JPS6339897A - Ｎ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−ａ−アスパルチル−フエニルアラニンエステルの製造方法 - Google Patents
Ｎ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−ａ−アスパルチル−フエニルアラニンエステルの製造方法Info
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- JPS6339897A JPS6339897A JP61181861A JP18186186A JPS6339897A JP S6339897 A JPS6339897 A JP S6339897A JP 61181861 A JP61181861 A JP 61181861A JP 18186186 A JP18186186 A JP 18186186A JP S6339897 A JPS6339897 A JP S6339897A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Peptides Or Proteins (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、一般式（１）
％式％
（式中、Ｒはアミン基の保護基を、Ｒ′はＣ４〜Ｃ４の
アルキル基を示す。） で表わされるＮ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−ア
スパルチル−フェニルアラニンエステルの製造法に関す
る。
アルキル基を示す。） で表わされるＮ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−ア
スパルチル−フェニルアラニンエステルの製造法に関す
る。
Ｎ−保１ｌ−Ｎ−ヒドロギシメチルーα−アスパルチル
−フェニルアラニンエステルは、近年、低カロリー甘味
剤として注目を集めているＬ−α−アスパルチル−フェ
ニルアラニンエステルの製造用中間体として重要性がと
みに増してきている物質である。
−フェニルアラニンエステルは、近年、低カロリー甘味
剤として注目を集めているＬ−α−アスパルチル−フェ
ニルアラニンエステルの製造用中間体として重要性がと
みに増してきている物質である。
一般式（ＩＩ）
（式中、Ｒは前記に同じ。）
で表わされるα−〔３−置換−５−オキソオキサゾリジ
ニル−（４）〕−酢酸（以下オキサゾリジノン誘導体と
略す。）と一般式（１１１３（式中、Ｒ′は前記に同じ
。） で表わされるフェニルアラニンエステルとを。
ニル−（４）〕−酢酸（以下オキサゾリジノン誘導体と
略す。）と一般式（１１１３（式中、Ｒ′は前記に同じ
。） で表わされるフェニルアラニンエステルとを。
オキサゾリジノン誘導体（ＩＩ）に対して当量以上の塩
基性触媒の存在下に縮合させて、一般式（ＩＶ） （式中、Ｒ及びＲ′は前記に同じ。） で表わされるＮ −保％−α−アスパルチル−フェニル
アラニンエステルを製造する方法は既に知られている（
特公昭４８−８１２号及び特開昭４９−３５３５２号）
。
基性触媒の存在下に縮合させて、一般式（ＩＶ） （式中、Ｒ及びＲ′は前記に同じ。） で表わされるＮ −保％−α−アスパルチル−フェニル
アラニンエステルを製造する方法は既に知られている（
特公昭４８−８１２号及び特開昭４９−３５３５２号）
。
しかし、上記方法を詳細に検討すると、下式％式％
（式中、Ｒ及びＲ′は前記に同じ。）
（／ｃ示すごとく、化合物（１１）と化合物（ＩＩ）と
を、縮合させると化合物（ＩＶ）ではなく、一般式（Ｉ
）で表わされるＮ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−α−
アスパルチル−フェニルアラニンエステルが生成するこ
と、塩基性触媒を化合物（ｆｆ） Ｋ対しＭ！ないしそ
れ以上用いる従来の方法では、反応を完結させることが
できないため、特許に記載の収率よりもはるかに低いと
いう問題点を有してい念。
を、縮合させると化合物（ＩＶ）ではなく、一般式（Ｉ
）で表わされるＮ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−α−
アスパルチル−フェニルアラニンエステルが生成するこ
と、塩基性触媒を化合物（ｆｆ） Ｋ対しＭ！ないしそ
れ以上用いる従来の方法では、反応を完結させることが
できないため、特許に記載の収率よりもはるかに低いと
いう問題点を有してい念。
そこで本発明者らは、上記方法を改良して完成された工
業的製造法とするべぐ縮合反応の条件を鋭意検討しｔ結
果、化合物（「）と化金物（■）との縮合反応に際し、
加える塩基性触媒の量により化合物（Ｉ）の生成収率が
左右されることが判明し、この塩基性触媒を化合物（Ｉ
Ｉ）に対して当量未満に抑えたところ、驚くべきことに
ほとんど定量的に反応が進行し、化合物（ｒ）を高収率
で得ることができることを見い出した。
