JPS6381092A - 光学的情報記録媒体 - Google Patents
光学的情報記録媒体Info
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- JPS6381092A JPS6381092A JP61225463A JP22546386A JPS6381092A JP S6381092 A JPS6381092 A JP S6381092A JP 61225463 A JP61225463 A JP 61225463A JP 22546386 A JP22546386 A JP 22546386A JP S6381092 A JPS6381092 A JP S6381092A
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Landscapes
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、レーザー光線によって情報を記録、再生する
ことのできる光学的情報記録媒体に関するものであり、
更に詳しくは、特定のフタロイルアクリドン系化合物を
含有する情報記録層をもつ光学的情報記録媒体に関する
ものである。
ことのできる光学的情報記録媒体に関するものであり、
更に詳しくは、特定のフタロイルアクリドン系化合物を
含有する情報記録層をもつ光学的情報記録媒体に関する
ものである。
従来、レーザー光線により情報を記録、再生する光学的
情報記録媒体の材料として、Te合金、Te酸化物等の
無機物及び種々の有機色素類が多数提案されている。有
機色素類は無機物に比べ、無公害で高感度の媒体をより
安価に作製できる可能性を有している。例えば、フタロ
シアニン系、シアニン系、メロシアニン系、スクワリリ
ウム塩基、ビリリウム塩基、アントラキノン系、トリフ
ェニルメタン系等が挙げられるが、光学的情報記録媒体
として用いるための必要特性、即ち、吸収波長・感度・
安定性・薄膜加工性等をすべて満足するものはまだ見出
されていないのが現状である。
情報記録媒体の材料として、Te合金、Te酸化物等の
無機物及び種々の有機色素類が多数提案されている。有
機色素類は無機物に比べ、無公害で高感度の媒体をより
安価に作製できる可能性を有している。例えば、フタロ
シアニン系、シアニン系、メロシアニン系、スクワリリ
ウム塩基、ビリリウム塩基、アントラキノン系、トリフ
ェニルメタン系等が挙げられるが、光学的情報記録媒体
として用いるための必要特性、即ち、吸収波長・感度・
安定性・薄膜加工性等をすべて満足するものはまだ見出
されていないのが現状である。
例えば、近赤外吸収色素として一般に知られているシア
ニン系色素、ピリリウム塩系色素、アズレン誘導体など
を情報記録層として用いた光学的情報記録媒体は、レー
ザー光によって情報を書き込んだ後にレーザー光による
情報の読み出しを50回程度操り返すと、読み出しの精
度が実用の範囲以下になってしまい、実用的な情報記録
媒体とは言い難いものである。
ニン系色素、ピリリウム塩系色素、アズレン誘導体など
を情報記録層として用いた光学的情報記録媒体は、レー
ザー光によって情報を書き込んだ後にレーザー光による
情報の読み出しを50回程度操り返すと、読み出しの精
度が実用の範囲以下になってしまい、実用的な情報記録
媒体とは言い難いものである。
本発明者らは上記の従来技術の問題点を解決するため鋭
意検討を行った結果、特定のフタロイルアクリドン系化
合物が近赤外領域に大きな吸収を持ち、これを用いた光
学的情報記録媒体が吸光特性、反射特性、安定性に優れ
ていることを見出し、本発明に至った。
意検討を行った結果、特定のフタロイルアクリドン系化
合物が近赤外領域に大きな吸収を持ち、これを用いた光
学的情報記録媒体が吸光特性、反射特性、安定性に優れ
ていることを見出し、本発明に至った。
即ち、本発明は、基板上に情報記録層を設けてなる光学
的情報記録媒体において、該情報記録層が次式(I)で
表されるフタロイルアクリドン系化合物を含有するもの
であることを特徴とする光学的情報記録媒体を提供する
ものである。
的情報記録媒体において、該情報記録層が次式(I)で
表されるフタロイルアクリドン系化合物を含有するもの
であることを特徴とする光学的情報記録媒体を提供する
ものである。
X+
〔式中、R1は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基
、アシル基、芳香族炭化水素基、アミノ基、置換アミノ
基のいずれかを表し、R2は水素原子、置換されても良
いアルキル基、アルケニル基、又は芳香族炭化水素基の
いずれかを表し、X1〜×9は水素原子、ハロゲン原子
、ニトロ基、シアノ基、置換されても良いアルキル基、
