JPS6350841A - ミラ−像の描画方法 - Google Patents
ミラ−像の描画方法Info
- Publication number
- JPS6350841A JPS6350841A JP61196363A JP19636386A JPS6350841A JP S6350841 A JPS6350841 A JP S6350841A JP 61196363 A JP61196363 A JP 61196363A JP 19636386 A JP19636386 A JP 19636386A JP S6350841 A JPS6350841 A JP S6350841A
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- JP
- Japan
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- pattern
- mirror
- stage
- bit pattern
- polygon mirror
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザー描画装置等の多面付回転鏡（以下ポリ
ゴンミラーと呼ぶ）乞使用した描画装置にかかわり、所
定のパターンのミラー像を描く方法に関する。
ゴンミラーと呼ぶ）乞使用した描画装置にかかわり、所
定のパターンのミラー像を描く方法に関する。
半導体製造用のマスクの製作あるいはプリント板回路の
フィルムの製作においてＣＡＤシステムから出力された
データを被描画基板に描画する他に、ミラーパターンと
呼ばれる前記正面パターンを裏面から見たパターンを描
画する事がしばしば必要になる。例としてはマスクやフ
ィルムをウェハやプリント基板上に密着させて転写する
場合、マスクやフィルムの描画面？裏面側とし、その基
板の厚みが介在しないようにするために使用されろ。従
来このミラーパターン！描くにはＣＡＤシステムから出
力されたデータン描画装置用のデータに変換する際にコ
ンビーータによりミラー処理し反転されたパターンデー
タで描画する。
フィルムの製作においてＣＡＤシステムから出力された
データを被描画基板に描画する他に、ミラーパターンと
呼ばれる前記正面パターンを裏面から見たパターンを描
画する事がしばしば必要になる。例としてはマスクやフ
ィルムをウェハやプリント基板上に密着させて転写する
場合、マスクやフィルムの描画面？裏面側とし、その基
板の厚みが介在しないようにするために使用されろ。従
来このミラーパターン！描くにはＣＡＤシステムから出
力されたデータン描画装置用のデータに変換する際にコ
ンビーータによりミラー処理し反転されたパターンデー
タで描画する。
あるいは描画装置がラスターイメージデータをビームを
ＯＮ 、ＯＦＦするブランキングユニットに出力する際
電気的な処理回路により１ラスタースキヤンぶんのデー
タの出力順序？逆にする等の方法により行なわれている
。
ＯＮ 、ＯＦＦするブランキングユニットに出力する際
電気的な処理回路により１ラスタースキヤンぶんのデー
タの出力順序？逆にする等の方法により行なわれている
。
本発明は上述のような事情からなされたものであり本発
明の目的はコンピュータによる複雑なソフト処理や電気
的な処理回路を必要としないミラー像の描画方法ン提供
するにある。
明の目的はコンピュータによる複雑なソフト処理や電気
的な処理回路を必要としないミラー像の描画方法ン提供
するにある。
本発明のミラー像の描画方法は、描画データが定義する
図形をビットパターン（別名ビットマツプ）に変換し、
ビットパターンの各ビットの情報（１またはＯ）に対応
して光ビームＹ ＯＮ 、 ＯＦＦする作画７実現する
に際し、前記ピットパターン乞シリアルにブランキング
装置に出力し、これによってＯＮ 、 ＯＦＦ変調され
た光ビーム暑回転するポリゴンミラーに入射し、その反
射光でステージ上に載置した試料面乞走査し、これと略
直交する方向にステージ７走行させて所望のパターンを
描画するいわゆるラスクスキャン描画方式に関するもの
で、前記ブランキング装置に出力するビットパターン乞
変更する事なく、ポリゴンミラーの回転方向の変更又は
