JPS6345702A - 金属含有ペ−スト - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
Landscapes
- Parts Printed On Printed Circuit Boards (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(1)発明の目的
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子産業分野で利用される電子素子や電子部品
の製造で使用する金属含有ペーストに関するものであり
、更に詳しくは電子素子や電子部品における故障発生の
原因となっているエレクトロマイグレーション現象の防
止効果が大きい金属含有ペーストを提供するものである
。
の製造で使用する金属含有ペーストに関するものであり
、更に詳しくは電子素子や電子部品における故障発生の
原因となっているエレクトロマイグレーション現象の防
止効果が大きい金属含有ペーストを提供するものである
。
電子素子や電子部品において、水分の存在下に、電圧が
絶縁された金属導体間に印加されることにより、導体を
構成している金属がイオン化して、絶縁材料の表面又は
内部を負の電位にある導体の方向に移行し、負の電位に
ある導体で析出する現象がしばしば発生する。
絶縁された金属導体間に印加されることにより、導体を
構成している金属がイオン化して、絶縁材料の表面又は
内部を負の電位にある導体の方向に移行し、負の電位に
ある導体で析出する現象がしばしば発生する。
この現象はエレクトロマイグレーション現象と称されて
おり、プリント配線板、LSI回路、厚膜回路、コンデ
ンサー電極及びスルホール等種々の電子材料、電子素子
、電子部品中で見出され、これら機器の信頼性を損なう
原因の一つとなっており、更に最近の電子素子や電子部
品の高集積化に伴う配線の81線化、配線間隔の減少及
びスルホールの細孔化等によってこの現象はより発生の
頻度が増加する傾向にある。
おり、プリント配線板、LSI回路、厚膜回路、コンデ
ンサー電極及びスルホール等種々の電子材料、電子素子
、電子部品中で見出され、これら機器の信頼性を損なう
原因の一つとなっており、更に最近の電子素子や電子部
品の高集積化に伴う配線の81線化、配線間隔の減少及
びスルホールの細孔化等によってこの現象はより発生の
頻度が増加する傾向にある。
エレクトロマイグレーション現象を示す金属は、銀、銅
、スズ、鉛、金、白金、パラジウム及びアルミニウム等
で、電子回路の導体金属として採用される殆どの金属が
該当し、これら金属は、水分が存在しかつ電圧が印加さ
れた状態でイオン化しマイグレーションするものと、更
にそこにハロゲン等の不純物イオンが加わることによっ
てマイグレーションするものがある。
、スズ、鉛、金、白金、パラジウム及びアルミニウム等
で、電子回路の導体金属として採用される殆どの金属が
該当し、これら金属は、水分が存在しかつ電圧が印加さ
れた状態でイオン化しマイグレーションするものと、更
にそこにハロゲン等の不純物イオンが加わることによっ
てマイグレーションするものがある。
かかるエレクトロマイグレーション現象を防止する方法
としては従来より次のような方法が試みられてきた。
としては従来より次のような方法が試みられてきた。
■電子素子や電子部品が水分と接触しないようにする。
■プリント配線板の導体金属のイオン化を防止する。■
発生したイオンが移動しないよう還元する。■発生した
イオンを沈澱形成剤で不溶化する。■発生したイオンを
キレート剤やコンプレックス形成剤で固定する。■電子
素子や電子部品の材料の表面にある水酸基を失活させる
。
発生したイオンが移動しないよう還元する。■発生した
イオンを沈澱形成剤で不溶化する。■発生したイオンを
キレート剤やコンプレックス形成剤で固定する。■電子
素子や電子部品の材料の表面にある水酸基を失活させる
。
ここで、■は絶縁体表面や基板全体を撥水性の材料例え
