JPS6353539A - 蛍光性光硬化膜積層体 - Google Patents

蛍光性光硬化膜積層体

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Publication number
JPS6353539A
JPS6353539A JP19850286A JP19850286A JPS6353539A JP S6353539 A JPS6353539 A JP S6353539A JP 19850286 A JP19850286 A JP 19850286A JP 19850286 A JP19850286 A JP 19850286A JP S6353539 A JPS6353539 A JP S6353539A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fluorescent
film
substrate
concn
component
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP19850286A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumio Takenaka
竹中 史夫
Koji Toya
遠矢 功治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daicel Corp
Original Assignee
Daicel Chemical Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daicel Chemical Industries Ltd filed Critical Daicel Chemical Industries Ltd
Priority to JP19850286A priority Critical patent/JPS6353539A/ja
Publication of JPS6353539A publication Critical patent/JPS6353539A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (発明の技術分野) 光硬化物はレリーフ画像の作製において有用な手段を提
供している。すなわち、各種パターンマスクを通して光
を照射することにより、光硬化物は照射面が架橋反応、
重合反応等により、溶解性、密着性などが変化し、未照
射面とのこれらの差を利用して「現像]が行われ、基板
上にレリーフ像を形成することができる。更に、これら
のレリーフ像を保護被膜として基板に対するエツチング
、メッキ等の処理が施される。本発明はこの現像が完全
に行われたか、否かを判定するために有用な蛍光性光硬
化膜積層体に関するものである。
(先行技術) 従来、完全に現像されたか、否かは、目視検査によって
行われている。しかし、極めて薄い残膜は目視検査によ
って検出することは不可能である。
この薄い残膜はエツチング、またはメッキなどの現像後
の工程において不完全ながらのも保護被膜として働き、
エツチング不良の原因となり、品質管理、生産管理の而
で重大な問題とな、っている。
特に印刷回路板の製作において、このような薄い残膜は
断線や短絡を発生させる要因となる。今日、このような
印刷回路パターンはますます高密度化し細かい導体回路
を製作する必要性が高まっている。しかし、このような
細かい導体回路を製作する場合、特に薄い残膜が生じや
すく、その検出は目視検査ではほとんど不可能である。
(発明の目的) 本発明は、このような現像工程の不良を検出するために
有用な蛍光性光硬化膜積層体を提供するものである。
(発明の溝成) すなわち本発明は、 蛍光物質の濃度が光硬化膜の基板に接する側とその反対
側とで濃度差を有する蛍光性光硬化膜と基板とからなる
ことを特徴とする蛍光性光硬化膜積層体に関するもので
ある。
蛍光物質を含む光硬化膜に於て、蛍光成分は光硬化に使
用される光エネルギーの一部を吸収するため硬化速度が
低下するが、基板に接する側に蛍光物質、または蛍光性
化学構造を含有させるか、または少なくともその反対側
よりも高濃度に蛍光物質を含有させることによって、光
硬化膜に蛍光物質を均一に分散させるか、または基板に
接する側よりもその反対側に蛍光物質の濃度を高(した
ものよりも、露光時に於て活性光による硬化特性を向上
させることができ、かつ薄い残膜部分の蛍光物質の濃度
を高めることができることを見出し本発明を完成させた
更に本発明の内容を詳細に説明する。
本発明に用いられる蛍光物質は、ビスオキサゾール系、
