JPS6361256A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子写真複写機、レーザービームプリンター
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関するものであり、更に詳しくは高感度で耐久性の
優れた電子写真感光体に関するものである。
、CRTプリンター、電子写真式製版システムなどの電
子写真応用分野に広く用いることができる電子写真感光
体に関するものであり、更に詳しくは高感度で耐久性の
優れた電子写真感光体に関するものである。
電子写真感光体の光導電材料として、近年、種々の有機
光導電材料の開発が進み実用化がなされているが、これ
らの感光体は一般的に耐久性が低いことが1つの大きな
欠点である。耐久性としては、感度、残留電位、帯電能
、画像ボケなどの電子写真物性面の耐久性、および摺擦
による感光体表面の摩耗やひっかき傷などの機械的耐久
性に大別されるが、特に機械的耐久性に劣ることが感光
体の寿命を決定する大きな要因となっており、機械的耐
久性の優れた感光体の開発が望まれている。また、感光
体の表面層は、特に高湿下、コロナ帯電時に生ずるオゾ
ンによって生成する低抵抗物質の付着、あるいはトナー
のクリーニング不良に基づくフィルミング、融着といっ
た画質劣化を引き起こす要因を持っており、そのため前
記の機械的耐久性とともに、各種の付着物に対する1?
i型性も求められている。
光導電材料の開発が進み実用化がなされているが、これ
らの感光体は一般的に耐久性が低いことが1つの大きな
欠点である。耐久性としては、感度、残留電位、帯電能
、画像ボケなどの電子写真物性面の耐久性、および摺擦
による感光体表面の摩耗やひっかき傷などの機械的耐久
性に大別されるが、特に機械的耐久性に劣ることが感光
体の寿命を決定する大きな要因となっており、機械的耐
久性の優れた感光体の開発が望まれている。また、感光
体の表面層は、特に高湿下、コロナ帯電時に生ずるオゾ
ンによって生成する低抵抗物質の付着、あるいはトナー
のクリーニング不良に基づくフィルミング、融着といっ
た画質劣化を引き起こす要因を持っており、そのため前
記の機械的耐久性とともに、各種の付着物に対する1?
i型性も求められている。
この様な要求を満たすために、即ち、摩耗やひっかき傷
に対する機械的耐久性を向上し、更に離型性、撥水性も
加え、トナー融着等を防止するために潤滑剤を感光体表
面層に分散させると有効であることは公知である。
に対する機械的耐久性を向上し、更に離型性、撥水性も
加え、トナー融着等を防止するために潤滑剤を感光体表
面層に分散させると有効であることは公知である。
しかしながら、潤滑剤を表面層に分散させることによっ
て光の透過率が減少したり、潤滑剤の分散性を改質する
ために補助的に用いる分散剤等の影りによって感度低下
が引きおこされたり、また帯電露光を繰り返した際に明
部電位が変動し安定性に欠けてしまう。などの問題が発
生し、高耐久性でかつ高感度で繰り返し使用時に安定し
た特性を有する感光体の実用化が難しいのが現状であっ
た。
て光の透過率が減少したり、潤滑剤の分散性を改質する
ために補助的に用いる分散剤等の影りによって感度低下
が引きおこされたり、また帯電露光を繰り返した際に明
部電位が変動し安定性に欠けてしまう。などの問題が発
生し、高耐久性でかつ高感度で繰り返し使用時に安定し
た特性を有する感光体の実用化が難しいのが現状であっ
た。
本発明は前記の要求に応える高耐久性を有する電子写真
感光体を提供するものである。即ち、本発明の目的は摺
擦による表面の摩耗やひっかき傷の発生などに対して耐
久性を有し、画像ボケのない高品位の画像が得られる高
耐久性を有する電子写真感光体を提供することにある。
感光体を提供するものである。即ち、本発明の目的は摺
擦による表面の摩耗やひっかき傷の発生などに対して耐
久性を有し、画像ボケのない高品位の画像が得られる高
耐久性を有する電子写真感光体を提供することにある。
本発明の他の目的はクリーニング性が良好で感光体表面
層へのトナー付着のない高耐久性を有する電子写真感光
体を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は
くり返し電子写真プロセスにおいて残留電位の蓄積がな
(常に高品位の画像が得られる高耐久性を有する電子写
真感光体を提供することにある。
層へのトナー付着のない高耐久性を有する電子写真感光
体を提供することにある。さらに、本発明の他の目的は
くり返し電子写真プロセスにおいて残留電位の蓄積がな
(常に高品位の画像が得られる高耐久性を有する電子写
真感光体を提供することにある。
すなわち、本発明は少なくとも感光層の表面に潤滑剤お
よびスチルベン系化合物を含有することを特徴とする電
子写真感光体である。
よびスチルベン系化合物を含有することを特徴とする電
子写真感光体である。
本発明に用いられる潤滑剤は、電子写真感光体の感光層
に含有されることによって感光層の潤滑性を付与させて
、その結果、摺擦による摩耗やひっかき傷などの機械的
耐久性を向上させ、また各種付着物に対する離型性を付
与できる。また本発明に用いられるスチルベン系化合物
は、高感度で帯電露光を繰り返した際の明部電位の安定
性に寄与できる、そしてこれらを組み合わせることによ
って初めて高耐久性の感光体の実用化が可能になった。
に含有されることによって感光層の潤滑性を付与させて
、その結果、摺擦による摩耗やひっかき傷などの機械的
耐久性を向上させ、また各種付着物に対する離型性を付
与できる。また本発明に用いられるスチルベン系化合物
は、高感度で帯電露光を繰り返した際の明部電位の安定
性に寄与できる、そしてこれらを組み合わせることによ
って初めて高耐久性の感光体の実用化が可能になった。
本発明に用いる代表的な副滑剤は、例えば、フッ素系樹
脂粉体、ポリオレフィン系樹脂粉体、シリ−コン樹脂粉
体等の潤滑性樹脂粉体やフッ化カーボンなどが挙げられ
、摩擦係数、撥水性、離型牲の点から特にはフッ素系樹
