JPS6343444Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6343444Y2 JPS6343444Y2 JP1981188706U JP18870681U JPS6343444Y2 JP S6343444 Y2 JPS6343444 Y2 JP S6343444Y2 JP 1981188706 U JP1981188706 U JP 1981188706U JP 18870681 U JP18870681 U JP 18870681U JP S6343444 Y2 JPS6343444 Y2 JP S6343444Y2
- Authority
- JP
- Japan
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- sample
- float
- liquid substance
- holder
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(1) 考案の技術分野
本考案は顕微鏡等の検査装置の試料を搭載する
載物台の特に大量の検査に適する構造に関す。
載物台の特に大量の検査に適する構造に関す。
(2) 技術の背景
半導体集積回路等の製造工程において、半導体
の活性領域、電極或いは配線等の形成に光或いは
電子ビームを用いたリングラフイ法が広く用いら
れており、その際に各種のパターンをレジスト等
に形成するためには、マスクを用いて露光処理を
行うことが通常行われている。
の活性領域、電極或いは配線等の形成に光或いは
電子ビームを用いたリングラフイ法が広く用いら
れており、その際に各種のパターンをレジスト等
に形成するためには、マスクを用いて露光処理を
行うことが通常行われている。
このマスクは使用に先立つて詳細な検査が行わ
れるが、マスクが次第に精密、微細化し、かつ数
量が増加するに伴つてその検査が大きい比重を占
めることとなり、マスクの検査についてもその質
と量について能力の向上が求められている。
れるが、マスクが次第に精密、微細化し、かつ数
量が増加するに伴つてその検査が大きい比重を占
めることとなり、マスクの検査についてもその質
と量について能力の向上が求められている。
(3) 従来技術と問題点
マスクに形成されたパターンを拡大して検査す
るために顕微鏡が用いられるが、試料と顕微鏡の
対物レンズとの間隔の許容範囲が狭いために、試
料が交換されたとき、或いは同一試料についても
検査位置が移動するときに、レンズ側或いは載物
台側の調節移動が必要となることが多い。その原
因の例としては、交換前後の試料間の厚さの差、
ごみ等が介在することにより試料面が光軸に対し
て垂直の位置からずれることなどがある。
るために顕微鏡が用いられるが、試料と顕微鏡の
対物レンズとの間隔の許容範囲が狭いために、試
料が交換されたとき、或いは同一試料についても
検査位置が移動するときに、レンズ側或いは載物
台側の調節移動が必要となることが多い。その原
因の例としては、交換前後の試料間の厚さの差、
ごみ等が介在することにより試料面が光軸に対し
て垂直の位置からずれることなどがある。
従来の載物台でその載物面と光軸とのなす角度
を調整可能とするために、三個所のねじ送り機構
によつて載物面を移動する構造のものがある。こ
の構造の載物台を用いて試料面を光軸に垂直に調
整し、また対物レンズと試料面との間隔を調整す
ることは可能ではあるが、迂遠でありまた検査装
置として自動化するのになじみ難い構造であつ
て、自動化になじみ易い簡明な構造が要求され
る。
を調整可能とするために、三個所のねじ送り機構
によつて載物面を移動する構造のものがある。こ
の構造の載物台を用いて試料面を光軸に垂直に調
整し、また対物レンズと試料面との間隔を調整す
ることは可能ではあるが、迂遠でありまた検査装
置として自動化するのになじみ難い構造であつ
て、自動化になじみ易い簡明な構造が要求され
る。
(4) 考案の目的
本考案は顕微鏡等の検査装置の試料を搭載する
載物台において、該試料の被検査面を所要の位置
に置く確実で大量の検査に適した構造を提供する
ことを目的とする。
載物台において、該試料の被検査面を所要の位置
に置く確実で大量の検査に適した構造を提供する
ことを目的とする。
(5) 考案の構成
本考案の前記目的は、試料をフロート上に置
き、該試料を該フロートと共に液体物質により浮
上させて、位置決めストツパーに該試料の上面の
一部を接触させることにより達成される。
き、該試料を該フロートと共に液体物質により浮