ベンズオキサゾール系、クマリン系、ピラゾリン系など
であり、C,1,Fluorescent Brigh
teningAgent 162.同91.同112.
同121.同172. +7、アミノ−4−メチルクマ
リン、7−シメチルアミノー4−メチルクマリン、7−
ダニチルアミノ−4,メチルクマリン、7−アミノ−3
−フェニルクマリンなどを挙げることができる。これら
は、光硬化物に混合するか、または光硬化成分に化学的
に結合させることもできる。尚、本発明はこれらに限定
されるものではない。
光硬化物は、ケイ皮酸系、スチルバゾール系、ジアゾ系
、光重合系などの樹脂、または組成物を挙げることがで
きる。もちろん、これらの一部が蛍光性を有する構造で
あっても良い。本発明はこれらに限定されるものではな
い。
蛍光物質を含む光硬化膜は、上記に挙げた蛍光物質を溶
剤に溶かし、光硬化物に加え以下の方法によって得るこ
とができる。
本発明に用いられる基板としては、プラスチック板、例
えばアクリル板、アクリルニトリル、スチレン共重合板
、アクリルニトリル・ブタジェン・スチレン共重合板、
金属板、例えば鉄板、銅板、アルミ板、または、それら
の複合されたもの、例えばガラスエポキシ板、更にそれ
らから積層されたもの、例えば各種銅張り積層板などを
挙げることができる。
本発明の蛍光性光硬化膜積層体は、例えば基板上にまず
蛍光成分を含有する光硬化物を塗工、乾燥し、この上に
更に蛍光成分を含有しない光硬化物を塗工、乾燥する方
法がある。この場合、蛍光成分を含有しない光硬化物の
感光層を溶解しない組成であることが好ましい。
または、蛍光成分を含有する、またはしない光硬化物の
感光層を離型フィルム上におのおのキャスティングし、
貼り合わせ更に基板に積層しても良い。
あるいは、蛍光成分を含有しない光硬化物の感光層を離
型フィルム上にキャスティングし、次に蛍光成分を含有
する第2の離型フィルムを積層し、蛍光成分を感光層に
ブリードさせ更に基板に積層しても良い。
本発明の蛍光性光硬化膜積層体は、製造方法によりなん
ら制約を受けるものではない。
(発明の効果) 本発明により硬化効率を向上させると同時に、現像不良
の検査が効率よく行われ製品の歩留まり向上に寄与する
ことができる。
(実施例) 次に本発明を実施例により、具体的に説明する。
尚、本発明は実施例になんら制約されるものではない。
実施例 I A液 ポリメタクリル酸メチル      50gトリノチロ
ールプロパン トリアクリレート15g テトラエチレングリコール ジアクリレート15g ベンゾフェノン           3gミヒラーケ
トン          0.3g7−シメチルアミン
ー4−メチルクマリン  0.2gメチルエチルケトン
         100gB液 ポリメタクリル酸メチル      50gトリメチロ
ールプロパン トリアクリレート15g テトラエチレングリコール ジアクリレート          15gベンゾフェ
ノン           3gミヒラーケトン   
       0.3gメチルエチルケトン     
   100gA液を厚み25pmのポリエチレングリ
コールテレフタレート(以下、PETと呼ぶ)フィルム
支持体上に塗布し、乾燥させ5pmの感光性フィルムを
得た。
B液を同様に塗布し、乾燥させ45pmの感光性フィル
ムを得た。
次に、A液から得た5μmの感光性フィルムを100°
Cに加熱したゴムローラーによって予め研磨を施した銅
張り積層板上(=、積層した。
次に、B液から得た45pmの感光性フィルムを100
°Cに加熱したゴムローラーによってPETフィルムを
剥がした上記銅張り積層板上に積層し蛍光性光硬化膜積
層体を得た。
そして、次に、ラインlスペース = 1100p/1100pのパターンマスクを重ねて
超高圧水銀灯で50cmの距離から20秒間照射した。
そして、PETフィルムを剥がし1,1.1− )リク
ロロエタンで現像したが、この時、現像途中で取り出し
たものと、完全に現像を完了させた2種のサンプルを作
製した。
この両者を拡大鏡により観察したが、現像不足による薄
膜を検出することができなかった。
次に薄層クロマトグラフのスポット検出用の紫外線ラン
プを用いてサンプルに紫外線を照射したところ、完全に
現像を行ったサンプルは、レリーフ像のみが蛍光を発し
たが、現像不足のサンプルではレリーフ像以外の部分も
蛍光を発し残膜が存在することが判った。
次に、このサンプルをアルカリエッチャントでエツチン
グすると、レリーフ像以外から蛍光を発した部分は、エ
ツチングが不完全か、または全くエツチングされていな
かった。
実施例 2 以下の成分を混合して蛍光性光硬化組成物と光硬化組成