脂粉体か好ましい。フッ素系樹脂粉体としては、例えば
四フッ化エチレン樹脂粉体、三フッ化塩化エチレン樹脂
粉体、六フッ化エチレンプロピレン樹脂粉体、フッ化ビ
ニル樹脂粉体、フッ化ビニリデン樹脂粉体、フッ化二塩
化エチレン樹脂粉体、およびそれらの共重合体粉体など
が挙げられ、それらの中から一種あるいはそれ以上が適
宜選択されるが、特に四フッ化エチレン樹脂扮体、フッ
化ビニリデン樹脂粉体が好ましい。
脂粉体、ポリオレフィン系樹脂粉体、シリ−コン樹脂粉
体等の潤滑性樹脂粉体やフッ化カーボンなどが挙げられ
、摩擦係数、撥水性、離型牲の点から特にはフッ素系樹
脂粉体か好ましい。フッ素系樹脂粉体としては、例えば
四フッ化エチレン樹脂粉体、三フッ化塩化エチレン樹脂
粉体、六フッ化エチレンプロピレン樹脂粉体、フッ化ビ
ニル樹脂粉体、フッ化ビニリデン樹脂粉体、フッ化二塩
化エチレン樹脂粉体、およびそれらの共重合体粉体など
が挙げられ、それらの中から一種あるいはそれ以上が適
宜選択されるが、特に四フッ化エチレン樹脂扮体、フッ
化ビニリデン樹脂粉体が好ましい。
また、ポリオレフィン系樹脂粉体としては、例えばポリ
エチレン樹脂粉体、ポリプロピレン樹脂粉体、ポリブテ
ン樹脂粉体、ポリヘキセン樹脂粉体などのホモポリマー
樹脂粉体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−
ブテン共重合体などのコポリマー樹脂粉体、これらとヘ
キセンなどの三元共重合体樹脂粉体、更にこれらの熱変
成物の如きポリオレフィン系樹脂粉体などが挙げられ、
それらの中から一種あるいはそれ以上が適宜選択される
が、特にポリエチレン樹脂粉体、ポリプロピレン樹脂粉
体が好ましい。
エチレン樹脂粉体、ポリプロピレン樹脂粉体、ポリブテ
ン樹脂粉体、ポリヘキセン樹脂粉体などのホモポリマー
樹脂粉体、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−
ブテン共重合体などのコポリマー樹脂粉体、これらとヘ
キセンなどの三元共重合体樹脂粉体、更にこれらの熱変
成物の如きポリオレフィン系樹脂粉体などが挙げられ、
それらの中から一種あるいはそれ以上が適宜選択される
が、特にポリエチレン樹脂粉体、ポリプロピレン樹脂粉
体が好ましい。
樹脂の分子量や粉体の粒径は適宜選択することができる
が、粒径に関しては0.1μm−10μmが好ましい。
が、粒径に関しては0.1μm−10μmが好ましい。
本発明に用いるスチルベン系化合物は、下記−般式CI
)で示される。
)で示される。
一般式
式中、R1、R2、R3+ R4及びR5は、それぞれ
、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭
素原子又はヨウ素原子)、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキキシ基等)、Rフ /′ 又は−N (R7及びR8はそれぞれ水素原子、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等)、置換されていてもよいアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチ
ル基等)又はアリール基(例えばフェニル基、ナフチル
基等)を表わすか、あるいはR7とR8とが結合して環
(例えばピペリジン環、ピロリジン環またはモルホリン
環等)を形成してもよい。但しR7とR8とが共に水素
原子となることはない。R7及びR8で表わされるアラ
ルキル基及びアリール基を置換する原子又は基としでは
、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
などのハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基などが
ある。〕を表わすか、あるいは、R1とR2,R2とR
3,R3とR4及びR4とR5の組合せのうち少なくと
も1つの組合せによって、結合するベンゼン環と共に、
置換されていてもよい多環芳香族環(例えばナフタレン
騨、アントラセン環等)又はペテロ環(例えばカルバゾ
ール環、ベンズカルバゾール環、ジベンゾフラン環、ベ
ンゾナフトフラン環等)を形成するのに必要な残基を表
わす。
、水素原子、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭
素原子又はヨウ素原子)、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基等)、
アルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキキシ基等)、Rフ /′ 又は−N (R7及びR8はそれぞれ水素原子、アル
キル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチ
ル基、ヘキシル基等)、置換されていてもよいアラルキ
ル基(例えばベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチ
ル基等)又はアリール基(例えばフェニル基、ナフチル
基等)を表わすか、あるいはR7とR8とが結合して環
(例えばピペリジン環、ピロリジン環またはモルホリン
環等)を形成してもよい。但しR7とR8とが共に水素
原子となることはない。R7及びR8で表わされるアラ
ルキル基及びアリール基を置換する原子又は基としでは
、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
などのハロゲン原子、メチル基、エチル基、プロピル基
、ブチル基などのアルキル基、メトキシ基、エトキシ基
、プロポキシ基、ブトキシ基などのアルコキシ基などが
ある。〕を表わすか、あるいは、R1とR2,R2とR
3,R3とR4及びR4とR5の組合せのうち少なくと
も1つの組合せによって、結合するベンゼン環と共に、
置換されていてもよい多環芳香族環(例えばナフタレン
