JPS6361880A - セメント焼成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ この発明はセメント焼成装置、詳しくは、セメント原料
を、流動層型の炉または噴流層型の炉を用いて造粒し焼
成するセメント焼成装置δに関するものである。

［従来の技術］ 従来から知られているこの種の装置として、第３図に示
すようなセメント焼成装置がある（特公昭０ｉｌ）−１
３７３２号四肢参照）。

第３図において、燃焼排ガスＧによって、サイクロンＣ
１，Ｃ２，Ｃ３，Ｃ４からなるサスペンションブレヒー
タ３で予熱されたセメント原料Ｃの全Ｊ、ｉを、炉１の
流動層または噴流層からなる原料層２因に投入して、造
粒または造粒と焼成とを行なうように構成されていた。

し発明が解決しようとする問題点］ 上記した従来のセメント焼成装置においては、サスペン
ションブレヒータ３でセメント原料Ｃが仮焼される。

つまり、 ＣａＣＯ３＋　　　　ＣａＯ＋　ＣＯｚなる化学反応式
で表わされるところの仮焼（脱炭酸反応）が行なわれる
。ここで、ＣａＯへの反応率が仮焼率である。

そして、セメント原料の全量が上記原料層２内に投入さ
れる従来の装置では、サスペンションプレヒータ３での
セメント原料の仮焼率が低いため、炉１の原料層２内で
仮焼が大きく進むので、原料供給量の変動に伴なって、
造粒温度が激しく変動し、炉ｌの安定運転がむずかしい
。

また、吸熱反応である仮焼が炉ｌの原料層２内で行なわ
れることにより、原料層２内での造粒または焼成速度が
小さく、原料の層内滞留時間を長くとる必要があり、所
期の造粒率あるいは焼成率が悪い。

さらに、原料の脱炭酸反応（吸熱反応）のために、多量
の熱が消費されるため、原料層２内に形成される高温域
が形成されにくく、造粒粒径が大きくなりにくいという
問題があった。

この発明は上記したような従来の問題点に鑑みてなされ
たもので、炉の高温フリーボード部を有効に利用して原
料の仮焼率を高めることによって、安定運転および造粒
率あるいは焼成率の向上を図り得るセメント焼成装置を
提供することを目的としている。

［問題点を解決するための手段］ 上記の目的を達成するために、この発明に係るセメント
焼成装置は、予熱されたセメント原料を、炉のフリーボ
ード部に投入する第１の投入口と、上記フリーボード部
から排ガスとともに排出された仮焼済のセメント原料を
捕集し、その捕集されたセメント原料を炉の流動層また
は噴流層からなる原料層に投入する第２の投入【コとを
備えている。

［作用］ この発明によれば、炉の高温のフリーボード部に、予熱
されたセメント原料が投入されることにより、排ガスの
保有熱を利用して原料の仮焼率が向上する。

このようにして仮焼率が高められたセメント原料は、仮
焼率向上のために作用した排ガスとともに排出され、そ
の排出されたセメント原料が捕集されて炉の原料層に再
度瓜え２ｈズ、造粒または造粒と焼成されるので、セメ
ント原料の供給量の変動によっても造粒温度の変動は非
常に少ない。

したがって、炉の安定運転が可能となる。

［実施例］ 以下、この発明の実施例を図面にしたがって説明する。

第１図は、この発明の第１の実施例を示す。

第１図において、セメント原料Ｃは、噴流層型造粒炉１
の燃焼排ガスＧによって、サイクロンＣＩ、Ｃ２，Ｃ３
，Ｃ４からなるサスペンションプレヒータ３で予熱され
ながら、サイクロンＣ４→Ｃ３→Ｃ２→Ｃ１と順次移送
される。この予熱されたセメント原料Ｃは、上記炉１の
天井部に形成の第１の投入口２からフリーボード部ＩＡ
に投入され、炉１内の高温燃焼排ガスの保有熱を利用し
て予熱・仮焼される。このフリーボード部ＩＡで仮焼さ
れたセメント原料Ｃは、上記フリーボード部ＬＡの天井
近くの炉壁に形成された第１の排出口５から、上記排ガ
スとともに炉外に排出されて、サイクロン式捕集機６に
接線方向から供給される。この捕集機６内に供給された
仮焼済みセメント原料は、遠心力を利用した比重分離に
よって、上記排ガスから分離されて、第２の投入ロアか
ら炉１の噴流層１４に投入されて造粒される。

上記炉１内で造粒された造粒物Ｈは、炉ｌのコーン部Ｉ
Ｂに形成された第２の排出口１０を経て、マテリアルシ
ールを用いたＬ型の気密排出装置８により流動層焼成炉
９に導入されて、この焼成炉９で焼成される。この焼成
物、すなわち、セメントクリンカＩは、Ｌ型の気密排出
装置１８により、流動層クーラ１１に排出されて冷却さ
れ、シールバルブ１２を介して製品として取り出される
。