ステージの走行方向の変更により、前記描画するパター
ンのミラー像を描画する事を特徴とする。
図形をビットパターン（別名ビットマツプ）に変換し、
ビットパターンの各ビットの情報（１またはＯ）に対応
して光ビームＹ ＯＮ 、 ＯＦＦする作画７実現する
に際し、前記ピットパターン乞シリアルにブランキング
装置に出力し、これによってＯＮ 、 ＯＦＦ変調され
た光ビーム暑回転するポリゴンミラーに入射し、その反
射光でステージ上に載置した試料面乞走査し、これと略
直交する方向にステージ７走行させて所望のパターンを
描画するいわゆるラスクスキャン描画方式に関するもの
で、前記ブランキング装置に出力するビットパターン乞
変更する事なく、ポリゴンミラーの回転方向の変更又は
ステージの走行方向の変更により、前記描画するパター
ンのミラー像を描画する事を特徴とする。
以下、本発明の実施例について説明する。第１図は本発
明のミラー像の描画方法が実施されるレーザ描画装置の
概略図を示す。同図において１はＡｒレーザなどの発振
管で所定の断面形状のレーザビームＬｇ発する。このレ
ーザビームＬはミラー２ 、３ 、４によりブランキン
グ装置５に導かれろようになっている。ブランキング装
置５ン出たレーザビームＬはミラー６、拡散レンズ７、
放物面鏡８を介してポリゴンミラー９に入射されろ。
明のミラー像の描画方法が実施されるレーザ描画装置の
概略図を示す。同図において１はＡｒレーザなどの発振
管で所定の断面形状のレーザビームＬｇ発する。このレ
ーザビームＬはミラー２ 、３ 、４によりブランキン
グ装置５に導かれろようになっている。ブランキング装
置５ン出たレーザビームＬはミラー６、拡散レンズ７、
放物面鏡８を介してポリゴンミラー９に入射されろ。
ポリゴンミラー９はラジアルおよびスラスト方向に作用
する空気軸受または磁気軸受などの軸受１０にて回転自
在に支持されたモータ１１によりカップリング１２ン介
して一定速度で回転されるようになっている。ポリゴン
ミラー９から反射されるレーザビームＬはＦ−θレンズ
１３およびミラー１４ン経てステージ１５上にセットさ
れた試料Ｗの表面をステージの移動方向（Ｙ方向）と直
交する方向（Ｘ方向）へ走査しつつ照射するようになっ
ている。
する空気軸受または磁気軸受などの軸受１０にて回転自
在に支持されたモータ１１によりカップリング１２ン介
して一定速度で回転されるようになっている。ポリゴン
ミラー９から反射されるレーザビームＬはＦ−θレンズ
１３およびミラー１４ン経てステージ１５上にセットさ
れた試料Ｗの表面をステージの移動方向（Ｙ方向）と直
交する方向（Ｘ方向）へ走査しつつ照射するようになっ
ている。
描画に際してＣＡＤシステムなどから入力された原デー
タから計算機ならびにデジタル回路によりレーザビーム
４ ＯＮ 、 ＯＦＦするブランキング装置５に出力す
る最終的なビットパターンが作られる。
タから計算機ならびにデジタル回路によりレーザビーム
４ ＯＮ 、 ＯＦＦするブランキング装置５に出力す
る最終的なビットパターンが作られる。
描画されるパターンとビットパターンの関係はビットパ
ターンをシリアルアウトするクロックの１周期中にレー
ザビームが試料面上ｇＸ方向に移動する量が一画素サイ
ズと一致するように同期がとられている。
ターンをシリアルアウトするクロックの１周期中にレー
ザビームが試料面上ｇＸ方向に移動する量が一画素サイ
ズと一致するように同期がとられている。
第２図（ａ）に示すようなパターン乞描画する場合、１
画素の大きさ乞同図（Ｃ）に示す大きさとするとピント
パターンは同図（ｂ）に示すようになる。第３図て第２
図で示したパターンが描画される状態？簡単化して示す
。同図にポリゴンミラー９が正方向に回転しステージが
Ｙの正方向に走行する正面描画（ミラー像の描画でない
）７行う場合を示す。
画素の大きさ乞同図（Ｃ）に示す大きさとするとピント
パターンは同図（ｂ）に示すようになる。第３図て第２
図で示したパターンが描画される状態？簡単化して示す
。同図にポリゴンミラー９が正方向に回転しステージが
Ｙの正方向に走行する正面描画（ミラー像の描画でない
）７行う場合を示す。
λＩＳをポリゴンミラー９の一つのミラー面とするとポ