アルケニル基、アシル基又は芳香族炭化水素基のいずれ
かを表し、これらは同一であっても相異なるものであっ
てもよい。〕 前記(I)式で表されるフタロイルアクリドン系化合物
としては、例えば6−アニリツーナフト(2,3−c
)アクリダン−5,8,14−)リオン、6−(4−ニ
トロアニリノ)−ナフト(2,3−C)アクリダン−5
,8,14−)リオン、6−(3−ニトロアニリノ)−
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオン、6−(4−クロロアニリノ)−ナフト(2,3
−c )アクリダン−5,8,14−トリオン、6−
(3−クロロアニリノ)−ナフ) (2,3−c )ア
クリダン−5,8,14−)リオン、6−(3−メチル
アニリノ)−ナフト(2,3−c )アクリダン−5,
8,14−)リオン、6−(4−メトキシアニリノ)−
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオン、6− CC4−(5,10−ジヒドロ−5,1
0−ジオキソアントラ(2,3−d )オキサゾール−
2−イル)フェニルコアミノ〕−11−()リフルオロ
メチル−ナフト(2,3−c ]]アクリジンー5.8
.14−13H) −)リオン、N−(9,10−ジヒ
ドロ−9,10−ジオキソ−2−アントラセニル) −
4−((5,8,13,14−テトラヒドロ−5,8,
14−トリオキソ−11−()リフルオロメチル)ナフ
ト(2,3−c )アクリジン−6−イル〕アミノ〕−
ベンズアミド等を挙げることができ、これらの化合物は
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオンの6−アミノ誘導体類と、対応するアリルブロマ
イド類との反応によって得られる。
、アシル基、芳香族炭化水素基、アミノ基、置換アミノ
基のいずれかを表し、R2は水素原子、置換されても良
いアルキル基、アルケニル基、又は芳香族炭化水素基の
いずれかを表し、X1〜×9は水素原子、ハロゲン原子
、ニトロ基、シアノ基、置換されても良いアルキル基、
アルケニル基、アシル基又は芳香族炭化水素基のいずれ
かを表し、これらは同一であっても相異なるものであっ
てもよい。〕 前記(I)式で表されるフタロイルアクリドン系化合物
としては、例えば6−アニリツーナフト(2,3−c
)アクリダン−5,8,14−)リオン、6−(4−ニ
トロアニリノ)−ナフト(2,3−C)アクリダン−5
,8,14−)リオン、6−(3−ニトロアニリノ)−
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオン、6−(4−クロロアニリノ)−ナフト(2,3
−c )アクリダン−5,8,14−トリオン、6−
(3−クロロアニリノ)−ナフ) (2,3−c )ア
クリダン−5,8,14−)リオン、6−(3−メチル
アニリノ)−ナフト(2,3−c )アクリダン−5,
8,14−)リオン、6−(4−メトキシアニリノ)−
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオン、6− CC4−(5,10−ジヒドロ−5,1
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14−トリオキソ−11−()リフルオロメチル)ナフ
ト(2,3−c )アクリジン−6−イル〕アミノ〕−
ベンズアミド等を挙げることができ、これらの化合物は
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8,14−)
リオンの6−アミノ誘導体類と、対応するアリルブロマ
イド類との反応によって得られる。
上記のフタロイルアクリドン系化合物は、700nmか
ら800nm付近の近赤外領域で10’程度以上のモル
比吸光係数εを示し、これを光学的情報記録媒体の記録
層に使用することができる。
ら800nm付近の近赤外領域で10’程度以上のモル
比吸光係数εを示し、これを光学的情報記録媒体の記録
層に使用することができる。
上記のフタロイルアクリドン系化合物の薄膜化の方法と
しては、真空蒸着法、スパッタリング法、又はドクター
ブレード法、キャスト法、スピナー法等の塗工方法など
の一般的な薄膜形成法で成膜して基板上に設置すること
ができる。
しては、真空蒸着法、スパッタリング法、又はドクター
ブレード法、キャスト法、スピナー法等の塗工方法など
の一般的な薄膜形成法で成膜して基板上に設置すること
ができる。
塗工においては、フタロイルアクリドン系化合物をトリ
クロロベンゼン等の可溶な溶媒に溶解させフタロイルア
クリドン系化合物単体で薄膜塗工することもできるが、