上させて、位置決めストツパーに該試料の上面の
一部を接触させることにより達成される。
(6) 考案の実施例
以下本考案を実施例により図面を参照して具体
的に説明する。
的に説明する。
第1図aは本考案の一実施例の平面図、第1図
bはその−′断面図である。図において1は
被検査試料であつて、その上面を顕微鏡により検
査するものとする。試料1は予めホルダー2上に
置かれている。本実施例においてホルダー2はフ
ロートを兼ねるためにその底面及び側面は密閉さ
れており、更に試料1を搭載したときにかなりの
空間3が残る高さの側板を備えている。
bはその−′断面図である。図において1は
被検査試料であつて、その上面を顕微鏡により検
査するものとする。試料1は予めホルダー2上に
置かれている。本実施例においてホルダー2はフ
ロートを兼ねるためにその底面及び側面は密閉さ
れており、更に試料1を搭載したときにかなりの
空間3が残る高さの側板を備えている。
本実施例の載物台の基板4は図に示す如く矩形
の箱状をなし、その一辺はホルダー2を1個収容
するに足る程度、他の一辺はホルダー2の供給、
取出しに足る余裕が与えられている。この基板4
内に液体物質5が収容されて、試料1を搭載した
前記のフロートを兼ねるホルダー2は基板4上に
置かれたとき、この液体物質5によつて浮上す
る。
の箱状をなし、その一辺はホルダー2を1個収容
するに足る程度、他の一辺はホルダー2の供給、
取出しに足る余裕が与えられている。この基板4
内に液体物質5が収容されて、試料1を搭載した
前記のフロートを兼ねるホルダー2は基板4上に
置かれたとき、この液体物質5によつて浮上す
る。
他方本実施例においては、水平面を与える3個
の位置決めストツパー6が配設されている。前記
の試料1を搭載したフロートを兼ねるホルダー2
が、これを水平方向に送る機構(図では省略)に
より、第1図aに示す位置に置かれた後に、位置
決めストツパー6が移動して所定の水平面を与え
る位置につく。このとき、位置決めストツパー6
は試料1の上面の端の部分に接触し、試料1は浮
力によつて下方から支えられているためにその上
面が位置決めストツパー6によつて決定される水
平面に保持される。
の位置決めストツパー6が配設されている。前記
の試料1を搭載したフロートを兼ねるホルダー2
が、これを水平方向に送る機構(図では省略)に
より、第1図aに示す位置に置かれた後に、位置
決めストツパー6が移動して所定の水平面を与え
る位置につく。このとき、位置決めストツパー6
は試料1の上面の端の部分に接触し、試料1は浮
力によつて下方から支えられているためにその上
面が位置決めストツパー6によつて決定される水
平面に保持される。
また第2図は本考案の他の実施例を示す模式断
面図であり、第2図において、第1図aもしくは
bと同一符号は同一対象物を示す。本実施例にお
いては、ホルダー2′はフロートを兼ねず、別に
フロート7を設けている。また位置決めストツパ
ー6′は前記例の如く、試料1の供給、取出しに
際して移動せず、所定の水平面を更に確実に与え
る構造である。
面図であり、第2図において、第1図aもしくは
bと同一符号は同一対象物を示す。本実施例にお
いては、ホルダー2′はフロートを兼ねず、別に
フロート7を設けている。また位置決めストツパ
ー6′は前記例の如く、試料1の供給、取出しに
際して移動せず、所定の水平面を更に確実に与え
る構造である。
本実施例においては、液体物質5が基板4の底
部に設けられた管8によつて該載物台外に設けら
れたタンク9と流通し得る構造を有し、タンク9
を移動し、或いはタンク9内において該液体物質
5に圧力を加えもしくは圧力を減ずることによつ
て、基板4内の該液体物質5の量を増減して試料
1の高さを容易に変化することが可能である。
部に設けられた管8によつて該載物台外に設けら
れたタンク9と流通し得る構造を有し、タンク9
を移動し、或いはタンク9内において該液体物質
5に圧力を加えもしくは圧力を減ずることによつ
て、基板4内の該液体物質5の量を増減して試料
1の高さを容易に変化することが可能である。
この機能を利用して、試料1、ホルダー2′及
びフロート7を水平方向に送る試料1の供給、取
出しに際しては、液体物質5の基板4内の量を減
少することによつて試料1を低くし、水平方向の
移動終了後に液体物質5の基板4内の量を増加し
て、試料1の上面を位置決めストツパー6′に接
触させることによつて、この面が所定の位置に保
持される。
びフロート7を水平方向に送る試料1の供給、取
出しに際しては、液体物質5の基板4内の量を減
少することによつて試料1を低くし、水平方向の
