JPS6369722A - ガラスの製造方法 - Google Patents

ガラスの製造方法

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Publication number
JPS6369722A
JPS6369722A JP21090486A JP21090486A JPS6369722A JP S6369722 A JPS6369722 A JP S6369722A JP 21090486 A JP21090486 A JP 21090486A JP 21090486 A JP21090486 A JP 21090486A JP S6369722 A JPS6369722 A JP S6369722A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
porous body
glass
sintering
porous
gel
Prior art date
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Pending
Application number
JP21090486A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshihiro Nakajima
好啓 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPS6369722A publication Critical patent/JPS6369722A/ja
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  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はガラスの製造方法に関する。
〔従来の技術〕
従来のTlO2ガラスの製造方法は、(1)7レームハ
イドロリシス法を用い、Sin!υ4とT 110 n
、を原料とし、特殊な炉を用いて、1750℃以上の高
湿で製造するというもの(D、O,5chu、ttzら
、Amorph、oue  Metals’、John
  Wileyand   5ons   工nc  
   New   York   andLondon
(1972)P、453 )や、(2)ゾル−ゲル法用
い、アルキルチタネートとアルキルシリケートの混合液
を加水分解して得たゲルを加熱するという方法や、アル
キルシリケートを加水分解し、微粉末シリカを添加して
得られるシリカゾルをゲル化させて得たゲルを加熱する
ことによって得られる多孔質体をTi含有溶液に浸し、
Tiを拡散させた後、焼結し無孔化するという方法(特
願昭6l−134198)であった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、前述の従来の(1)の方法では、合成中終始1
750℃以上の高温処理が必要であり、エネルギー的に
不利で・得られる製品が高コストになってしまい、かつ
、得られる製品が気泡を含みやすく、前述の従来の(2
)の方法では、ガラスが小片でしか得られないという問
題点を有する。また・前述の従来の(3)の方法では、
厚みのあるガラスを得ようとすると、ガラス中にTiの
濃度分布を生じてしまうという問題点を有する。
そこで、本発明は、そのような問題点を解決するもので
、その目的とするところは、比較的低温で、容易に大型
のT i O2を含有する高品質なガラスを製造する方
法を提供するところにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のガラスの製造方法は、多孔質体をTi含有溶液
に浸積し、超音波照射を行うことにより、多孔質体にT
iを拡散させた後、Tiを拡散させた多孔質体を焼結し
・無孔化することによって、TlO2−13102ガラ
スを得ることを特徴とする。
〔実施例〕
実施例1 精製した市販のエチルシリケート3328v(16モル
)に002規定の塩酸2624idを加え、激しく攪拌
して加水分解した後、微粉末シリカ1184 r (1
9,2モル)を添加し、1時間攪拌した。その後、28
 KHzの超音波照射による分散を1時間行った。この
溶液を以下シリカゾルという。
前記シリカゾルを01規定のアンモニア水を用いて、p
H4,0に調整した後、ポリプロピレン製容器(幅20
cmX20cmX高さ8 cm )に厚み4 cmにな
るように移し入れ、7タをして密閉した。
pH調整してから2時間後にゲル化が起こり、ウェット
ゲルが得られた。
前記ウェットゲルを密閉状態で2日間熟成し、その後0
.4%の開口率をもったフタにとりかえ、60℃で乾燥
させたところ、14日間で室温に放置しても割れない安
定なドライゲル(16cmX16cm X 2.4 C
Tg )が得られた。