リゴンミラー９の回転によりミラー面Ｍ ＳがＡ、Ｂ、
からＡ２Ｂ２． Ａ３Ｂ３と移動する時、放物面鏡８に
介してミラー面Ｍ Ｓ Ｖ？−入射されたレーザビーム
の反射光はミラ−１４上馨点Ｓｇ起点として中央の点Ｃ
を通り終点Ｅまで？走査する。ミラー１４で反射したレ
ーザビームは試料Ｗ上を走査開始点ＳＭから中央の点Ｃ
Ｍ ’Ｙ通り走査の終了点Ｅｈ＋までＸの正方向に走査
する。点ＳＭから点ＥＭまでＧＸ Ｘ方向の１走査の長
さであり、レーザビームが点＄１からＥＭまで走査する
時ブランキング装置５には１走査に相当する描画データ
が入力されその描画データに従りてレーザビーム’ｋ
ＯＮ 、 ＯＦＦする。
リゴンミラー９の回転によりミラー面Ｍ ＳがＡ、Ｂ、
からＡ２Ｂ２． Ａ３Ｂ３と移動する時、放物面鏡８に
介してミラー面Ｍ Ｓ Ｖ？−入射されたレーザビーム
の反射光はミラ−１４上馨点Ｓｇ起点として中央の点Ｃ
を通り終点Ｅまで？走査する。ミラー１４で反射したレ
ーザビームは試料Ｗ上を走査開始点ＳＭから中央の点Ｃ
Ｍ ’Ｙ通り走査の終了点Ｅｈ＋までＸの正方向に走査
する。点ＳＭから点ＥＭまでＧＸ Ｘ方向の１走査の長
さであり、レーザビームが点＄１からＥＭまで走査する
時ブランキング装置５には１走査に相当する描画データ
が入力されその描画データに従りてレーザビーム’ｋ
ＯＮ 、 ＯＦＦする。
１走査周期中のステージの移動量が１画素サイズと一致
するように同期がとられている。第２図（ａ）に示すパ
ターンのミラー像として、同図の辺ＮＭｌ対称軸とした
第４図（ａ）に示すパターン、第２図（ａ）の辺Ｌ Ｌ
ｉを対称軸とした第５図（ａ）に示すパターン、さらに
点対称像として第２図（ａ）のＫ 、 Ｌ 、 Ｍ 。
するように同期がとられている。第２図（ａ）に示すパ
ターンのミラー像として、同図の辺ＮＭｌ対称軸とした
第４図（ａ）に示すパターン、第２図（ａ）の辺Ｌ Ｌ
ｉを対称軸とした第５図（ａ）に示すパターン、さらに
点対称像として第２図（ａ）のＫ 、 Ｌ 、 Ｍ 。
Ｎ点のどれかχ中上・とじて１８０°回転した第６図（
ａ）に示すパターンが考えられる。ポリゴンミラー９ン
正方向に回転しステージ１５乞Ｙの正方向に送り、これ
等のパターンン上述した方法で描画する場合第４図（ａ
）に対しては同図（ｂ）に示すビットパタ−ン乞、第５
図（ａ）に対しては同図（ｂ）に示すビットパターン？
、第６図（ａ）に対しては同図（ｂ）に示すビットパタ
ーンをそれぞれコンピュータ並にデジタル処理回路７使
用して作らなくてはならない。
ａ）に示すパターンが考えられる。ポリゴンミラー９ン
正方向に回転しステージ１５乞Ｙの正方向に送り、これ
等のパターンン上述した方法で描画する場合第４図（ａ
）に対しては同図（ｂ）に示すビットパタ−ン乞、第５
図（ａ）に対しては同図（ｂ）に示すビットパターン？
、第６図（ａ）に対しては同図（ｂ）に示すビットパタ
ーンをそれぞれコンピュータ並にデジタル処理回路７使
用して作らなくてはならない。
第２図（ｂ）のビットパターンと、第４図（ｂ）、第５
図（ｂ）並びに第６図（ｂ）のビットパターンケそれぞ
れ比較すると、第４図（ｂ）のビットパターンはデータ
の上側に１から１６までの数字で示したように第２図（
ｂ）のビットパターンの各走査におけるブランキング装
置に出力されるデータの出力順序？逆にし終りの方から
先に出力する関係てなっている事、第５図働）のビット
パターンはデータの左側に１から２０までの数字で示す
ように、第２図０））のビットパターンのレーザビーム
により走査される走査の順番を逆にし、終りの行から順
番に走査した関係になっている事、第６図（ｂ）のビッ
トパターンは第２図（ｂ）の描画データの各走査におい
てブランキング装置に出力するデータの出力順序Ｚ逆に
すると同時に走査の順番も逆にし、終りの行から順番に
走査する関係になっている事がわかる。
図（ｂ）並びに第６図（ｂ）のビットパターンケそれぞ
れ比較すると、第４図（ｂ）のビットパターンはデータ
の上側に１から１６までの数字で示したように第２図（
ｂ）のビットパターンの各走査におけるブランキング装
置に出力されるデータの出力順序？逆にし終りの方から
先に出力する関係てなっている事、第５図働）のビット