ばフッ素樹脂等でコーティングする方法であるが、プリ
ント配線板の導体部分の露出を完全に防止することは事
実上不可能であり、従来技術の中では比較的有効である
が完全な対策とは言えない。
ばフッ素樹脂等でコーティングする方法であるが、プリ
ント配線板の導体部分の露出を完全に防止することは事
実上不可能であり、従来技術の中では比較的有効である
が完全な対策とは言えない。
■はイオン化電位を高くするために、プリント配線板の
導体金属を合金化する方法であり、例えば電極の銀を銀
−パラジウムに代える方法がある。
導体金属を合金化する方法であり、例えば電極の銀を銀
−パラジウムに代える方法がある。
しかし充分な効果を得るためにはパラジウムの含有率を
高くする必要があり高価となる欠点がある。
高くする必要があり高価となる欠点がある。
その他、銀やアルミニウム電極へ銅を添加する方法も検
討されているが、まだ十分な効果を得るまでには至って
いない。
討されているが、まだ十分な効果を得るまでには至って
いない。
■はアルデヒド、ハイドロキノン、ピロガロール及びヒ
ドラジン等をプリント配線基板に塗る塗料等に添加する
方法であるが、これら添加剤は化学的に不安定で、熱や
光で分解しやすい欠点を有している。
ドラジン等をプリント配線基板に塗る塗料等に添加する
方法であるが、これら添加剤は化学的に不安定で、熱や
光で分解しやすい欠点を有している。
■はステアリン酸、オレイン酸及びパルミチン酸等を■
と同様に添加する方法である。しかし近年アルミ配線腐
食では遊離の有機酸が関与しているとの報告があり、実
用上問題がある。
と同様に添加する方法である。しかし近年アルミ配線腐
食では遊離の有機酸が関与しているとの報告があり、実
用上問題がある。
■はトリアジン類、ベンジジン、卵アルブミン等のキレ
ート形成やコンプレックス形成を行う有機物を添加する
方法である。しかしこれら化合物の持つ官能基は大体1
00℃を超えると分解し失活するものが大部分である。
ート形成やコンプレックス形成を行う有機物を添加する
方法である。しかしこれら化合物の持つ官能基は大体1
00℃を超えると分解し失活するものが大部分である。
従って通常の使用条件では問題がないが、高集積化によ
り内部発熱だけで100℃を超える場合や、ますます電
子化が進むと考えられる自動車等は使用環境そのものが
100℃を超えることも十分予想され、将来的にコンプ
レックス形成剤の使用には限界がある。
り内部発熱だけで100℃を超える場合や、ますます電
子化が進むと考えられる自動車等は使用環境そのものが
100℃を超えることも十分予想され、将来的にコンプ
レックス形成剤の使用には限界がある。
■としては、基板の材料であるガラス繊維や基板用の塗
料のフィ・ラーとして用いる石英等を、シランカップリ
ング剤で処理する方法であるが、対策としては部分的な
ものである。
料のフィ・ラーとして用いる石英等を、シランカップリ
ング剤で処理する方法であるが、対策としては部分的な
ものである。
[発明が解決しようとする問題点〕 ・電子
素子や電子部品において、水分の存在下に、電圧が絶縁
された金属導体間に印加されることにより生ずるエレク
トロマイグレーション現象は、これら電子素子や電子部
品の故障の原因となって、おり、この現象の防止が強く
求められてきた。
素子や電子部品において、水分の存在下に、電圧が絶縁
された金属導体間に印加されることにより生ずるエレク
トロマイグレーション現象は、これら電子素子や電子部
品の故障の原因となって、おり、この現象の防止が強く
求められてきた。
エレクトロマイグレーション現象による故障モードは一
般的に次のようになる。
般的に次のようになる。
fa)銀、金、鉛等
(水分の存在下でエレクトロマイグレーション現象が発
生) ■水分の解離 H20≠H++OH−■金属
の酸化溶解 2M+H20≠M20+H2(陽極) ■酸化物の解離 M20 + H20≠2 M OH(
移行) ≠2M”+2011−■析
出 M十十〇−−M (陰極) (b)金、銀、パラジウム、銅等 (水分及びハロゲンの存在4下でエレクトロマイグレー
