JPS63421B2 - - Google Patents
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- JPS63421B2 JPS63421B2 JP54095255A JP9525579A JPS63421B2 JP S63421 B2 JPS63421 B2 JP S63421B2 JP 54095255 A JP54095255 A JP 54095255A JP 9525579 A JP9525579 A JP 9525579A JP S63421 B2 JPS63421 B2 JP S63421B2
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Description
本発明は抗生物質修飾剤あるいは消炎鎮痛剤の
中間体として有用なフエニル酢酸類、特に４−ヒ
ドロキシフエニル酢酸又はそのアルキルエステル
の新規な製造法を提供するものである。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸類を製造する方法
として、４−ヒドロキシベンズアルデ法、４−ヒ
ドロキシアセトフエノン法、４−ヒドロキシフエ
ニルマロン酸エステル法等が文献に記載されてい
るが、上記の原料が高価であつたり、目的物の収
率が低いこと等の理由で工業的実施には必ずしも
満足出来ない。 しかるに、本発明者等はかかる問題を解決し工
業的有利に４−ヒドロキシフエニル酢酸等のフエ
ニル酢酸類を製造することを目的として鋭意研究
を重ねた結果、一般式
中間体として有用なフエニル酢酸類、特に４−ヒ
ドロキシフエニル酢酸又はそのアルキルエステル
の新規な製造法を提供するものである。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸類を製造する方法
として、４−ヒドロキシベンズアルデ法、４−ヒ
ドロキシアセトフエノン法、４−ヒドロキシフエ
ニルマロン酸エステル法等が文献に記載されてい
るが、上記の原料が高価であつたり、目的物の収
率が低いこと等の理由で工業的実施には必ずしも
満足出来ない。 しかるに、本発明者等はかかる問題を解決し工
業的有利に４−ヒドロキシフエニル酢酸等のフエ
ニル酢酸類を製造することを目的として鋭意研究
を重ねた結果、一般式
【式】〔ここでＸ；ハロ
ゲン、R1、R2、R3；水素又は低級アルキル基、
以下同様〕で表わされるハロゲン置換フエニル酢
酸類、特に３−クロロ−４−ヒドロキシフエニル
酢酸類を脱ハロゲンすることによつて一般式
以下同様〕で表わされるハロゲン置換フエニル酢
酸類、特に３−クロロ−４−ヒドロキシフエニル
酢酸類を脱ハロゲンすることによつて一般式
【式】〔R1、R2、R3は前
記同様〕で表わされるフエニル酢酸類、特に４−
ヒドロキシフエニル酢酸類が収率良く得られると
いう新規な事実を見出し本発明を完成するに到つ
た。 一般にベンゼン核に存在するハロゲンを脱ハロ
ゲン化することは公知であるが、本発明の如き一
般式
ヒドロキシフエニル酢酸類が収率良く得られると
いう新規な事実を見出し本発明を完成するに到つ
た。 一般にベンゼン核に存在するハロゲンを脱ハロ
ゲン化することは公知であるが、本発明の如き一
般式
【式】で表わされる
ハロゲン置換フエニル酢酸類を脱ハロゲンするこ
とは全く知られていない。本発明ではかかる原料
から脱ハロゲンにより容易に医薬中間体として有
用なフエニル酢酸類が得られるものであり、その
技術の新規性と共に工業的利用価値は極めて大で
ある。 本発明においてR1、R2、R3はそれぞれ水素、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の
低級アルキル基を示す。更にＸはクロル、ブロム
等のハロゲンを示し、R1、R2、R3、Ｘはいずれ
の組合せの化合物であつても良い。３−クロロ−
４−ヒドロキシフエニル酢酸から４−ヒドロキシ
フエニル酢酸又はそのアルキルエステルを製造す
る場合が好適に実施される。上記の場合、３−ク
ロロ−４−ヒドロキシフエニル酢酸はグリオキシ
ル酸とＯ−クロロフエノールとからマンデル酸誘
導体を経て容易に調製が可能であり、本発明の方
法は従来法に比べて原料の価格面、及び目的物の
収率面で利点を有しており、その有用性は極めて
高い。 本発明においては一般式
とは全く知られていない。本発明ではかかる原料
から脱ハロゲンにより容易に医薬中間体として有
用なフエニル酢酸類が得られるものであり、その
技術の新規性と共に工業的利用価値は極めて大で
