JPS6344727A - スピンナ− - Google Patents

スピンナ−

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Publication number
JPS6344727A
JPS6344727A JP18892386A JP18892386A JPS6344727A JP S6344727 A JPS6344727 A JP S6344727A JP 18892386 A JP18892386 A JP 18892386A JP 18892386 A JP18892386 A JP 18892386A JP S6344727 A JPS6344727 A JP S6344727A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
resist
cup
spinner
coating plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18892386A
Other languages
English (en)
Inventor
Masafumi Kobayashi
雅史 小林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP18892386A priority Critical patent/JPS6344727A/ja
Publication of JPS6344727A publication Critical patent/JPS6344727A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はウェハ等の表面にレジストを塗布−fるスピン
ナーに関する。
〔従来の技術〕
従来、第3図に示すようにウェハ等を支持するターンテ
ーブルとスピンナ一本体の内壁との間には何も設けられ
ていないスピンナーが知られていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来のスピンナーは、ウェハ等の表面にレジス
トを塗布する際、回転するウェハより1赦したレジスト
aがスピンナ一本体の内壁に衝突してはね返り、前記ウ
ェハ等のレジスト塗布面に再付着して厚みむらや染みを
生ずるという問題点を有していた。
そこで本発明は従来のこのような問題点を解決するため
、レジスト塗布面にレジスト滴がはね返らないスピンナ
ーを得ることを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明のスピンナーにおいて、前記ウェハ等を支持する
ターンテーブルの外局部の外側にカップを本体に着脱可
能に設け、前記カップの高さが前記ウェハ等のレジスト
塗布面の高さよりも高くなるような高さに形成され、か
つ前記カップの内壁面に多孔質または繊維質の吸温材が
取付けられていることを特徴とする。
〔実施例〕
以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説明する。第
1図は本発明のスピンナー上部の断面図であって、ウェ
ハ1はコの字形の本体6に係合する軸3に取付けられて
いるターンテーブル2によって支持され、軸3によって
回転する。ウェハ1を支持するターンテーブル2の外周
部の外側にはカップ4が本体6に着脱可能に設けられて
おり、スピンジなどの多孔質材料やガーゼやフェルドナ
どの繊維質材料よりなる吸温材5がウェハのレジスト塗
布面の高さよりも高くなるように形成され、カップ4の
内壁に取付けられている。ウェハ1にレジストを塗布す
る際、ウェハ1のレジスト塗布面に滴下されたレジスト
は、ターンテーブル2の回転によってウェハ1も回転さ
せられて遠心力によって外周方向に飛散させられるが、
飛散させられたレジスト滴はカップの内壁面に取付けら
れた吸温材5に吸着されるのである。この結果、レジス
ト滴のはね返りが起こらず、ウェハ1の表面に均一で欠
陥のないレジスト塗布面が得られる。
第2図において、14は吸温材のみよりなるカップであ
って、ウェハのレジスト塗布面の高さより高くなるよう
に形成されておりレジスト滴を大量に吸収した際はカッ
プ14をそっくり交換する、このようにカップをレジス
ト塗布面より高く形成し、吸温材で作製することによっ
て、本体をレジスト付着により清掃する手間が省けるの
みならず、カップと吸温材とを相互に脱着させることが
不要になるという利点を有する。
〔発明の効果〕
本発明は、以上説明したように、ウェハ等の周囲をレジ
スト塗布面より高く形成し、多孔質または繊維質である
吸温材で囲んだという簡単な構造によって、レジスト滴
のはね返りを防ぎ、均一で欠陥のないレジスト塗布面を
得ることができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の実施例を示すスピンナーの縦断面図
。 第2図は、本発明の他の実施例を示すスピンナーの縦断
面図。 第3図は、従来のスピンナーの縦断面図。 1・・・・・・・・・ウェハ 2・・・・・・・・・ターンテーブル 3・・・・・・・・・軸 4.14・・・カップ 5・・・・・・・・・吸温材 6・・・・・・・・・本 体 以上

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ウェハ等の表面にレジストを塗布するスピンナーにお
    いて、前記ウェハ等を支持するターンテーブル外周部の
    外側にカップを本体に着脱可能に設け、前記カップの高
    さが前記ウェハ等のレジスト塗布面の高さよりも高くな
    るような高さに形成され、かつ前記カップの内壁面に多
    孔質または繊維質の吸温材が取付けられていることを特
    徴とするスピンナー。
JP18892386A 1986-08-12 1986-08-12 スピンナ− Pending JPS6344727A (ja)

Priority Applications (1)

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JP18892386A JPS6344727A (ja) 1986-08-12 1986-08-12 スピンナ−

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JP18892386A JPS6344727A (ja) 1986-08-12 1986-08-12 スピンナ−

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JPS6344727A true JPS6344727A (ja) 1988-02-25

Family

ID=16232248

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JP18892386A Pending JPS6344727A (ja) 1986-08-12 1986-08-12 スピンナ−

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