ション現象が発生) ■水分の関与は、fa)と同じ ■金属の酸化溶解 M+CQ−#MCl−4−e−(
陽極) ■酸化物の解離 MCI−M”、−4C1−(
移行) ■析出 1、 M、7 +e−−M(陰極)、 上記(a) (b)ではMは銀の例であるが、他の金属
も同様のメカニズムを経るものと推定されている。
生) ■水分の解離 H20≠H++OH−■金属
の酸化溶解 2M+H20≠M20+H2(陽極) ■酸化物の解離 M20 + H20≠2 M OH(
移行) ≠2M”+2011−■析
出 M十十〇−−M (陰極) (b)金、銀、パラジウム、銅等 (水分及びハロゲンの存在4下でエレクトロマイグレー
ション現象が発生) ■水分の関与は、fa)と同じ ■金属の酸化溶解 M+CQ−#MCl−4−e−(
陽極) ■酸化物の解離 MCI−M”、−4C1−(
移行) ■析出 1、 M、7 +e−−M(陰極)、 上記(a) (b)ではMは銀の例であるが、他の金属
も同様のメカニズムを経るものと推定されている。
ここで析出金属が樹枝状となり、陰極より陽極方向に成
長し、ついには短絡して両極間に電流が流れるようにな
る。
長し、ついには短絡して両極間に電流が流れるようにな
る。
尚、ここで短絡とは両極そのものが直接接続される場合
だけでなく、両極が近接し、かつ導電性物質として電荷
を持つ単体(イオンや正孔)が増加しても電流が流れる
のでこれも短絡という(−数的には300μA程度の電
流が流れる(10の6乗Ω以下の抵抗値となった)場合
に短絡という)。
だけでなく、両極が近接し、かつ導電性物質として電荷
を持つ単体(イオンや正孔)が増加しても電流が流れる
のでこれも短絡という(−数的には300μA程度の電
流が流れる(10の6乗Ω以下の抵抗値となった)場合
に短絡という)。
(2)発明の構成
〔問題点を解決するためのための手段〕本発明は、−0
H基を有する無機イオン交換体を金属含有ペーストに含
有させることによってエレクトロマイグレーション現象
の発生を防止したものであり、具体的には電、子回路の
導体の材料である銀ペースト、銅ペースト、銀パラジウ
ムペースト等の金属を含むペーストに、−0H基を有す
る無機陽イオン交換体又は必要に応じて一〇H基を有す
る無機陰イオン交換体と併せて含有させることにより、
エレクトロマイグレーション現象を防止することができ
たものである。
H基を有する無機イオン交換体を金属含有ペーストに含
有させることによってエレクトロマイグレーション現象
の発生を防止したものであり、具体的には電、子回路の
導体の材料である銀ペースト、銅ペースト、銀パラジウ
ムペースト等の金属を含むペーストに、−0H基を有す
る無機陽イオン交換体又は必要に応じて一〇H基を有す
る無機陰イオン交換体と併せて含有させることにより、
エレクトロマイグレーション現象を防止することができ
たものである。
本発明において金属含有ペースト中に含有された一〇
H基を有する無機イオン交換体の働きは、大きく分ける
と次の2つになる。
H基を有する無機イオン交換体の働きは、大きく分ける
と次の2つになる。
■マイグレーションする金属のイオン化物例えばAg”
、Cu” 、Cu”、Pb2+、Sn 2+、Au3
◆等を、これらに高選択イオン吸着性を持つ一〇H基を
有する無機陽イオン交換体で捕捉固定し、移行させない
作用。
、Cu” 、Cu”、Pb2+、Sn 2+、Au3
◆等を、これらに高選択イオン吸着性を持つ一〇H基を
有する無機陽イオン交換体で捕捉固定し、移行させない
作用。
■イオン化を助長するハロゲン原子等の不純物イオンを
、これらに高選択イオン吸着性を持つ−OH基を有する
無機陰イオン交換体で捕捉固定し、失活させる作用。
、これらに高選択イオン吸着性を持つ−OH基を有する
無機陰イオン交換体で捕捉固定し、失活させる作用。
又本発明に用いられる一011基を有する無機イオン交
換体によるイオンの捕捉作用は下記の通りである。
換体によるイオンの捕捉作用は下記の通りである。
金属イオン捕捉用の無機陽イオン交換体をRO−H”、
