塗布機構17はブツシャ機構
により押し込まれてきたトレイ15上のディスク11を
支持するディスク支持機構21を備える。
この支持機構21はディスク11の中心孔部に挿入され
る凸部を有する受け台22を備えるもので、この受け台
22はパイプ23によって支持されている。そして、上
記受け台22には、支持するディスク面に対向する開口
24が形成されているもので、この間口24は上記パイ
プ23に連通されるようになっている。そして、このパ
イプ23はこの図では示されない真空吸引機構に連通さ
れ、上記受け台22載置されたディスク11は、吸引保
持されるようになっている。
上記パイプ23は支持台25に回転自在な状態で保持さ
れているものであり、摩擦伝導機(g26を介して伝達
されるモータ27の移転によって、上記保持されたディ
スク11が回転駆動されるようになっている。そして、
上記支持台25は矢印28で示すように上下方向に移動
されるようになっているもので、トレイ15がこのディ
スク支持機構に押し込まれてくるときは下降状態に設定
され、ディスク11がこの支持機構21の位置に一致す
る状態となったときには上昇されて、受け台22でディ
スク11を支持し、吸引動作によってその支持状態が保
持されるようになる。
すなわち、ディスク11は上記支持機構21で保持され
、上昇された状態で塗料の塗布作業が実行されるように
なるもので、この塗布作業を実行する状態では、ディス
ク11は破線で示し符号111て示すような状態とされ
るようになる。
1−記塗布作業される状態とされるディスク111は、
塗布室29を11カ成する第1のリング30の中心位置
に設定されるようになる。この第1のリング30は、上
方を小径にした円錐体によって(、′4成されるもので
、この第1のリング30の内壁に」二足ディスク+11
の外周部が対面するようにになっている。
そして、この第1のリング30の内壁に小間隔て対向す
る状態で、同じく円錐状に構成した金網31が設定され
ているものであり、さらに第1のリング30の大径とな
る下方の内周部には、受け皿32かリング状に形成され
ている。この場合、この受け皿32の内径は、少なくと
もディスク111の直径より大きく設定されている。
上記第1のリング30の外周部には、同軸の状態で上方
に延びるようにして円筒状の第2のリング33が設けら
れている。そして、この第2のリング33の中心部分に
向けて延びるように塗料を供給するノズル34が設定さ
れているもので、このノズル34の先端の塗料の吐出孔
は上記ディスクIllの塗装面に対向設定されるように
なっている。
ここで、4個の塗料塗布機構17 a〜17dにそれぞ
れ設定されるノズル34は、第3図に取出して示すよう
に共通の支持パイプ341に取付は設定されているもの
であり、このパイプ341は摺動軸342.343によ
って長手方向移動自在に設定されている。
そして、歯車機構344を介して結合されるモータ34
5によって、上記支持バイブ341が塗布pl F+’
/+17a−17dの・1トぶ方向に移動制御されるよ
うになり、ノズル34の吐出孔がディスクIllの直径
線に沿って移動されるようになる。そして、ディスクI
llの回転と共にノズル34から吐出される塗料の滴下
部分の軌跡が、ディスク111上で円周さらには螺旋と
されるようになっているものである。
上記第2のリング33には、さらに同軸的にして円筒状
のカバー35および36が連続して接続設定されている
もので、カバー36の上方には集中排気機構が接続され
るようになっている。そして、図に矢印で示すような空
気流が形成されるようにしている。
すなわち、上記のように構成される装置にあっては、上
方の記録されたディスク11が自動的に塗料塗布機構1
7a〜L7dの部分に搬送され、各塗装機構17a〜1
7dに分配供給されるようになるもので、この塗装機構
17部にトレイ15と共に押し込まれたディスク11は
、ディスク支持機構21の上方に位置設定されるように
なる。そして、この状態で支持機構21が上方に移動さ
れ、その受け台22でディスク11を支持し、塗布室2
9部分に111で示すように移動設定されるようになる
そして、第1のリング30の中心部分に設定されたディ
スクillは、支持機構21によって低速に回転駆動さ
れ、この状態で上記ディスク111の上面に、ノズル3
4から吐出された塗料が滴下されるようになる。この場
合、上記ノズル34はディスク111の直径方向に移動
されるものであるため、塗料の滴下部分の軌跡は螺旋状
に形成されるようになる。
また、塗料の滴下直後はノズル34を移動させることが