移動終了後に液体物質5の基板4内の量を増加し
て、試料1の上面を位置決めストツパー6′に接
触させることによつて、この面が所定の位置に保
持される。
なお、前記実施例においては試料1の上面を3
点で決定される水平面に保持するとしたが、浮力
による回転トルクを生じない条件を選択すること
により、2点によつて位置決めを行うことが可能
な場合もある。
点で決定される水平面に保持するとしたが、浮力
による回転トルクを生じない条件を選択すること
により、2点によつて位置決めを行うことが可能
な場合もある。
また、試料1に反りがある場合等には、水平位
置を基準として位置決めストツパーに微細調整を
加えることによつて追随することも可能である。
置を基準として位置決めストツパーに微細調整を
加えることによつて追随することも可能である。
(7) 考案の効果
本考案は以上説明した如く、顕微鏡等の検査装
置に関して、試料をフロート上に置き、該試料を
該フロートと共に液体物質により浮上させて、位
置決めストツパーに該試料の上面の一部を接触さ
せることにより、該試料面を所要の位置に保持す
る載物台を提供するものであつて、被検査面を正
確な位置に保持し、かつ自動化になじみ易く、半
導体装置の製造工程に使用されるマスク等の大量
の検査の質と量についての能力向上に大きい効果
を有する。
置に関して、試料をフロート上に置き、該試料を
該フロートと共に液体物質により浮上させて、位
置決めストツパーに該試料の上面の一部を接触さ
せることにより、該試料面を所要の位置に保持す
る載物台を提供するものであつて、被検査面を正
確な位置に保持し、かつ自動化になじみ易く、半
導体装置の製造工程に使用されるマスク等の大量
の検査の質と量についての能力向上に大きい効果
を有する。
第1図aは本考案の実施例を示す平面図、第1
図bはその−′断面図、第2図は他の実施例
を示す模式断面図である。 図において、1は試料、2及び2′はホルダー、
3は空間、4は基板、5は液体物質、6及び6′
は位置決めストツパー、7はフロート、8は管、
9はタンクを示す。
図bはその−′断面図、第2図は他の実施例
を示す模式断面図である。 図において、1は試料、2及び2′はホルダー、
3は空間、4は基板、5は液体物質、6及び6′
は位置決めストツパー、7はフロート、8は管、
9はタンクを示す。
Claims (1)
- 試料をフロート上に置き、該試料を該フロート
と共に液体物質により浮上させて、位置決めスト
ツパーに該試料の上面の一部を接触させることに
より、該試料面を所要の位置に保持することを特
徴とする載物台。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981188706U JPS5893909U (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 載物台 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1981188706U JPS5893909U (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 載物台 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5893909U JPS5893909U (ja) | 1983-06-25 |
JPS6343444Y2 true JPS6343444Y2 (ja) | 1988-11-14 |
Family
ID=30103000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1981188706U Granted JPS5893909U (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 載物台 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5893909U (ja) |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP1981188706U patent/JPS5893909U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5893909U (ja) | 1983-06-25 |
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