騨、アントラセン環等)又はペテロ環(例えばカルバゾ
ール環、ベンズカルバゾール環、ジベンゾフラン環、ベ
ンゾナフトフラン環等)を形成するのに必要な残基を表
わす。
R6は水素原子、アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等)又は置換されていてもよ
いフェニル基を表わす。このフェニル基を置換する原子
又は基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ
基、エト・キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのア
ルコキシ基などがある。
基、プロピル基、ブチル基等)又は置換されていてもよ
いフェニル基を表わす。このフェニル基を置換する原子
又は基としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、メトキシ
基、エト・キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などのア
ルコキシ基などがある。
mはO又はlである。
前記一般式CI)で示されるスチルヘン系化合物の具体
例を第1表に示す。
例を第1表に示す。
一般式
第1表
m=oの場合(下記に記述のないRは−■(を表わす)
(1)R3=−CH3R5=−CH3 (2) R3=−CH3 (3)R5−−OC2H5 (4) R3= OCH3 (5) R3=−CCH3R5=−OCH3(6) R
3=−Cf (10) R3=−N (CH2ぺ3) 2 R5
=−cp(11) R3=−N、 CCH2→3) 2
R4=−cp(12) R3=−N (CH2→9)
2 R5=−OCH3(13) R3= N (C
H2<) 2 Rs = 0C2H5(14) R
3−N (CH2→p) 2 R4=−OCH3(1
5) R3= N(CH2+cH3) 2(16) R
3−N (CH3) 2 R6=uN (CH3
) 2(17) R3=−N <c2H5)2 R
6=+N(C2Hs) 2(18) R3= N (
CH3) 2 R5= CI(19)R
3−N(C2H5)2 R5” CH3(2
0) R3= N (CH3) 2(21) R、=
−N (CH3) 2(22) Ra = CH3 (23) Rs = N (CH3) 2
R6= ”3(24) R?−N (CH2つ)
2 (25) R,−−N (CH旨Q) 2R5=−CH
3H3 (43)’R3=−N (Q−C(CH3) 3) 2
(44) R3= N (Q )e CH3(46)
R3= N (Q ) 2 (47) Rs = N (CH3)Q(48) R5
=−N (−4Σ0CH3)2(50) R3=−N
(Q ) Q−CCH3(51) R4=−N (−C
¥OCH3) 2(53) R= −N ((トc g
2(54) R=−N <fニーΣN (CH3)
2) 2(55) R=−N (Q)ζΣN (CH3
) 2(56) R=−N (CH3) CXCH3(
57) R3=−N (CH3)C>C2H5(58)
R3ニーN (CH3てΣN(C2Hs)2(73)
R3=−N(C2H5)2 Cl (75) R3=−N (CH2−O) CH2−Q−
CH3(76) R5=−N (C))CH2つ(77
) R3=−N (−Q ) CH2−○(78) R
3= N (Q ) CH2+CH=(79) R3−
N (Q ) CH2+OCH3(81) R3=−N
(<> ) CH2−α0C2H5(82) R3=
N (Q ) CH2+CR(83) R4=−N
(Q )CH2つ(84) R3=、 N (e CI
! ) CH2べ)(85) R3=−N (ζΣCj
lり 2(86) R、= f、c p l m=4の場合(下記に記述のないRは一トIを表わす)
(87)R,=R2=R3=R4=R5=R6=−I−
1(88) R3−−N (CH3) 2(89)R3
=−N(CzH5)2 (90) R5=−OCH3 C2I(5 2H5 CH3 CH2C■■2 CI−■3 ところで、スチルベン系化合物はそれ自身では低分子量
で成膜性がないため、感光層を形成するには、成膜性を
有する樹脂をバインダーとして併用して使用される。バ
インダー樹脂は成膜性のある高分子化合物であればよい
が、単独でもある程度の硬さを有すること、キャリヤ輸
送を妨害しないことなどの点からポリメタクリル酸エス
テル類、ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリエス
テル、ポリスルホンなどが好ましい。
(1)R3=−CH3R5=−CH3 (2) R3=−CH3 (3)R5−−OC2H5 (4) R3= OCH3 (5) R3=−CCH3R5=−OCH3(6) R
3=−Cf (10) R3=−N (CH2ぺ3) 2 R5
=−cp(11) R3=−N、 CCH2→3) 2
R4=−cp(12) R3=−N (CH2→9)
2 R5=−OCH3(13) R3= N (C
H2<) 2 Rs = 0C2H5(14) R
3−N (CH2→p) 2 R4=−OCH3(1
5) R3= N(CH2+cH3) 2(16) R
3−N (CH3) 2 R6=uN (CH3
) 2(17) R3=−N <c2H5)2 R
6=+N(C2Hs) 2(18) R3= N (
CH3) 2 R5= CI(19)R
3−N(C2H5)2 R5” CH3(2
0) R3= N (CH3) 2(21) R、=
−N (CH3) 2(22) Ra = CH3 (23) Rs = N (CH3) 2
R6= ”3(24) R?−N (CH2つ)
2 (25) R,−−N (CH旨Q) 2R5=−CH
3H3 (43)’R3=−N (Q−C(CH3) 3) 2
(44) R3= N (Q )e CH3(46)
R3= N (Q ) 2 (47) Rs = N (CH3)Q(48) R5
=−N (−4Σ0CH3)2(50) R3=−N