次に前記ドライゲルを焼結炉に入れ、900℃まで昇温
し、この温度で10時間保持して多孔質体を得た。
前記多孔質体をチタニウム−n−ブトキシドのエタノー
ル溶液に浸し、1時間超音波照射を行い、多孔質体中に
Tiを拡散させた後、60℃で乾燥させ、Tiを拡散さ
せた多孔質体を得た0前記Tiを拡散させた多孔質体を
再び焼結炉に入れ、1400℃まで昇温し、この温度で
1時間保持すると無孔化し、透明なガラス体(12cm
×12備X 2 car )が得られた。
得られたガラスの表面と内部から小片を切り出し、T 
i O,含有量を工ap(工nduotivelyCo
upled  P:Lasma)発光分光分析で測定し
たところ、表面、内部ともに、重量比で5%で、ガラス
中のTiO□濃度は均一であることがわかった。
また、熱膨張係数は・2. OX 10−7 /’Oで
あった。
従って、本実施例で得られるガラスの熱膨張係数は、通
常の石英ガラス(5,5X10−7/℃)より小さくな
っていることがわかった。
比較例1 実施例1と同様な方法で得られたドライゲルを焼結炉に
入れ、900℃まで昇温し、この温度で10時間保持し
た後・1400℃まで昇温し、この温度で1時間保持す
ると無孔化し、透明なガラス体(12CinX 12c
m×2cm )が得られたO得られたガラスのTlO2
含有量をIOP発光分光分析で測定したところ、検出さ
れなかった。また、熱膨張係数は、5.5X10−7/
’Oで、通常の石英ガラスと同一であった0 比較例2 実施例1と同様な方法で得られた多孔質体をチタニウム
−n−ブトキシドのエタノール溶液に浸し、1時間放置
して、多孔質体中にTiを拡散させた後、60℃で乾燥
させ、Tiを拡散させた多孔質体を得た。
前記Tiを拡散させた多孔質体を再び焼結炉に入れ、1
400℃まで昇温し、との温度で1時間保持すると無孔
化し、透明なガラス体(12cm×12cm×2cm)
が得られた。
得られたガラスの表面と内部から小片を切り出し、Ti
0.含有量を工op発光分光分析で測定したところ、重
量比で、表面は5%、内部は2%で、ガラス中のTlO
2濃度は・不均一であることがわかった。
実施例2 実施例1と同様な方法で得られた多孔質体を硫酸第二チ
タンの水溶液に浸し、2時間超音波照射を行い、多孔質
体にTiを拡散させた後、60℃で乾燥させ、Tiを拡
散させた多孔質体を得た〇前記Tiを拡散させた多孔質
体を再び焼結炉に入れ、1400℃まで昇温し、この温
度で1時間保持すると無孔化し、透明なガラス体(12
crn×12cmX2cm)が得られた。
得られたガラスの表面と内部から小片を切り出し、Ti
O2含有量を工op発光分光分析で測定したところ、表
面、内部ともに、重量比で4%であった。また、熱膨張
係数は、1. OX 10−77℃であった。従って、
本実施例で得られるガラスの熱膨張係数は、通常の石英
ガラスより極めて小さくなっていることがわかった。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明によれば、アルキルシリケー
トを加水分解し、微粉末シリカを添加して得られるシリ
カゾルをゲル化させて得られるウェットゲルを乾燥して
ドライゲルとした後、焼結することによって得られる多
孔質体をTi含有溶液に浸し、超音波照射を行い、Ti
の拡散した多孔質体を作り、前記Tiの拡散した多孔質
体を焼結し、無孔化することにより、TiO2を含有す
る大型で高品質なガラスを、従来に比べ、低温処理で得
ることができるという効果を有する。また、本発明で得
られるTiO2−8i○2ガラスは、石英ガラスに比べ
熱による伸縮が小さいので、大口径望遠鏡や、集積度を
高めるためにIC用基板に応用する等の用途が考えられ
る。
以  上

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)多孔質体をTi含有溶液に浸積し、超音波照射を
    行うことにより、多孔質体にTiを拡散させた後、Ti
    を拡散させた多孔質体を焼結し、無孔化することによっ
    て、TiO_2−SiO_2ガラスを得ることを特徴と
    するガラスの製造方法。
  2. (2)前記多孔質体を以下の工程で製造することを特徴
    とする特許請求の範囲第一項記載のガラスの製造方法。 a)アルキルシリケートを加水分解し、微粉末シリカを
    添加して、シリカゾルを合成する工程。 b)前記シリカゾルのpHを調整してゲル化させ、ウェ
    ットゲルを得る工程。 c)前記ウェットゲルを乾燥してドライゲルを得る工程
    。 d)前記ドライゲルを焼結して多孔質体を得る工程。
JP21090486A 1986-09-08 1986-09-08 ガラスの製造方法 Pending JPS6369722A (ja)

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