金属イオンをM十〇H−の水酸基型で表すと、イオン交
換1よ次のようになり、結果として水を生成する。
金属イオンをM十〇H−の水酸基型で表すと、イオン交
換1よ次のようになり、結果として水を生成する。
RO−H” +M”、OH−→RO−M” +H20・
・・上記のイオンを捕捉する反応は、イオン交換反応で
あるが、無機イオン交換体・の特徴として、逆反応は起
こりにくり、逆反応をさせる場合(捕捉したイオンの脱
離反応)は、特殊な条件が必要な場合が多く、一般に一
度捕捉されたイオンは遊離しにくい。 、
′ 、これはRO”H+の結合がRO−M−
十になった後のO−M間の結合は、共有結合性が強いた
めと思われる。
・・上記のイオンを捕捉する反応は、イオン交換反応で
あるが、無機イオン交換体・の特徴として、逆反応は起
こりにくり、逆反応をさせる場合(捕捉したイオンの脱
離反応)は、特殊な条件が必要な場合が多く、一般に一
度捕捉されたイオンは遊離しにくい。 、
′ 、これはRO”H+の結合がRO−M−
十になった後のO−M間の結合は、共有結合性が強いた
めと思われる。
ハロゲン等のイオン性不純物に対しては、−〇 H基を
有する無機イオン交換体をR’十〇)ド、ハロゲンイオ
ンをH”X−の酸型で表すと、次のようになり結果とし
て水を生成する。
有する無機イオン交換体をR’十〇)ド、ハロゲンイオ
ンをH”X−の酸型で表すと、次のようになり結果とし
て水を生成する。
R’+ OH” +H+ X−−R” X−+Ii20
・・・山)中性塩の場合は、上記(al (b)の同時
反応が起こる。
・・・山)中性塩の場合は、上記(al (b)の同時
反応が起こる。
RO−)1” +H” OH−+M” X−−RO−、
M” +、、R’+ x、−十H20・(C)〔無機イ
オン交換体〕 (a) 本発明で用いられる無機イオン交換体は、構
成成分中に−OH基を有することを特徴とし、金、銀、
銅、鉛、白金及びカドミウム等の金属イオンに高選択性
を有するアンチモン#1(sb205−nH2O)、ニ
オブ酸(N b205 ・nH2O)及びタンタル酸
に代表される五価金属の含水酸化物、銅及びアルミニウ
ム等に高選択性を有するリン酸ジルコニウムに代表され
る不溶性四価金属リン酸塩、ハロゲンイオンに高選択性
を有する含水酸化ビスマス、含水酸化鉛で代表される含
水金属酸化・物、鉛ヒドロキシアパタイトで代表される
アパタイト類並びにハイドロタルサイト類等種々挙げら
れる。
M” +、、R’+ x、−十H20・(C)〔無機イ
オン交換体〕 (a) 本発明で用いられる無機イオン交換体は、構
成成分中に−OH基を有することを特徴とし、金、銀、
銅、鉛、白金及びカドミウム等の金属イオンに高選択性
を有するアンチモン#1(sb205−nH2O)、ニ
オブ酸(N b205 ・nH2O)及びタンタル酸
に代表される五価金属の含水酸化物、銅及びアルミニウ
ム等に高選択性を有するリン酸ジルコニウムに代表され
る不溶性四価金属リン酸塩、ハロゲンイオンに高選択性
を有する含水酸化ビスマス、含水酸化鉛で代表される含
水金属酸化・物、鉛ヒドロキシアパタイトで代表される
アパタイト類並びにハイドロタルサイト類等種々挙げら
れる。
金属イオン捕捉用としてはこの他、タリウム酸、モリブ
デン酸及びタングステン酸等、ハロゲンイオン捕捉用と
しては、含水酸化鉄、含水酸化スズ、含水酸化アルミニ
ウム、含水酸化ジルコニウム及び含水酸化チタン等が挙
げられる。
デン酸及びタングステン酸等、ハロゲンイオン捕捉用と
しては、含水酸化鉄、含水酸化スズ、含水酸化アルミニ
ウム、含水酸化ジルコニウム及び含水酸化チタン等が挙
げられる。
これらの−〇H基を有する無機イオン交換体の内、アン
チモン酸で代表される二価金属の含水酸化物は銀、銅、
カドニウム、鉛、金及び白金のイオン、中でも特に銀イ
オンの捕捉に優れている。
チモン酸で代表される二価金属の含水酸化物は銀、銅、
カドニウム、鉛、金及び白金のイオン、中でも特に銀イ
オンの捕捉に優れている。
又亜ヒ酸ジルコニウムで代表される四価金属の亜ヒ酸塩