ある。 本発明においてR1、R2、R3はそれぞれ水素、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の
低級アルキル基を示す。更にＸはクロル、ブロム
等のハロゲンを示し、R1、R2、R3、Ｘはいずれ
の組合せの化合物であつても良い。３−クロロ−
４−ヒドロキシフエニル酢酸から４−ヒドロキシ
フエニル酢酸又はそのアルキルエステルを製造す
る場合が好適に実施される。上記の場合、３−ク
ロロ−４−ヒドロキシフエニル酢酸はグリオキシ
ル酸とＯ−クロロフエノールとからマンデル酸誘
導体を経て容易に調製が可能であり、本発明の方
法は従来法に比べて原料の価格面、及び目的物の
収率面で利点を有しており、その有用性は極めて
高い。 本発明においては一般式
【式】で示されるハロゲ
ン置換フエニル酢酸類を脱ハロゲン化するには接
触水素化分解法が有利に実施される。 本発明において上記接触水素化分解を行なうに
際しては系中に強酸を共存させることが必要であ
る。 従来の知見によればベンゼン核のハロゲンを接
触水素化分解により脱ハロゲンする場合には塩基
の存在が収率面で好ましいことが知られている
が、本発明において接触水素化分解を行うに当つ
てはかかる従来の知見とは全く逆に、強酸を系に
存在させることが不可欠の要件であり、むしろ塩
基の存在はフエニル酢酸類の収率を低下させる原
因となる。この点本発明のハロゲン置換フエニル
酢酸類の脱ハロゲンは従来の脱ハロゲン反応とそ
の機構を異にする特異な現象と考えられる。 更に、接触水素分解法を行なうに当つてはラネ
ーニツケル等のニツケル系触媒、パラジウム炭素
等のパラジウム系触媒、又は白金系触媒を用いる
ことが必要である。 本発明においては溶媒の選定も重要な要件であ
り、その種類によつて目的物の収率が大巾に変わ
る。好適な溶媒としては、水溶媒、メタノール、
エタノール等の低級アルコール溶媒、及びこれら
の混合溶媒があげられる。該溶媒には更に１％〜
等量程度の酢酸、酢酸エステル、あるいはエーテ
ル等相溶性のある溶媒を混合することも可能であ
る。特にアルコール溶媒に１％〜等量程度の水又
は酢酸を添加する場合、アルコール溶媒単独使用
に比べて反応速度が向上する効果が得られる。 反応は常圧又は加圧下で実施出来る。又、強酸
としては塩酸、硫酸、オルトリン酸、ポリリン
酸、過塩素酸、過臭素酸、臭化水素酸、等の無機
酸あるいはメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸等の有機酸が例示され
る。かかる強酸の中でも硫酸が好適に使用され
る。強酸はハロゲン置換フエニル酢酸類１モルに
対し0.05〜0.50モルの範囲で使用される。反応温
度は室温〜100℃なかんずく50〜80℃が好適であ
り、反応時間は１〜10時間の範囲から選択するの
が好ましい。 かくして脱ハロゲンが終了した後は、常法に従
つて触媒成分を除去し、反応液より４−ヒドロキ
シフエニル酢酸類等の脱ハロゲン化物を溶媒抽出
する。抽出液から溶媒を除去すれば結晶状又はオ
イル状の目的物が得られる。ついで必要に応じて
精製処理を実施出来る。 本発明によれば例えば４−ヒドロキシフエニル
酢酸又はそのアルキルエステルが３−クロロ−４
−ヒドロキシフエニル酢酸に対して90％以上の収
率で得られ、その工業的な利用価値は極めて大で
あると言える。 次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説
明する。以下「％」となるのは特にことわりのな
い限り重量基準である。 実例 １ 振とう式耐圧反応器中でメタノール10ml中に３
−クロロ−４−ヒドロキシフエニル酢酸2.5ｇを
溶解したのち、95％硫酸0.175mlを添加した。次
に５％パラジウム／炭素触媒を260mg添加し、反
応器を密閉し、窒素ガス置換後、62℃まで昇温す
る。次いで水素ガス置換し、水素圧を５Kg／cm2に
保ちながら65〜67℃の温度にて撹拌下に4.5時間
接触水素化分解を行つた。 反応終了後、室温まで冷却し、水素ガスをパー
ジし、触媒を別した。液を減圧下に濃縮して
メタノールを留去し、残渣に飽和食塩水10mlを加
えた後、酢酸エチル30mlで抽出を行つた。酢酸エ
チルを留去すると淡褐色のオイル状物が2.1ｇ得
られた。 得られたオイル状物についてガスクロマトグラ
ム、赤外線吸収スペクトル、NMRスペクトルを
測定したところ標品の４−ヒドロキシフエニル酢
酸メチルのそれと一致した。４−ヒドロキシフエ
ニル酢酸の収率は３−クロロ−４−ヒドロキシフ