適当な高分子バインダーを併用してもよい。また、フタ
ロイルアクリドン系化合物をサンドミル等で粉砕、微粒
子化し、高分子バインダー中に分散させたものでも良好
な薄膜が得られる。
クロロベンゼン等の可溶な溶媒に溶解させフタロイルア
クリドン系化合物単体で薄膜塗工することもできるが、
適当な高分子バインダーを併用してもよい。また、フタ
ロイルアクリドン系化合物をサンドミル等で粉砕、微粒
子化し、高分子バインダー中に分散させたものでも良好
な薄膜が得られる。
ここで言う高分子バインダーとしては、ニトロセルロー
ス、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ
エステル等の熱可塑性樹脂を例示することができる。
ス、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアルコール、ポリウレタン、ポリアミド、ポリ
エステル等の熱可塑性樹脂を例示することができる。
また、前記(I)式で表されるフタロイルアクリドン系
化合物と他の有機色素とを、共蒸着又は共スパッタリン
グすることも可能であり、これらを同一の有機溶媒に溶
解又は分散させ、塗工することも可能である。
化合物と他の有機色素とを、共蒸着又は共スパッタリン
グすることも可能であり、これらを同一の有機溶媒に溶
解又は分散させ、塗工することも可能である。
本発明におけるフタロイルアクリドン系化合物を含有す
る記録層を祖持する基板材料としては、塩化ビニル樹脂
、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリビニルアセクール樹脂等の熱可塑性樹脂、
又はエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエ
ステル樹脂等の熱硬化性樹脂、或いはガラス、金属類を
用いることができる。これらの材料により、成型された
基板の鏡面上あるいは案内溝パターン(プリグループ)
の刻まれた面上に、上記のような方法で薄膜を設置する
ことができる。また、基板が上記材料で成型された平板
の上に光硬化性樹脂を積層し、案内溝パターンが該光硬
化性樹脂層の表面に転写された構造であってもよい。
る記録層を祖持する基板材料としては、塩化ビニル樹脂
、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネー
ト樹脂、ポリビニルアセクール樹脂等の熱可塑性樹脂、
又はエポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエ
ステル樹脂等の熱硬化性樹脂、或いはガラス、金属類を
用いることができる。これらの材料により、成型された
基板の鏡面上あるいは案内溝パターン(プリグループ)
の刻まれた面上に、上記のような方法で薄膜を設置する
ことができる。また、基板が上記材料で成型された平板
の上に光硬化性樹脂を積層し、案内溝パターンが該光硬
化性樹脂層の表面に転写された構造であってもよい。
これら基板上に形成する記録層の膜厚は0.01〜5p
vnの範囲であればよく、好ましくは0.05〜1岬の
範囲である。更に、反射層、保護層等を設けてディスク
状あるいはシート状の光学的情報記録媒体を構成するが
、本発明はそれら構成の如何は問わない。
vnの範囲であればよく、好ましくは0.05〜1岬の
範囲である。更に、反射層、保護層等を設けてディスク
状あるいはシート状の光学的情報記録媒体を構成するが
、本発明はそれら構成の如何は問わない。
こうして作製した、本発明の光学的情報記録媒体は、7
00r+n+から850nmの近赤外領域において大き
な吸収を示し、同領域で20%〜50%の高い反射率を
示す。
00r+n+から850nmの近赤外領域において大き
な吸収を示し、同領域で20%〜50%の高い反射率を
示す。
本発明の光学的情報記録媒体に、レーザー光線を照射す
ることにより、該照射部分にピントが形成され情報の記
録及び再生を行うことかできるが、用いるレーザー光は
、記録層の吸収波長に応じてNz、 He Ne、
Ar、ルビー、色素、半導体等の各レーザー光を選ぶこ
とができる。中でもGa−Al−As半導体レーザー(
発振波長780nm)などの近赤外領域に発振波長を有
するレーザーを用いるシステムが好適である。
ることにより、該照射部分にピントが形成され情報の記
録及び再生を行うことかできるが、用いるレーザー光は
、記録層の吸収波長に応じてNz、 He Ne、
Ar、ルビー、色素、半導体等の各レーザー光を選ぶこ
とができる。中でもGa−Al−As半導体レーザー(
発振波長780nm)などの近赤外領域に発振波長を有
するレーザーを用いるシステムが好適である。