は特に銅イオンの捕捉に優れている。
は特に銅イオンの捕捉に優れている。
一方ハロゲンイオン捕捉用としては、含水酸化ビスマス
、含水酸化鉛及び鉛ヒドロキシアパタイトが有用であり
、中でも一〇H基を一部NOコ基に置換したものは、特
に優れている。
、含水酸化鉛及び鉛ヒドロキシアパタイトが有用であり
、中でも一〇H基を一部NOコ基に置換したものは、特
に優れている。
これら無機イオン交換体は、金属イオン捕捉用のものを
単独に使用しても、ハロゲンイオン捕捉用のものを併用
しても良い。
単独に使用しても、ハロゲンイオン捕捉用のものを併用
しても良い。
又、−011基を有する無機イオン交換体としては、2
種以上の金属元素を含む複合物(例えばアンチモン酸マ
ンガンやアンチモン酸スズ等)や混合物も使用可能であ
る。
種以上の金属元素を含む複合物(例えばアンチモン酸マ
ンガンやアンチモン酸スズ等)や混合物も使用可能であ
る。
本発明で用いられる金属含有ペーストとしては、前述の
通り電子回路の導体の材料として電子産業分野で用いら
れている通常のもので良く、例えば銀ペースト、銅ペー
スト、銀パラジウムペースト等の金属を含むペースト(
導電性ペースト、厚膜ペースト、導電性接着剤等と言わ
れる)が挙げられる。
通り電子回路の導体の材料として電子産業分野で用いら
れている通常のもので良く、例えば銀ペースト、銅ペー
スト、銀パラジウムペースト等の金属を含むペースト(
導電性ペースト、厚膜ペースト、導電性接着剤等と言わ
れる)が挙げられる。
本発明における無機イオン交換体をこれらに添加させる
方法は一般的な方法で良く、例えば構成金属粉、構成樹
脂又は溶剤等の必要成分と混練する方法がある。
方法は一般的な方法で良く、例えば構成金属粉、構成樹
脂又は溶剤等の必要成分と混練する方法がある。
無機イオン交換体を金属含有ペーストに含有させる量は
特に限定がないが、金属含有ペーストの導電性を阻害し
ない範囲が好まし☆、ペーストに対して0.1〜25重
量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜10重量%
である。
特に限定がないが、金属含有ペーストの導電性を阻害し
ない範囲が好まし☆、ペーストに対して0.1〜25重
量%が好ましく、より好ましくは、0.1〜10重量%
である。
無機イオン交換体の粒度は、細かい方が表面積が大きく
、かつ均一に分布しやすい。
、かつ均一に分布しやすい。
好ましい平均粒度は10μ以下で、より好ましくは5μ
以下である。
以下である。
(実施例及び比較例〕
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳しく
説明する。尚、実施例中「%」とあるは「重量%」、「
部」とあるは「重量部」である。
説明する。尚、実施例中「%」とあるは「重量%」、「
部」とあるは「重量部」である。
実施例1〜4、比較例1
レゾール型フェノール樹脂43部、銀粉末100部及び
溶剤(ブチルカルピトール)40部を加え合わせたもの
を5個git、、それらに−〇H基を有する無機イオン
交換体として、アンチモン酸−含水酸化ビスマス複合物
(モル比1:l)を0.0.1、l、5.35部加えた
。
溶剤(ブチルカルピトール)40部を加え合わせたもの
を5個git、、それらに−〇H基を有する無機イオン
交換体として、アンチモン酸−含水酸化ビスマス複合物
(モル比1:l)を0.0.1、l、5.35部加えた
。
これらを三本ロールでそれぞれ10分間混練し、無機イ
オン交換体を含んでなる金属台をペーストを5種類調製
した。
オン交換体を含んでなる金属台をペーストを5種類調製
した。
それぞれのペーストをスクリーン印刷法にて、ガラス−
エポキシ積層板に塗布し、180℃で1時間加熱硬化さ
せることにより、第1図に示すような2つの向かい合う
櫛形をした導体(電極)を形成した。
エポキシ積層板に塗布し、180℃で1時間加熱硬化さ
せることにより、第1図に示すような2つの向かい合う
櫛形をした導体(電極)を形成した。