エニル酢酸に対して94.4％であつた。 実例 ２ ５％パラジウム／炭素の使用量を133mg、水素
圧を６Kg／cm2、反応温度を70〜77℃、反応時間を
５時間に変更した以外は実例１と同様の実験を行
つた。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸メチルが90％の収
率で得られた。 実例 ３〜４ 実例２においてメタノールを水に（実例３）、
及び水−酢酸（重量比１：１）に（実例４）変更
した以外は同例と同じ実験を行つた。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸が実例３では95
％、実例４では90％の収率が得られた。
触水素化分解法が有利に実施される。 本発明において上記接触水素化分解を行なうに
際しては系中に強酸を共存させることが必要であ
る。 従来の知見によればベンゼン核のハロゲンを接
触水素化分解により脱ハロゲンする場合には塩基
の存在が収率面で好ましいことが知られている
が、本発明において接触水素化分解を行うに当つ
てはかかる従来の知見とは全く逆に、強酸を系に
存在させることが不可欠の要件であり、むしろ塩
基の存在はフエニル酢酸類の収率を低下させる原
因となる。この点本発明のハロゲン置換フエニル
酢酸類の脱ハロゲンは従来の脱ハロゲン反応とそ
の機構を異にする特異な現象と考えられる。 更に、接触水素分解法を行なうに当つてはラネ
ーニツケル等のニツケル系触媒、パラジウム炭素
等のパラジウム系触媒、又は白金系触媒を用いる
ことが必要である。 本発明においては溶媒の選定も重要な要件であ
り、その種類によつて目的物の収率が大巾に変わ
る。好適な溶媒としては、水溶媒、メタノール、
エタノール等の低級アルコール溶媒、及びこれら
の混合溶媒があげられる。該溶媒には更に１％〜
等量程度の酢酸、酢酸エステル、あるいはエーテ
ル等相溶性のある溶媒を混合することも可能であ
る。特にアルコール溶媒に１％〜等量程度の水又
は酢酸を添加する場合、アルコール溶媒単独使用
に比べて反応速度が向上する効果が得られる。 反応は常圧又は加圧下で実施出来る。又、強酸
としては塩酸、硫酸、オルトリン酸、ポリリン
酸、過塩素酸、過臭素酸、臭化水素酸、等の無機
酸あるいはメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン
酸、トルエンスルホン酸等の有機酸が例示され
る。かかる強酸の中でも硫酸が好適に使用され
る。強酸はハロゲン置換フエニル酢酸類１モルに
対し0.05〜0.50モルの範囲で使用される。反応温
度は室温〜100℃なかんずく50〜80℃が好適であ
り、反応時間は１〜10時間の範囲から選択するの
が好ましい。 かくして脱ハロゲンが終了した後は、常法に従
つて触媒成分を除去し、反応液より４−ヒドロキ
シフエニル酢酸類等の脱ハロゲン化物を溶媒抽出
する。抽出液から溶媒を除去すれば結晶状又はオ
イル状の目的物が得られる。ついで必要に応じて
精製処理を実施出来る。 本発明によれば例えば４−ヒドロキシフエニル
酢酸又はそのアルキルエステルが３−クロロ−４
−ヒドロキシフエニル酢酸に対して90％以上の収
率で得られ、その工業的な利用価値は極めて大で
あると言える。 次に実例を挙げて本発明の方法を更に詳しく説
明する。以下「％」となるのは特にことわりのな
い限り重量基準である。 実例 １ 振とう式耐圧反応器中でメタノール10ml中に３
−クロロ−４−ヒドロキシフエニル酢酸2.5ｇを
溶解したのち、95％硫酸0.175mlを添加した。次
に５％パラジウム／炭素触媒を260mg添加し、反
応器を密閉し、窒素ガス置換後、62℃まで昇温す
る。次いで水素ガス置換し、水素圧を５Kg／cm2に
保ちながら65〜67℃の温度にて撹拌下に4.5時間
接触水素化分解を行つた。 反応終了後、室温まで冷却し、水素ガスをパー
ジし、触媒を別した。液を減圧下に濃縮して
メタノールを留去し、残渣に飽和食塩水10mlを加
えた後、酢酸エチル30mlで抽出を行つた。酢酸エ
チルを留去すると淡褐色のオイル状物が2.1ｇ得
られた。 得られたオイル状物についてガスクロマトグラ
ム、赤外線吸収スペクトル、NMRスペクトルを
測定したところ標品の４−ヒドロキシフエニル酢
酸メチルのそれと一致した。４−ヒドロキシフエ
ニル酢酸の収率は３−クロロ−４−ヒドロキシフ
エニル酢酸に対して94.4％であつた。 実例 ２ ５％パラジウム／炭素の使用量を133mg、水素
圧を６Kg／cm2、反応温度を70〜77℃、反応時間を