以下に実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
実施例I
Zh、Org、Khim、、↓、 101(I968)
の記述に準じて6−アニリツーナフト(2,3−c )
アクリダン−5,8,14−)リオンを合成した。得ら
れた暗緑色固体は285〜287℃に融点を持ち、トリ
クロロベンゼンについて吸光分析を行った結果、721
nunに強い吸収(ε= 1.3X10’ C/moi
cm)を示した。
の記述に準じて6−アニリツーナフト(2,3−c )
アクリダン−5,8,14−)リオンを合成した。得ら
れた暗緑色固体は285〜287℃に融点を持ち、トリ
クロロベンゼンについて吸光分析を行った結果、721
nunに強い吸収(ε= 1.3X10’ C/moi
cm)を示した。
このフタロイルアクリドン系化合物をアクリル樹脂より
成る基板上に真空蒸着させ、厚さ0.08μの均一な膜
を作成した。この薄膜は745newに極大のある強い
吸収を示し780nmでの基板を通しての反射率は38
%であった。波長780nm。
成る基板上に真空蒸着させ、厚さ0.08μの均一な膜
を作成した。この薄膜は745newに極大のある強い
吸収を示し780nmでの基板を通しての反射率は38
%であった。波長780nm。
ビーム径1.Opのレーザー光を照射したところ鮮明な
ピットが形成された。
ピットが形成された。
上記積層物を60℃、90%RHの環境下に放置し、吸
光特性を経口追跡したが、2000時間の後においても
何ら特性の変化は見られなかった。
光特性を経口追跡したが、2000時間の後においても
何ら特性の変化は見られなかった。
実施例2
実施例1と同様の方法で6−(4−クロロアニリノ)−
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8゜14−
トリオンを合成した。得られた暗緑色固体は300℃以
上に融点を持ち、トリクロロベンゼンについて吸光度分
析を行った結果、717nmに強い吸収(ε= 1.3
X10’ C/mol−cm)を示した。
ナフト(2,3−c )アクリダン−5,8゜14−
トリオンを合成した。得られた暗緑色固体は300℃以
上に融点を持ち、トリクロロベンゼンについて吸光度分
析を行った結果、717nmに強い吸収(ε= 1.3
X10’ C/mol−cm)を示した。
このフタロイルアクリドン系化合物とポリスチレン樹脂
とを重量比1:1でトリクロロベンゼンに溶解し、エポ
キシ樹脂よりなる基板上にスピンコード法で厚さ0.1
μの均一な膜を作成した。この薄膜は743 nmに
極大のある強い吸収を示し、780nmでの基板を通し
ての反射率は32%であった。波長780nm 、ビー
ム径1.Otrmのレーザー光を照射したところ鮮明な
ピットが形成された。
とを重量比1:1でトリクロロベンゼンに溶解し、エポ
キシ樹脂よりなる基板上にスピンコード法で厚さ0.1
μの均一な膜を作成した。この薄膜は743 nmに
極大のある強い吸収を示し、780nmでの基板を通し
ての反射率は32%であった。波長780nm 、ビー
ム径1.Otrmのレーザー光を照射したところ鮮明な
ピットが形成された。
上記積層物を60℃、90%R)lの環境下に放置し、
吸光特性を経口追跡したが、2000時間の後において
も何ら特性の変化は見られなかった。
吸光特性を経口追跡したが、2000時間の後において
も何ら特性の変化は見られなかった。
実施例3
実施例1と同様の方法で6−(4−メトキシアニリノ)
−ナフト(2,3−c )アクリダン−5゜8.14−
1−リオンを合成した。得られた暗緑色固体は300℃
以上に融点を持ち、トリクロロベンゼンについて吸光度
分析を行った結果、732n111に強い吸収(ε−1
,2X10’ j2/mol ・cm)を示した。
−ナフト(2,3−c )アクリダン−5゜8.14−
1−リオンを合成した。得られた暗緑色固体は300℃
以上に融点を持ち、トリクロロベンゼンについて吸光度
分析を行った結果、732n111に強い吸収(ε−1
,2X10’ j2/mol ・cm)を示した。
このフタロイルアクリドン系化合物とポリスチレン樹脂
とを重量比1:1でトルエンに溶解し、アクリル樹脂よ
りなる基板上にスピンコード法で厚さ0.1 μの均一
な膜を作成した。この薄膜は755 nmに極大のある
強い吸収を示し780nmでの基板を通しての反射率は
36%であった。
とを重量比1:1でトルエンに溶解し、アクリル樹脂よ
りなる基板上にスピンコード法で厚さ0.1 μの均一
な膜を作成した。この薄膜は755 nmに極大のある
強い吸収を示し780nmでの基板を通しての反射率は
36%であった。
波長780nm 、ビーム径1.Otmのレーザー光を
照射したところ鮮明なピットが形成された。