第1図に示すように電極間の最短距離はいずれもll1
111であり、厚みは約20μである。
111であり、厚みは約20μである。
エレクトロマイグレーション現象の測定は、第1図に示
す2つの櫛形電極に100Vの直流電圧を印加すると共
に、40℃、95%R11に保ち、電極の変化を顕w1
.鏡で時間と共に観察した。
す2つの櫛形電極に100Vの直流電圧を印加すると共
に、40℃、95%R11に保ち、電極の変化を顕w1
.鏡で時間と共に観察した。
即ち、電極成分の銀の局部的な異状成長により、銀の樹
枝状の結晶(デンドライト)が、陰極から陽極へと伸び
ていき、最後に電極間が短絡するのに要した時間を測定
した。
枝状の結晶(デンドライト)が、陰極から陽極へと伸び
ていき、最後に電極間が短絡するのに要した時間を測定
した。
表1
実施例5〜8、比較例2
レゾール型フェノール樹脂43部、銅粉末100部及び
溶剤(ブチルカルピトール)40部を加え合わせたもの
を51I!調製し、それらに金属イオン捕捉用の一〇
〇基を有す−る無機イオン交換体としてリン酸ジルコニ
ウム粉末を0.0゜1.15.25部加えた。
溶剤(ブチルカルピトール)40部を加え合わせたもの
を51I!調製し、それらに金属イオン捕捉用の一〇
〇基を有す−る無機イオン交換体としてリン酸ジルコニ
ウム粉末を0.0゜1.15.25部加えた。
これらを三本ロールでそれぞれ10分間混線し、無機イ
オン交換体を含んでなる金属含有ペーストを5種類調製
した。
オン交換体を含んでなる金属含有ペーストを5種類調製
した。
それぞれのペーストを実施例1と同様にガラス−エポキ
シ積層板に第1図のパターンで塗布し、160℃で1時
間加熱硬化させた。
シ積層板に第1図のパターンで塗布し、160℃で1時
間加熱硬化させた。
次に硬化したペースト層を4%水酸化ナトリウム水溶液
に4分間浸漬し、水洗し、次に8%塩酸に4分間浸漬し
、水洗後、化学銅メツキ浴(硝酸銅15g/f、炭酸水
素ナトリウム10g/l、酒石酸カリウム30 g/l
、水酸化ナトリウム20 g/It及び37%ホルムア
ルデヒド100mff1を含む;pH11,5)に浸漬
し、メツキ成長速度2.5μ/br、の条件で化学銅メ
ツキを4時間行った。
に4分間浸漬し、水洗し、次に8%塩酸に4分間浸漬し
、水洗後、化学銅メツキ浴(硝酸銅15g/f、炭酸水
素ナトリウム10g/l、酒石酸カリウム30 g/l
、水酸化ナトリウム20 g/It及び37%ホルムア
ルデヒド100mff1を含む;pH11,5)に浸漬
し、メツキ成長速度2.5μ/br、の条件で化学銅メ
ツキを4時間行った。
この後水洗、乾燥し、電極を完成させた。
電極間に100vの直流電圧を印加すると共に、95℃
、90%RHに保ち、時間と共に起こる電極の変化を実
施例1と同様に観察した。
、90%RHに保ち、時間と共に起こる電極の変化を実
施例1と同様に観察した。
その結果を表2に示す。
表2
実施例9〜11
実施例3において使用した一〇H基を有する無機イオン
交換体の代わりに、金属イオン捕捉用の一〇〇基を有す
る無機イオン交換体としてアンチモン酸及びハロゲンイ
オン捕捉用として含水酸化鉛の混合物(重量比1:1)
(実施例9)、金属イオン捕捉用としてアンチモン酸及
びハロゲンイオン捕捉用として鉛ヒドロキシアパタイト
の混合物(重量比2:1)(実施例1O)、金属イオン
捕捉用としてリン酸チタン及びハロゲンイオン捕捉用と
して含水酸化チタンの混合物(重量比1:3)(実施例
11)を用い、他は実施例3と同じ条件で試験を行い短
絡現象を観察した。
交換体の代わりに、金属イオン捕捉用の一〇〇基を有す
る無機イオン交換体としてアンチモン酸及びハロゲンイ
オン捕捉用として含水酸化鉛の混合物(重量比1:1)
(実施例9)、金属イオン捕捉用としてアンチモン酸及
びハロゲンイオン捕捉用として鉛ヒドロキシアパタイト
の混合物(重量比2:1)(実施例1O)、金属イオン
捕捉用としてリン酸チタン及びハロゲンイオン捕捉用と
して含水酸化チタンの混合物(重量比1:3)(実施例