なく、その後移動させるようにすれば、例えばディスク
illの比較的中心に近い位置で円形を描き、その後外
側の方向に径が大きくなるような螺旋状の軌跡が、塗料
滴下によって描かれるようになり、塗料がディスクit
tの面上の広い範囲にわたって均一性をもって滴下され
るようになる。
上記のようにして塗料がディスク111の面上に滴下さ
れた後、このディスク111は高速に回転されるように
なる。したがって、上記滴下された塗料はディスクl1
1の外周部に遠心力によって飛ばされ、ディスクill
上に薄い塗料の膜が形成されるようになる。この場合、
周囲に飛ばされた塗料64、第1のリング30の内周部
に設定した金網31に当り、飛散を防止されるようにな
り、さらに第1のリング30の内面に沿って受け皿32
部に回収されるようになる。そして、この受け皿32に
形成した塗料回収用の排出孔37から、ディスク111
の塗装に使用されなかった余りの塗料が効果的に回収さ
れるようになる。
また、上記のようにディスク111の面に塗料を滴下し
た後、このディスクは高速に回転されるようになり、塗
料が霧状になって拡散するようになる。しかし、この霧
状になった塗料は、塗装室29に形成される空気能によ
って集中排気孔の方向に効果的に導かれ、この塗装Fa
 tMの外部に拡散することかない。また、霧状となっ
た塗料の一部は、第2のリング33、カバー35.36
の内周面に溜るようになり、下方に下がって上記受け皿
32部で回収されるようになる。
すなわち、悪臭がありさらに人体および周囲の機械部分
に障害を与えるおそれのある塗料が、塗装部分て確実に
回収されるようになると共に、霧状となった塗料も確実
に空気流によって排出されるようになるものであるため
、作業環境か非常にクリーンな状態に保たれるようにな
る。さらに塗装で使用されなかった塗料の多くの部分が
確実に回収されるものであり、高価な塗料を効果的に利
用できるものである。
そして、このように表面に所定の塗料の薄膜の形成され
たディスク11は、搬送機構によってランプ室19に導
かれて、紫外線によって硬化され、ディスク11の記録
面に保護膜が形成されるようになるものである。
第4図は上記装置においてディスク11の搬送用に用い
られるトレイ15を示しているものて、このトレイ15
は中心部に円形の開口を形成したベース151を儒える
。そして、このベース151の異なる2つの辺には、ロ
ックプレート152および153が取付けられ、このプ
レート152および153にそれぞれ形成した切欠きに
よって、このベース151の位置規制動作が行われるよ
うにしている。
また、上記ベース151の中心部の開口部分には、ディ
スク11の外周部を支える第1のリング154が設けら
れ、さらにこの第1のリング154のに重ねるようにし
て第2のリング155が設定されている。
この第2のリング155の内径は、ディスク11の直径
にほぼ等しく設定されているもので、第1のリング15
4に支えられたディスク11の外周部分か上記第2のリ
ング155で設定され、ディスク11がこのトレイ15
上で安定して保持されるようにしている。
ここで、第1のリング154の上面には開口に向けて例
えばθ1 (−3°)で傾斜するテーパ面156を形成
し、搭載されたディスク11の支持面の面積が最少限に
されるようにしている。特に情報記録部に支持部分が至
らないようにしている。また、第2のリング155の開
口部の内周面には、例えばθ2(−45°)の上方に開
くテーパ面157を形成する。このテーパ面157は、
第1のリング154との接合部分に近い部分で、例えば
この第2のリング155の厚さが1.2■である場合に
0.6mmの範囲で垂直部分を残して、形成されるもの
である。
」、記テーバ面157は、ディスク11に塗料塗布した
場合に、このディスク11の外周部に垂れ下がる部分の
範囲を想定しているものであり、この塗料を塗布したデ
ィスク11がランプ室19に入った場合に、ランプから
の光がテーパ面157に反射して、」二足塗料の垂れ下
がり部分に照射され、その塗料が効果的に硬化されるよ
うにするためのものである。
その他にこのトレイ15には、ディスク11を保持する
開口部の周縁部に対応して、例えば板バネによるストッ
パ158.159を立上がり形成し、トレイ15が急激
に停止されたような場合に、搭載されたディスク11が
このトレイ15から外れないようにしている。
[発明の効果コ 以上のようにこの発明にあっては、例えばコンパクトデ
ィスクの表面保護膜が効果的に形成することができるも
のであり、特に塗料を無駄にすることなく、また人体さ