(Q ) Q−CCH3(51) R4=−N (−C
¥OCH3) 2(53) R= −N ((トc g
2(54) R=−N <fニーΣN (CH3)
2) 2(55) R=−N (Q)ζΣN (CH3
) 2(56) R=−N (CH3) CXCH3(
57) R3=−N (CH3)C>C2H5(58)
R3ニーN (CH3てΣN(C2Hs)2(73)
R3=−N(C2H5)2 Cl (75) R3=−N (CH2−O) CH2−Q−
CH3(76) R5=−N (C))CH2つ(77
) R3=−N (−Q ) CH2−○(78) R
3= N (Q ) CH2+CH=(79) R3−
N (Q ) CH2+OCH3(81) R3=−N
(<> ) CH2−α0C2H5(82) R3=
N (Q ) CH2+CR(83) R4=−N
(Q )CH2つ(84) R3=、 N (e CI
! ) CH2べ)(85) R3=−N (ζΣCj
lり 2(86) R、= f、c p l m=4の場合(下記に記述のないRは一トIを表わす)
(87)R,=R2=R3=R4=R5=R6=−I−
1(88) R3−−N (CH3) 2(89)R3
=−N(CzH5)2 (90) R5=−OCH3 C2I(5 2H5 CH3 CH2C■■2 CI−■3 ところで、スチルベン系化合物はそれ自身では低分子量
で成膜性がないため、感光層を形成するには、成膜性を
有する樹脂をバインダーとして併用して使用される。バ
インダー樹脂は成膜性のある高分子化合物であればよい
が、単独でもある程度の硬さを有すること、キャリヤ輸
送を妨害しないことなどの点からポリメタクリル酸エス
テル類、ポリカーボネート、ボリアリレート、ポリエス
テル、ポリスルホンなどが好ましい。
このバインダー中に分散される潤滑剤の含有率は、表面
層改質効果、光透過性、キャリア移動性などの点から、
潤滑剤が含まれている感光層の重量分率で1〜50重量
%が適当であり、特に2〜15重量%が好ましい。
層改質効果、光透過性、キャリア移動性などの点から、
潤滑剤が含まれている感光層の重量分率で1〜50重量
%が適当であり、特に2〜15重量%が好ましい。
本発明の電子写真感光体を製造する場合、基体としては
、基体自体が導電性をもつもの、例えばアルミニウム、
銅、ステンレス、バナジウム等を用いることができ、そ
の他にアルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化
スズ合金等を真空蒸着法によって被膜形成した層を有す
るプラスチックを適当なバインダーとともにプラスチッ
クの上に被覆した基体、導電性粒子をプラスチックや紙
に含浸した基体や導電性ポリマーを有するプラスチック
等を用いることができる。
、基体自体が導電性をもつもの、例えばアルミニウム、
銅、ステンレス、バナジウム等を用いることができ、そ
の他にアルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム−酸化
スズ合金等を真空蒸着法によって被膜形成した層を有す
るプラスチックを適当なバインダーとともにプラスチッ
クの上に被覆した基体、導電性粒子をプラスチックや紙
に含浸した基体や導電性ポリマーを有するプラスチック
等を用いることができる。
導電層と感光層の中間に、5バリヤ一機能と接着機能を
もつ下引層を設けることもできる。下引層は、カゼイン
、ポリビニルアルコール、ニトロセルロール、フェノー
ル樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチン、酸化ア
ルミニウムなどによって形成できる。
もつ下引層を設けることもできる。下引層は、カゼイン
、ポリビニルアルコール、ニトロセルロール、フェノー
ル樹脂、ポリアミド、ポリウレタン、ゼラチン、酸化ア
ルミニウムなどによって形成できる。
下引層の膜厚は、0.1μm〜40μm1好ましくは、
0.3μm〜3μmが適当である。
0.3μm〜3μmが適当である。
電荷発生物質としては、例えばセレン−テルル、ピリリ
ウム、チオピリリウム系染料、フタロシアニン系顔料、
アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピ
ラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、アゾ
顔料、インジゴ顔料、キナクリドン系顔料、非対称キノ
シアニン、キノシアニンなどを用いることができる。
ウム、チオピリリウム系染料、フタロシアニン系顔料、
アントアントロン顔料、ジベンズピレンキノン顔料、ピ
ラントロン顔料、トリスアゾ顔料、ジスアゾ顔料、アゾ
顔料、インジゴ顔料、キナクリドン系顔料、非対称キノ
シアニン、キノシアニンなどを用いることができる。
潤滑剤の分散法としては一般的な分散手段、即ち、ホモ
ジナイザー、超音波、ボールミル、振動ボールミル、サ
ンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いること
ができる。適当な溶剤に溶解したバインダーに潤滑剤を
加えた後、上記分散法により分散する。この分散液に、
バインダーとスチルベン系化合物とを溶剤に溶解した溶
液を適ffi Pt合し、潤滑剤とスチルベン系化合物
を含有する表面塗布液を得る。
ジナイザー、超音波、ボールミル、振動ボールミル、サ
ンドミル、アトライター、ロールミルなどを用いること
ができる。適当な溶剤に溶解したバインダーに潤滑剤を
加えた後、上記分散法により分散する。この分散液に、
バインダーとスチルベン系化合物とを溶剤に溶解した溶
液を適ffi Pt合し、潤滑剤とスチルベン系化合物
を含有する表面塗布液を得る。
塗工は、マイヤーバーコーティング法、ブレードコーテ
ィング法等の公知のコーティング法を用いて行なえばよ
い。乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方
法が好ましい。加熱乾燥は、30°C〜200°Cで5