パターンはデータの左側に１から２０までの数字で示す
ように、第２図０））のビットパターンのレーザビーム
により走査される走査の順番を逆にし、終りの行から順
番に走査した関係になっている事、第６図（ｂ）のビッ
トパターンは第２図（ｂ）の描画データの各走査におい
てブランキング装置に出力するデータの出力順序Ｚ逆に
すると同時に走査の順番も逆にし、終りの行から順番に
走査する関係になっている事がわかる。
以下に第２図中）の描画データビ用いてポリゴンミラー
９の回転方向あるいはステージ１５の走行方向を変更す
る事により第４図（ａ）、第５図（ａ）、第６図（ａ）
のパターンを描画する方法を示す。第３図においてポリ
ゴンミラー９の回転方向を正転かも逆転に切り変えた場
合、ポリゴンミラー９の回転によりミラー面ＭＳはＡ、
Ｂ、からＡ２Ｂ、 、 Ａ、 Ｂ、 と移動し放物面
鏡８乞介してミラー面Ｍ Ｓに入射したレーザビームＬ
の反射光はミラー１４上を点Ｅ乞始点として中央点ＣＹ
通り終点Ｓまで？走査する。
９の回転方向あるいはステージ１５の走行方向を変更す
る事により第４図（ａ）、第５図（ａ）、第６図（ａ）
のパターンを描画する方法を示す。第３図においてポリ
ゴンミラー９の回転方向を正転かも逆転に切り変えた場
合、ポリゴンミラー９の回転によりミラー面ＭＳはＡ、
Ｂ、からＡ２Ｂ、 、 Ａ、 Ｂ、 と移動し放物面
鏡８乞介してミラー面Ｍ Ｓに入射したレーザビームＬ
の反射光はミラー１４上を点Ｅ乞始点として中央点ＣＹ
通り終点Ｓまで？走査する。
ミラー１４で反射したレーザビームは被描画材Ｗ上Ｚ走
査開始点ｙＥｙとし、中央点ＣＭ”ｋ通り終点Ｓｙｔま
でＸの負の方向に走査する。レーザビームの走査に同期
して、第２図（ｂ）のビットパターンをそのまま正面描
画と同様にブランキング装置に出力するだけで結果とし
て第４図（ａ）のミラー像が描かれる事になる。ポリゴ
ンミラー９の回転方向乞正にし、描画開始位置を第３図
の点Ｐに設定しステーシン負の方向に送り、第２図（ｂ
）のビットパターンンそのまま正面描画と同様に順次ブ
ランキング装置に出力するだけで結果として第５図（ａ
）のミラー像が描かれる。ポリゴンミラー９の回転方向
を逆にし、ステージ１５の走行方向ｇＹの負の方向に切
り変え描画開始位置７第３図のＰ点に設定して第２図（
ｂ）のビットパターンＺそのまま正面描画と同様に出力
すれば第６図（ａ）のパターンが描画される。
査開始点ｙＥｙとし、中央点ＣＭ”ｋ通り終点Ｓｙｔま
でＸの負の方向に走査する。レーザビームの走査に同期
して、第２図（ｂ）のビットパターンをそのまま正面描
画と同様にブランキング装置に出力するだけで結果とし
て第４図（ａ）のミラー像が描かれる事になる。ポリゴ
ンミラー９の回転方向乞正にし、描画開始位置を第３図
の点Ｐに設定しステーシン負の方向に送り、第２図（ｂ
）のビットパターンンそのまま正面描画と同様に順次ブ
ランキング装置に出力するだけで結果として第５図（ａ
）のミラー像が描かれる。ポリゴンミラー９の回転方向
を逆にし、ステージ１５の走行方向ｇＹの負の方向に切
り変え描画開始位置７第３図のＰ点に設定して第２図（
ｂ）のビットパターンＺそのまま正面描画と同様に出力
すれば第６図（ａ）のパターンが描画される。
以上のように本発明のミラー像の描画方法によるとコン
ビーータによる複雑なデータ処理やデジタル回路による
処理を必要とする事な（ポリゴンミラーの回転方向ある
いはステージの移動方向を切り変える簡単な操作により
任意の方向のミラー像を描（事が可能になる。
ビーータによる複雑なデータ処理やデジタル回路による
処理を必要とする事な（ポリゴンミラーの回転方向ある
いはステージの移動方向を切り変える簡単な操作により
任意の方向のミラー像を描（事が可能になる。
第１図はレーザビーム描画装置の概略図第２図は描画す
るパターンと描画データの関係を説明する図 第３図は描画状態を説明する概念図 第４図はミラー像と描画データとの関係を説明する図 第５図はミラー像と描画データとの関係を説明する図 第６図は点対称数と描画データとの関係乞説明する図