照射したところ鮮明なピットが形成された。
上記積層物を60℃、90%RHの環境下に放置し、吸
光特性を経口追跡したが、2000時間の後においても
何ら特性の変化は見られなかった。
光特性を経口追跡したが、2000時間の後においても
何ら特性の変化は見られなかった。
本発明の光学的情報記録媒体は、前記のように、特定の
フタロイルアクリドン系化合物を記録層に用いるが、こ
のものは、種々の有機溶媒に溶解することができ、溶液
塗工法により、適当な基板上に容易に薄膜を形成する。
フタロイルアクリドン系化合物を記録層に用いるが、こ
のものは、種々の有機溶媒に溶解することができ、溶液
塗工法により、適当な基板上に容易に薄膜を形成する。
得られた薄膜は近赤外領域の光に対して好適な吸収スペ
クトル及び高い感度を有しており、光学的情報記録媒体
として好適に用いることができる。
クトル及び高い感度を有しており、光学的情報記録媒体
として好適に用いることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 基板上に情報記録層を設けてなる光学的情報記録媒
体において、該情報記録層が次式(I)で表されるフタ
ロイルアクリドン系化合物を含有するものであることを
特徴とする光学的情報記録媒体。 ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(I) 〔式中、R^1は水素原子、炭素数1〜20のアルキル
基、アシル基、芳香族炭化水素基、アミノ基、置換アミ
ノ基のいずれかを表し、R^2は水素原子、置換されて
も良いアルキル基、アルケニル基、もしくは芳香族炭化
水素基のいずれかを表し、X^1〜X^9は水素原子、
ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換されても良い
アルキル基、アルケニル基、アシル基もしくは芳香族炭
化水素基のいずれかを表し、これらは同一であっても相
異なるものであってもよい。〕
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61225463A JPS6381092A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 光学的情報記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61225463A JPS6381092A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 光学的情報記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6381092A true JPS6381092A (ja) | 1988-04-11 |
Family
ID=16829722
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61225463A Pending JPS6381092A (ja) | 1986-09-24 | 1986-09-24 | 光学的情報記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6381092A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014192522A1 (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-04 | 富士フイルム株式会社 | 記録材料および光情報記録媒体 |
-
1986
- 1986-09-24 JP JP61225463A patent/JPS6381092A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014192522A1 (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-04 | 富士フイルム株式会社 | 記録材料および光情報記録媒体 |
JPWO2014192522A1 (ja) * | 2013-05-27 | 2017-02-23 | 富士フイルム株式会社 | 記録材料および光情報記録媒体 |
US9792944B2 (en) | 2013-05-27 | 2017-10-17 | Fujifilm Corporation | Recording material and optical information recording medium |
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