分〜2時間の範囲の時間で静止または送風下で行なうこ
とができる。
ィング法等の公知のコーティング法を用いて行なえばよ
い。乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥する方
法が好ましい。加熱乾燥は、30°C〜200°Cで5
分〜2時間の範囲の時間で静止または送風下で行なうこ
とができる。
以下実施例にて本発明の詳細な説明する。
実施例1
80φX360mmのアルミニウムシリンダを基体とし
、これにポリアミド樹脂(商品名:アミラン0M−80
00,東し製)の5%メタノール溶液を侵漬法で塗布し
、1μm厚の下引き居をもうけた。
、これにポリアミド樹脂(商品名:アミラン0M−80
00,東し製)の5%メタノール溶液を侵漬法で塗布し
、1μm厚の下引き居をもうけた。
次に下記構造式のジスアゾ顔料を10一部(重量部、以
下同様)、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレ
ツクBXL、積水化学製)6部およびシクロへキサノン
100部を1φガラスピーズを用いたサンドミル装置で
20時間分散した。この分散液にテトラヒドロフラン5
0〜100(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、1
00°C,5分間の乾燥をして0.15μm厚の電荷発
生層を形成した。
下同様)、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレ
ツクBXL、積水化学製)6部およびシクロへキサノン
100部を1φガラスピーズを用いたサンドミル装置で
20時間分散した。この分散液にテトラヒドロフラン5
0〜100(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、1
00°C,5分間の乾燥をして0.15μm厚の電荷発
生層を形成した。
次に潤滑剤としてフッ素系樹脂粉体であるポリ四フッ化
エチレン粉体(商品名ニルブロンL−2ダイキン工業製
)、電荷輸送物質として前記スチルベン系化合物N o
、 1 、結着剤バインダーとしてビスフェノールZ
型子リカーボネート樹脂(奇人化成製)を用意した。そ
してポリカーボネート樹脂20部と前記スチルベン系化
合物20部をシクロヘキサノン100部に溶解し、これ
に前記ポリ四フッ化エチレン粉体6部を加え、ステンレ
ス製ボールミルで50時間分散し、その後THF20部
を加えて電荷輸送塗布液を調整した。この液を前記電荷
発生層上に塗布し、100°C90分熱風乾燥して20
μm厚の電荷輸送層を形成した。
エチレン粉体(商品名ニルブロンL−2ダイキン工業製
)、電荷輸送物質として前記スチルベン系化合物N o
、 1 、結着剤バインダーとしてビスフェノールZ
型子リカーボネート樹脂(奇人化成製)を用意した。そ
してポリカーボネート樹脂20部と前記スチルベン系化
合物20部をシクロヘキサノン100部に溶解し、これ
に前記ポリ四フッ化エチレン粉体6部を加え、ステンレ
ス製ボールミルで50時間分散し、その後THF20部
を加えて電荷輸送塗布液を調整した。この液を前記電荷
発生層上に塗布し、100°C90分熱風乾燥して20
μm厚の電荷輸送層を形成した。
この様に製造した感光体をキャノン製複写機NP−35
25に装着し、暗部電位VDが700vになる様に調整
後3.5ルツクス・秒の露光を与えた時の電荷V (L
)を測定した。その後、20万枚の耐久試験を行ない、
暗部電位VD、明部電位Vt、の変化を測定した。第2
表に結果を示す。又、同時に画像評価も行なったが20
万枚後もトナー融着やキズ等による画像汚染は発生せず
、常に鮮明なコピーが得られた。この時の感光体の膜厚
減少量は1,5μmであった。
25に装着し、暗部電位VDが700vになる様に調整
後3.5ルツクス・秒の露光を与えた時の電荷V (L
)を測定した。その後、20万枚の耐久試験を行ない、
暗部電位VD、明部電位Vt、の変化を測定した。第2
表に結果を示す。又、同時に画像評価も行なったが20
万枚後もトナー融着やキズ等による画像汚染は発生せず
、常に鮮明なコピーが得られた。この時の感光体の膜厚
減少量は1,5μmであった。
実施例2〜6
実施例1のスチルベン系化合物に代えて、第1表に示し
たスチルベン系化合物(No、17.50. 71゜9
0、98)を用いて、他は同様にして感光体を製造し、
同様にして評価を行なった。電位変化の結果を第2表に
示す。20万枚耐久後の画像は感光体lと同様いずれも
鮮明であった。
たスチルベン系化合物(No、17.50. 71゜9
0、98)を用いて、他は同様にして感光体を製造し、
同様にして評価を行なった。電位変化の結果を第2表に
示す。20万枚耐久後の画像は感光体lと同様いずれも
鮮明であった。
実施例7,8
実施例1のポリ四フッ化エチレン粉体に代えてポリフッ
化ビニリデン粉体(カイカに一301F、ペンワルド製
)を用い、スチルベン系化合物具体例No、1のスチル
ベン系化合物に代えて第1表に示すスチルベン系化合物
No、40.93を用いて他は同様にして感光体を製造
、評価した。電位変化の結果を第2表に示す。20万枚
耐久後の画像は感光体lと同様いずれも鮮明であり膜厚
減少量も2μm以内であった。
化ビニリデン粉体(カイカに一301F、ペンワルド製
)を用い、スチルベン系化合物具体例No、1のスチル
ベン系化合物に代えて第1表に示すスチルベン系化合物
No、40.93を用いて他は同様にして感光体を製造
、評価した。電位変化の結果を第2表に示す。20万枚
耐久後の画像は感光体lと同様いずれも鮮明であり膜厚
減少量も2μm以内であった。
第2表
実施例9
実施例1で用いたジスアゾ顔料10部、ビスフェノール
A型ポリカーボネート(商品名ニューピロンS−200
0、三菱ガス化学製)10部およびジクロルメタン50
部、テトラヒドロフラン50部をlφガラスピーズを用
いたサンドミル装置で20時間分散した。
A型ポリカーボネート(商品名ニューピロンS−200