11)を用い、他は実施例3と同じ条件で試験を行い短
絡現象を観察した。
その結果を表3に示す。
表3
実施例12〜15
実施例6において使用した一〇H基を有する無機イオン
交換体の代わりに、亜ヒ酸ジルコニウム、リン酸チタン
、リン酸スズ、アンチモン酸を用い(順に実施例12.
13.14.15)、他は実施例6と同じ条件で試験を
行い短絡現象を観察した。
交換体の代わりに、亜ヒ酸ジルコニウム、リン酸チタン
、リン酸スズ、アンチモン酸を用い(順に実施例12.
13.14.15)、他は実施例6と同じ条件で試験を
行い短絡現象を観察した。
その結果を表4に示す。
表4
(3)発明の効果
本発明の一011基を有する無機イオン交換体を含んで
なる金属含有ペーストを用いると、電子部品や電子素子
の故障の原因として問題になっているエレクトロマイグ
レーション現象を防止することができ、これにより従来
よりも高い信頼性を有する電子vIA器が得られるよう
になった。
なる金属含有ペーストを用いると、電子部品や電子素子
の故障の原因として問題になっているエレクトロマイグ
レーション現象を防止することができ、これにより従来
よりも高い信頼性を有する電子vIA器が得られるよう
になった。
第1図は、この発明の実施例で用いた金属含有ペースト
をスクリーン印刷法にて塗布させた櫛形をした電極のパ
ターンである。 ここで電極間の最短距離はいずれもlllll11であ
る。 A、B・・・外部電源に接続するための端子部分(A、
[3はいずれかが十でも・う一方が−である。)
をスクリーン印刷法にて塗布させた櫛形をした電極のパ
ターンである。 ここで電極間の最短距離はいずれもlllll11であ
る。 A、B・・・外部電源に接続するための端子部分(A、
[3はいずれかが十でも・う一方が−である。)
Claims (1)
- 1、−OH基を有する無機イオン交換体を含有してなる
金属含有ペースト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18688186A JPS6345702A (ja) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | 金属含有ペ−スト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18688186A JPS6345702A (ja) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | 金属含有ペ−スト |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6345702A true JPS6345702A (ja) | 1988-02-26 |
JPH0554202B2 JPH0554202B2 (ja) | 1993-08-12 |
Family
ID=16196313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18688186A Granted JPS6345702A (ja) | 1986-08-11 | 1986-08-11 | 金属含有ペ−スト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6345702A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPH10126028A (ja) * | 1996-10-22 | 1998-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | プリント基板 |
JP2000292916A (ja) * | 1999-04-05 | 2000-10-20 | Murata Mfg Co Ltd | ペースト組成物、グリーンシート、並びに、多層回路基板 |
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