５時間に変更した以外は実例１と同様の実験を行
つた。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸メチルが90％の収
率で得られた。 実例 ３〜４ 実例２においてメタノールを水に（実例３）、
及び水−酢酸（重量比１：１）に（実例４）変更
した以外は同例と同じ実験を行つた。 ４−ヒドロキシフエニル酢酸が実例３では95
％、実例４では90％の収率が得られた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式【式】〔ここ でＸ；ハロゲン、R1、R2、R3；水素又は低級ア
ルキル基〕で表されるハロゲン置換フエニル酢酸
類を強酸の存在下に接触水素化分解を行つて脱ハ
ロゲンすることを特徴とする一般式
【式】〔ここでR1、R2、 R3は前記と同様〕で表されるフエニル酢酸類の
製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9525579A JPS5618936A (en) | 1979-07-25 | 1979-07-25 | Production of phenylacetic acid |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9525579A JPS5618936A (en) | 1979-07-25 | 1979-07-25 | Production of phenylacetic acid |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5618936A JPS5618936A (en) | 1981-02-23 |
| JPS63421B2 true JPS63421B2 (ja) | 1988-01-07 |
Family
ID=14132644
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9525579A Granted JPS5618936A (en) | 1979-07-25 | 1979-07-25 | Production of phenylacetic acid |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5618936A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3151589A1 (de) * | 1981-12-28 | 1983-07-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Diether von m- oder p-hydroxyphenolen und verfahren zur herstellung der diether oder monoether von m- oder p-hydroxyphenolen |
| FR2686877B1 (fr) * | 1992-01-31 | 1995-03-24 | Hoechst France | Procede de preparation de l'acide orthohydroxyphenylacetique. |
| JP2813796B2 (ja) * | 1995-11-10 | 1998-10-22 | 立体写真像株式会社 | 浮彫写真像制作方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54125635A (en) * | 1978-02-20 | 1979-09-29 | Diamalt Ag | Manufacture of 44hydroxyphenylacetic acid |
-
1979
- 1979-07-25 JP JP9525579A patent/JPS5618936A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54125635A (en) * | 1978-02-20 | 1979-09-29 | Diamalt Ag | Manufacture of 44hydroxyphenylacetic acid |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5618936A (en) | 1981-02-23 |
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