0、三菱ガス化学製)10部およびジクロルメタン50
部、テトラヒドロフラン50部をlφガラスピーズを用
いたサンドミル装置で20時間分散した。
次に前記ポリカーボネートjM脂20部とスチルベン系
化合物No、65の電荷輸送物質20部をジクロルメタ
ン50部とテトラヒドロフラン50部の混合溶剤中に溶
解し、これにポリ四フッ化エチレン粉体6部を加えステ
ンレスボールミルで50時間分散した。この分散液を前
述のジスアゾ顔料分散液中に入れ、感光材溶液を調整し
た。
化合物No、65の電荷輸送物質20部をジクロルメタ
ン50部とテトラヒドロフラン50部の混合溶剤中に溶
解し、これにポリ四フッ化エチレン粉体6部を加えステ
ンレスボールミルで50時間分散した。この分散液を前
述のジスアゾ顔料分散液中に入れ、感光材溶液を調整し
た。
この感光材溶液を実施例1と同様にして作成した下引き
層上に塗布し100°060分乾燥させ20μm厚の感
光層を形成した。
層上に塗布し100°060分乾燥させ20μm厚の感
光層を形成した。
この感光体を実施例1と同様にして画像評価を行なった
が、20万枚耐久後の画像は良好であった。
が、20万枚耐久後の画像は良好であった。
比較例1〜3
実施例1のスチルベン系化合物に代えて、下記A〜Gの
スチルベン系化合物を用いて、他は同様にし化合物トS
α CH3 化合物Nα て感光体を製造した。測定結果を第3表に示したが、初
期感度も低く、又耐久によるvL変化が大きいため耐久
2万枚程度から画像上にカブリが発生し始め5万枚で全
面カブリとなったため、評価を打ち切った。但し、トナ
ー融着やキズ等による画像汚染は全(認められなかった
。
スチルベン系化合物を用いて、他は同様にし化合物トS
α CH3 化合物Nα て感光体を製造した。測定結果を第3表に示したが、初
期感度も低く、又耐久によるvL変化が大きいため耐久
2万枚程度から画像上にカブリが発生し始め5万枚で全
面カブリとなったため、評価を打ち切った。但し、トナ
ー融着やキズ等による画像汚染は全(認められなかった
。
比較例4
スチルベン系化合物No、25.10部 ビスフェノー
ルZ型ポリカーボネート樹脂(奇人化成製)10部をシ
クロへキサノン70部に溶解、電荷輸送層溶液を調整し
た。次にこの溶液を実施例1と同様にして作成した電荷
発生層上に塗布し、100°C90分熱風乾燥して20
μm厚の電荷輸送層を形成した。この様に製造した感光
体を実施例1と同様に評価を行なった(第3表)が、実
施例1〜8の感光体に比較し感光体の膜厚減少量が大き
いため耐久とともにVDの低下、VLのアップがおこり
、耐久5万枚程度で画像にカブリが発生した。この時の
膜厚減少量は5μmであった。又、耐久2万枚ごろから
ドラム傷がつきはじめ、それを原因とするトナー融着が
おこり、画像上に黒スジが発生した。
ルZ型ポリカーボネート樹脂(奇人化成製)10部をシ
クロへキサノン70部に溶解、電荷輸送層溶液を調整し
た。次にこの溶液を実施例1と同様にして作成した電荷
発生層上に塗布し、100°C90分熱風乾燥して20
μm厚の電荷輸送層を形成した。この様に製造した感光
体を実施例1と同様に評価を行なった(第3表)が、実
施例1〜8の感光体に比較し感光体の膜厚減少量が大き
いため耐久とともにVDの低下、VLのアップがおこり
、耐久5万枚程度で画像にカブリが発生した。この時の
膜厚減少量は5μmであった。又、耐久2万枚ごろから
ドラム傷がつきはじめ、それを原因とするトナー融着が
おこり、画像上に黒スジが発生した。
第3表
実施例10〜12
潤滑剤としてポリオレフィン系樹脂粉体であるポリエチ
レン粉体(商品名:フローセン13142製鉄化学製)
、電荷輸送物質としてスチルベン系化合物No、2.
35.82、結着剤バインダーとしてビスフェノールZ
型ポリカーボネート虜脂(奇人化成製)を用いて、実施
例1と同様な方法で感光体を製造し、電位変化を測定し
た。その結果を第4表に示す。また、同時に画像評価も
行なったが20万枚後もトナー融着やキズ等による画像
汚染は発生せず常に鮮明なコピーが得られた。この時の
感光体の膜厚減少量は2μmであった。
レン粉体(商品名:フローセン13142製鉄化学製)
、電荷輸送物質としてスチルベン系化合物No、2.
35.82、結着剤バインダーとしてビスフェノールZ
型ポリカーボネート虜脂(奇人化成製)を用いて、実施
例1と同様な方法で感光体を製造し、電位変化を測定し
た。その結果を第4表に示す。また、同時に画像評価も
行なったが20万枚後もトナー融着やキズ等による画像
汚染は発生せず常に鮮明なコピーが得られた。この時の
感光体の膜厚減少量は2μmであった。
第4表
比較例5,6
実施例1O〜12のスチルベン系化合物に代えて比較例
1〜3に記載のスチルベン系化合物A、Dを用いる以外
は実施例10〜12と同様な方法で感光体を製造した。
1〜3に記載のスチルベン系化合物A、Dを用いる以外
は実施例10〜12と同様な方法で感光体を製造した。
電位変化の測定結果を第5表に示したが、比較例1〜3
と同様に初期感度も低く、耐久によるVL変化が大きい
ため、耐久2万枚程度からカブリが発生した。
と同様に初期感度も低く、耐久によるVL変化が大きい
ため、耐久2万枚程度からカブリが発生した。
第5表
実施例13〜15
潤滑剤としてシリコーン樹脂粉体(XC−99−501
、東芝シリコーン製)、電荷輸送物質としてスチルベン
系化合物No、3.56.93を用いる以外は実施例1
と同様な方法で感光体を製造し電位変化の測定を行った
。その結果を第6表に示す。20万枚耐久後の画像は良
好だった。
、東芝シリコーン製)、電荷輸送物質としてスチルベン
系化合物No、3.56.93を用いる以外は実施例1
と同様な方法で感光体を製造し電位変化の測定を行った
。その結果を第6表に示す。20万枚耐久後の画像は良
好だった。
第6表
比較例7,8
実施例13〜15のスチルベン系化合物に代えて比較例
1〜3に記載のスチルベン系化合物B、Eを用いる以外
は実施例13〜15と同様な方法で感光体を製造した。