物を得た。
C液 メクリル酸−メタクリル酸メチル 一アクリル酸n、ブチル(20/60/20wt%)共
重合体          50g トリメチロールプロパン トリアクリレート15g テトラエチレングリコール ジアクリレート15g ベンゾフェノン           3gミヒラーケ
トン           0.3g7−シメチルアミ
ノー4−メチルクマリン  0.2gメチルエチルケト
ン         70gテトラヒドロ7ラン   
     30gD液 メクリル酸−メタクリル酸メチル 一アクリル酸n−ブチル(20/60/20wt%)共
重合体          50g トリメチロールプロパン トリアクリレート         15gテトラエチ
レングリコール ジアクリレート          15gベンゾフェ
ノン           3gミヒラーケトン   
       0.3gメチルエチルケトン     
    70gテトラヒドロフラン        3
0gこれを実施例 1と同様にしてC液より厚み511
mの感光性フィルムを、D液より厚み45pmの感光性
フィルム得た。同様にC液から得た5pmの感光性フィ
ルムとD液から得た45pmの感光性フィルムを実施例
 1と同様にして銅張り積層板上に積層し蛍光性光硬化
膜積層体を得た。超高圧水銀灯で照射したのち、30°
Cの1%炭酸ナトリウム水溶液で現像し、現像途中で取
り出したものと、完全に現像を完了させた2種のサンプ
ルを作製した。
この両者を拡大鏡により観察したが、現像不足による薄
膜を検出することができなかった。
次に薄層クロマトグラフのスポット検出用の紫外線ラン
プを用いてサンプルに紫外線を照射したところ、完全に
現像を行ったサンプルは、レリーフ像のみが蛍光を発し
たが、現像不足のサンプルではレリーフ像以外の部分も
蛍光を発し残膜が存在することが判った。
次に、このサンプルを塩化第一鉄エッチャントでエツチ
ングすると、レリーフ像以外から蛍光を発した部分は、
エツチングが不完全か、または全くエツチングされてい
なかった。
比較例 1 A:Rltを厚み25pm (7) PETフィルム支
持体上に塗布し、乾燥させ50pmの感光性フィルムを
得た。
次に、100°Cに加熱したゴムローラーによって予め
研磨を施した銅張り積層板上に積層し、光硬化膜積層体
を得た。実施例 、1と同様に2種のサンプルを作製し
たが、完全に現像を行ったサンプルにおいて硬化レリー
フのラインが細かく波打ち、硬化が不充分であった。
比較例 2 C液を比較例 1と同様にして厚み50pmの感光フィ
ルムを得、銅張り積層板上に積層し光硬化膜積層体を得
た。実施例 2と同様に2種のサンプルを作製したが、
完全に現像を行ったサンプルにおいて硬化レリーフのラ
インが細かく波打ち1.硬化が不充分であった。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 蛍光物質の濃度が光硬化膜の基板に接する側とその反対
    側とで濃度差を有する蛍光性光硬化膜と基板とからなる
    ことを特徴とする蛍光性光硬化膜積層体。
JP19850286A 1986-08-25 1986-08-25 蛍光性光硬化膜積層体 Pending JPS6353539A (ja)

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JP19850286A JPS6353539A (ja) 1986-08-25 1986-08-25 蛍光性光硬化膜積層体

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JP19850286A JPS6353539A (ja) 1986-08-25 1986-08-25 蛍光性光硬化膜積層体

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ID=16392198

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JP19850286A Pending JPS6353539A (ja) 1986-08-25 1986-08-25 蛍光性光硬化膜積層体

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6356649A (ja) * 1986-08-28 1988-03-11 Daicel Chem Ind Ltd 蛍光性光硬化膜

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