上記の流動層型造粒炉１は、上記コー、ン部ＩＢとスロ
ート部ＩＣとの接続部の近傍にバーナ１３を有し、供給
される燃料Ｂ１と上記スロート部１Ｃを上昇する予熱燃
焼用空気Ａ１との混合燃焼によって、上記の仮焼済みセ
メント原料を溶融し、噴流層１４内に浮遊状態で滞留し
ている間に造粒される。また、上記の焼成炉９は、流動
床９Ａの上部にバーナ１５を有し、供給される燃料Ｂ２
と上記流動床９Ａの多数の孔を経て噴出される予熱燃焼
用空気Ａ２との混合燃焼によって、上記造粒物Ｈを焼成
する。

一方、押込みファン１６によって、上記流動層クーラ１
１に供給される低温空気は、この流動層クーラ１１内で
セメントクリンカＩと熱交換され、セメントクリンカ■
を冷却するとともに、予熱される。この予熱された空気
が、上記焼成炉９へ噴出される燃焼用空気Ａ２として使
用され、また、焼成炉９から排出される未燃成分を含ん
だ高温空気が上記スロート部ＩＣを介して上記造粒炉１
に供給される燃焼用空気Ａ１として使用される。図中１
７はフラッパダンパ、１９は吸引ファンである。

なお、上記実施例では、サスペンションプレーヒータ３
で予熱されたセメント原料ｆ料Ｃを、炉１の天井部に形
成した１つの投入口２からフリーボード部ＩＡに投入す
るようにしたが、その投入口２は第１図の点線で示すよ
うに、天井部近くのフリーボード部ＬＡの炉壁に形成し
てもよく、また、天井部と炉壁との両方に形成しても良
い。

第２図は、この発明の第２の実施例を示す。

第２図において、２０は上記噴流型造粒炉ｌのフリーボ
ード部ＩＡの炉壁に取り付けられた仮焼率上昇用バーナ
であり、燃料Ｂ３と燃焼用空気Ａ３との混合燃焼により
、フリーボード部ＩＡの内部温度を一層高め、セメント
原料の仮焼率を第１の実施例の場合よりも、さらに上昇
させることが可能である。

この第２の実施例において、上記仮焼率上昇用バーナ２
０に供給される燃焼用空気Ａ３は、上記の流動層クーラ
１１内で１次冷却されたセメントクリンカＩを２次冷却
するために別途に設厩された流動層クーラ２１に押込み
ファン２２を介して供給され、ここでセメントクリンカ
Ｉとの熱交換により予熱された空気を使用する。その他
の構成は第１の実施例と同様であり、同一部分もしくは
相当部分に同一符号を付して、その詳しい説明を省略す
る。

［発明の効果］ 以上説明したように、この発明によるときは、炉の高温
部であるフリーボード部にセメント原料を投入すること
により、このフリーボード部でセメント原料を予熱・仮
焼して仮焼率を高めることができる。これによって、原
料供給量の変動による造粒温度の変動が非常に小さく、
炉の運転を安定化できる。

また、仮焼率の高い原料が炉内の原料層に投入されるの
で、原料層内での脱炭酸反応のための熱消費が減少し、
炉内に形成されるホットスポットの温度が高くなる。し
たがって、造粒粒径を大きくすることができ、しかも、
上述のように造粒温度の変動が小さいため、アグロメー
ション（粒子の集塊化）の発生が回避でき、かつ、炉の
コーン部の内壁面への粒子の付若も防止できる。

以−Ｌによって、炉の長期安定運転が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の第１の実施例を示す概略構成図、第
２図は第２の実施例を示す概略構成図、第３図は従来例
の概略構成図である。 １・・・噴流層型造粒炉、ＩＡ・・・フリーボード部、
２・・・原料の第１の投入口、３・・・サスペンション
ブレヒータ、５・・・原料の第１の排出口、６・・・捕
集機、７・・・第２の投入口、９・・・流動層焼成炉、
１０・・・第２の排出口、１１・・・流動層ターラ、２
０・・・仮焼率上昇用バーナ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）流動層型または噴流層型の炉を用いてセメント原
   料を造粒し焼成するセメント焼成装置において、予熱さ
   れたセメント原料を、上記炉のフリーボード部に投入す
   る第１の投入口と、投入されてフリーボード部で仮焼さ
   れたセメント原料を上記フリーボード部から排ガスとと
   もに排出する第１の排出口と、排出されたセメント原料
   を捕集する捕集機と、捕集されたセメント原料を炉の流
   動層または噴流層からなる原料層に投入する第２の投入
   口と、上記原料層から処理済みのセメント原料を排出す
   る第２の排出口とを備えたことを特徴とするセメント焼
   成装置。
2. （２）上記炉は、そのフリーボード部に仮焼率上昇用の
   バーナを備えている特許請求の範囲第１項に記載のセメ
   ント焼成装置。