1〜3に記載のスチルベン系化合物B、Eを用いる以外
は実施例13〜15と同様な方法で感光体を製造した。
その結果を第7表に示したが、比較例1〜3と同様に感
度的にも低く、2万枚程度からカブリが発生した。
度的にも低く、2万枚程度からカブリが発生した。
第7表
実施例16〜18
潤滑剤としてフッ化カーボン(ダイキン工業製)、電荷
輸送物質としてスチルベン系化合物No、3.45゜8
6を用いる以外は実施例1と同様な方法で感光体を製造
し、電位変化の測定を行った。その結果を第8表に示す
。20万枚耐久後の画像は良好であった。
輸送物質としてスチルベン系化合物No、3.45゜8
6を用いる以外は実施例1と同様な方法で感光体を製造
し、電位変化の測定を行った。その結果を第8表に示す
。20万枚耐久後の画像は良好であった。
第8表
比較例9.10
実施例16〜18のスチルベン系化合物に代えて比較例
1〜3に記載のスチルベン系化合物C,Fを用いる以外
は実施例16〜18と同様な方法で感光体を製造した。
1〜3に記載のスチルベン系化合物C,Fを用いる以外
は実施例16〜18と同様な方法で感光体を製造した。
その結果を第9表に示したが、比較例1〜3と同様に感
度的にも満足のいくものではなく、2万枚耐久程度から
カブリが発生した。
度的にも満足のいくものではなく、2万枚耐久程度から
カブリが発生した。
第9表
〔発明の効果〕
以上、本発明による如<、損滑剤とスチルベン系化合物
とを含有する感光層は高感度で残留電位が少なく、さら
に帯電露光を繰り返した際の明部電位の上昇が小さく安
定している。また、表面の耐久性も優れ、常に高品位の
画゛像を得ることができる。
とを含有する感光層は高感度で残留電位が少なく、さら
に帯電露光を繰り返した際の明部電位の上昇が小さく安
定している。また、表面の耐久性も優れ、常に高品位の
画゛像を得ることができる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)少なくとも感光層の表面に、潤滑剤およびスチルベ
ン系化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体
。 2)前記潤滑剤が、フッ素系樹脂粉体である特許請求の
範囲第1項記載の電子写真感光 体。 3)前記潤滑剤が、ポリオレフィン系樹脂粉体である特
許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 4)前記潤滑剤が、シリコーン樹脂粉体である特許請求
の範囲第1項記載の電子写真感光体。 5)前記潤滑剤が、フッ化カーボンである特許請求の範
囲第1項記載の電子写真感光体。 6)前記スチルベン系化合物が 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、R_1、R_2、R_3、R_4およびR_5
は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、
アルコキシ基または▲数式、化学式、表等があります▼
(R_7およびR_8はそれぞれ水素原子、アルキル基
、置換されていてもよいアラルキル基またはアリール基
を表わすか、あるいはR_7とR_8とが結合して環を
形成してもよい。但しR_7とR_8とが共に水素原子
となることはない。)を表わすか、あるいは、R_1と
R_2、R_2とR_3、R_3とR_4、およびR_
4とR_5の組合せのうち少なくとも1つの組合せによ
って、結合するベンゼン環と共に、置換されていてもよ
い多環芳香族項またはヘテロ環を形成するのに必要な残
基を表わす。R_6は水素原子、アルキル基または置換
されていてもよいフェニル基を表わす。mは0又は1で
ある。〕 で示される特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体
。 7)前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層の積層構造を
有する特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 8)前記感光層が電荷発生物質を含有する特許請求の範
囲第1項記載の電子写真感光体。 9)潤滑剤を含有する感光層において、前記潤滑剤の含
有率が1〜50重量%である特許請求の範囲第1項記載
の電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20657186A JPH07113779B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20657186A JPH07113779B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 電子写真感光体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6361256A true JPS6361256A (ja) | 1988-03-17 |
JPH07113779B2 JPH07113779B2 (ja) | 1995-12-06 |
Family
ID=16525603