るパターンと描画データの関係を説明する図 第３図は描画状態を説明する概念図 第４図はミラー像と描画データとの関係を説明する図 第５図はミラー像と描画データとの関係を説明する図 第６図は点対称数と描画データとの関係乞説明する図
Claims (1)
- 描画データに基づいてＯＮ、ＯＦＦされる光ビームを
多面付回転鏡に入射しその反射光で試料の描画面を走査
し、前記試料を載置したステージを前記光ビームの走査
方向と略直交する方向に移動しながら前記試料の描画面
にパターンを描画するに際し、描画データを変更する事
なく、前記多面付回転鏡の回転方向の変更又はステージ
の走行方向の変更により、前記描画するパターンのミラ
ー像を描画する事を特徴とするミラー像の描画方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196363A JPS6350841A (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | ミラ−像の描画方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61196363A JPS6350841A (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | ミラ−像の描画方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6350841A true JPS6350841A (ja) | 1988-03-03 |
Family
ID=16356601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61196363A Pending JPS6350841A (ja) | 1986-08-21 | 1986-08-21 | ミラ−像の描画方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6350841A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0274022A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置およびパターン形成方法 |
| JP2004061795A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Toppan Printing Co Ltd | レーザー描画方法およびフォトマスク製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57180125A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-06 | Fujitsu Ltd | Elelctron beam exposure and equipment therefor |
-
1986
- 1986-08-21 JP JP61196363A patent/JPS6350841A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57180125A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-06 | Fujitsu Ltd | Elelctron beam exposure and equipment therefor |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0274022A (ja) * | 1988-09-09 | 1990-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置およびパターン形成方法 |
| JP2004061795A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Toppan Printing Co Ltd | レーザー描画方法およびフォトマスク製造方法 |
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