らに周辺の機械類に悪影響を与えることなく、保護膜形
成作業が行われるようになる。そして、このような装置
は、音響情報記録用にディスクに限らず、その他のレー
ザディスク等に対する保護膜形成措置としても効果的に
利用できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例に係る表面保護膜形成装置
を説明するためのもので、(A)は平面から見た全体的
な(14成図、(B)は同じく側面から見た図、第2図
は上記実施例で使用される塗料塗布機構部の1つを取出
して示した断面(を成図、第3図は上記塗布機構部に設
定される塗料を供給するノズル機構部を示すもので、(
A)は平面から見た図、(B)は側面から見た図、第4
図は上記装置で使用されるトレイを示すもので、(A)
は平面図、(B)は(A)図のb−b線断面図である。 11・・ディスク、12・・・ストッカー治具、14・
・・第1の移送ライン、16・・・ブツシャ部、17.
17a〜17d・・・塗料塗布機構、18・・・第2の
移送ライン、19・・・ランプ室、21・・・ディスク
支持機構、29・・・塗布室、30・・・第1のリング
、31・・・金網、32・・・受け皿、33・・・第2
のリング、34・・・ノズル(塗料供給)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 情報が記録設定されたディスクを保護膜形成機構部に搬
    送し、この保護膜形成機構部で上記ディスク表面に紫外
    線を照射することによって硬化する塗料を塗布するよう
    にした装置において、上記搬送されたディスクを支持し
    回転駆動する機構と、 この機構で支持されたディスクの外周部分に対応して設
    定された、上方の径を下方の径より小さくなるように円
    錐状に構成した第1のリングと、この第1のリングの内
    側に設定された同じく円錐状の金網と、 上記第1のリングの下方の内周部にリング状に設定され
    た受け皿と、 上記第1のリングの外周部分から情報に延長するように
    設定された円筒状の第2のリングと、上記第2のリング
    の内部を通して、上記第1のリングの内部から上方に空
    気流を流し、この空気流を上記第2のリング上方から排
    出する機構と、上記第1のリングの内部で、上記回転し
    て支持されるディスクの上に上記塗料を滴下する手段と
    を具備し、 上記滴下された塗料が回転するディスクの外周方向に飛
    ばされ、上記金網さらに第1のリング内面に辺り上記受
    け皿に回収され、上記ディスク表面に上記塗料の膜が形
    成されるようにしたことを特徴とするディスク状記録媒
    体の表面保護膜形成装置。
JP14367586A 1986-06-19 1986-06-19 ディスク状記録媒体の表面保護膜形成装置 Granted JPS63819A (ja)

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JP14367586A JPS63819A (ja) 1986-06-19 1986-06-19 ディスク状記録媒体の表面保護膜形成装置

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JPS63819A true JPS63819A (ja) 1988-01-05
JPH044657B2 JPH044657B2 (ja) 1992-01-29

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4672740A (en) * 1983-08-31 1987-06-16 Fujitsu Limited Beam annealed silicide film on semiconductor substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4672740A (en) * 1983-08-31 1987-06-16 Fujitsu Limited Beam annealed silicide film on semiconductor substrate

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JPH044657B2 (ja) 1992-01-29

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