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20657186A Expired - Fee Related JPH07113779B2 (ja) | 1986-09-01 | 1986-09-01 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07113779B2 (ja) |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01252964A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-09 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPH01276146A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01283565A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01283566A (ja) * | 1988-05-11 | 1989-11-15 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01285949A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-16 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292347A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292350A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292346A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01319752A (ja) * | 1988-06-21 | 1989-12-26 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH04128764A (ja) * | 1990-09-19 | 1992-04-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JP2000305289A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-11-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体と、それを用いた画像形成方法及び装置 |
US7358016B2 (en) | 2002-07-23 | 2008-04-15 | Osaka Gas Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and electrophoto-graphic apparatus equipped with the same |
US7556903B2 (en) | 2003-09-19 | 2009-07-07 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method, apparatus and process cartridge therefor using the photoreceptor |
-
1986
- 1986-09-01 JP JP20657186A patent/JPH07113779B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01252964A (ja) * | 1988-04-01 | 1989-10-09 | Toshiba Corp | 電子写真感光体 |
JPH01276146A (ja) * | 1988-04-28 | 1989-11-06 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
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JPH01285949A (ja) * | 1988-05-13 | 1989-11-16 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292347A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292350A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01292346A (ja) * | 1988-05-20 | 1989-11-24 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JPH01319752A (ja) * | 1988-06-21 | 1989-12-26 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体 |
JPH04128764A (ja) * | 1990-09-19 | 1992-04-30 | Fuji Electric Co Ltd | 電子写真用感光体 |
JP2000305289A (ja) * | 1999-02-16 | 2000-11-02 | Ricoh Co Ltd | 電子写真用感光体と、それを用いた画像形成方法及び装置 |
US7358016B2 (en) | 2002-07-23 | 2008-04-15 | Osaka Gas Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor and electrophoto-graphic apparatus equipped with the same |
US7556903B2 (en) | 2003-09-19 | 2009-07-07 | Ricoh Company Limited | Electrophotographic photoreceptor, and image forming method, apparatus and process cartridge therefor using the photoreceptor |
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---|---|
JPH07113779B2 (ja) | 1995-12-06 |
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