業的製造法とするべぐ縮合反応の条件を鋭意検討しｔ結
果、化合物（「）と化金物（■）との縮合反応に際し、
加える塩基性触媒の量により化合物（Ｉ）の生成収率が
左右されることが判明し、この塩基性触媒を化合物（Ｉ
Ｉ）に対して当量未満に抑えたところ、驚くべきことに
ほとんど定量的に反応が進行し、化合物（ｒ）を高収率
で得ることができることを見い出した。
本発明は上記知見により完成されたものである。
本発明を更に詳しく説明すると、化合物（ＩＩ）のＲと
しては、ペプチド合成においてアミン基の保護基として
用いられるものなら何でもよく、例えば、置換又は非置
換のベンジルオキシカルボニル基、第３級ブトキシカル
ボニル基、第３級アミロキシカルボニル基などのアルキ
ル又はアリルオキシカルボニル基が挙げられるが、ベン
ジルオキシカルボニル基が好ましい。
しては、ペプチド合成においてアミン基の保護基として
用いられるものなら何でもよく、例えば、置換又は非置
換のベンジルオキシカルボニル基、第３級ブトキシカル
ボニル基、第３級アミロキシカルボニル基などのアルキ
ル又はアリルオキシカルボニル基が挙げられるが、ベン
ジルオキシカルボニル基が好ましい。
化合物（１）のＲ′としては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が挙げられる。
ロピル基、ブチル基等の低級アルキル基が挙げられる。
また、化合物（ｆｆ［）は、塩酸塩等のハロゲン化水素
酸塩の形で用いることができる。
酸塩の形で用いることができる。
塩基性触媒としては、反応に悪影響を与えない第３級ア
ミンなら何でもよく、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミンなどの脂肪族アミン、ピリジ
ン、Ｎ −メゲルモルホリンなどの含窒素複素環外化合
物、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニ
リンなどの芳香族アミンが挙げられるが、トリエチルア
ミンが好ましい。塩基性触媒の使用量は、用いる溶媒、
塩基性触媒のｐＫａ値により異なるので、化合物（旧知
対して当量未満であれば特に限定するものではないが、
０．１〜０１ｇ当量、好ましくは０．４〜０．８当量が
良く、化合物（ＩＩＴ）の使用量には大きく影響されな
い。例えば、化合物（旧としてα−（３−ベンジルオキ
シカルボニル−５−オキンオキサゾリジニル−（４））
−酢酸、化合物（ＩＩＩ）としてフェニルアラニンメチ
ルエステルを使用し、溶媒としてベンゼンを用いた場合
、塩基性触媒として用いるトリエチルアミンの使用ヂｌ
ｒ（佳、表１に示したよう（でα−〔３−ベンジルオキ
７カルボニルー５−オギソオキサゾリジニルー（４）〕
−酢酸に対して０．６当量前後が良い。同様に溶媒とし
て〕。
ミンなら何でもよく、トリエチルアミン、トリプロピル
アミン、トリブチルアミンなどの脂肪族アミン、ピリジ
ン、Ｎ −メゲルモルホリンなどの含窒素複素環外化合
物、Ｎ、Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチルアニ
リンなどの芳香族アミンが挙げられるが、トリエチルア
ミンが好ましい。塩基性触媒の使用量は、用いる溶媒、
塩基性触媒のｐＫａ値により異なるので、化合物（旧知
対して当量未満であれば特に限定するものではないが、
０．１〜０１ｇ当量、好ましくは０．４〜０．８当量が
良く、化合物（ＩＩＴ）の使用量には大きく影響されな
い。例えば、化合物（旧としてα−（３−ベンジルオキ
シカルボニル−５−オキンオキサゾリジニル−（４））
−酢酸、化合物（ＩＩＩ）としてフェニルアラニンメチ
ルエステルを使用し、溶媒としてベンゼンを用いた場合
、塩基性触媒として用いるトリエチルアミンの使用ヂｌ
ｒ（佳、表１に示したよう（でα−〔３−ベンジルオキ
７カルボニルー５−オギソオキサゾリジニルー（４）〕
−酢酸に対して０．６当量前後が良い。同様に溶媒とし
て〕。
２−ジクロロエタンを用いた場合のトリエチルアミンの
使用量は、α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−
オキンオキサゾリジニルー（４）〕−酢酸に対して０．
５−Ｍ量前後が良い。
使用量は、α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−
オキンオキサゾリジニルー（４）〕−酢酸に対して０．
５−Ｍ量前後が良い。
また、化合物（ＩＶ）が酸塩のとき洗はその塩を中和す
るに必要な量だけ塩基性触媒を加えることによシ反応を
行なうことができる。
るに必要な量だけ塩基性触媒を加えることによシ反応を
行なうことができる。
本発明では、化合物（ＩＩＩ）の使用量を特に限定する
ものではないが、大過剰用いる必要はなく、化合物（■
）に対して１．１〜１．５当量で十分である。反応は、
５０±２０℃の範囲において好適に進行し、通常３〜２
４時間で完結するが１反応温度、溶媒、塩基性触媒の使
用量により変化する。なお、反応時間が長い場合には化
合物（１）のヒドロキノメチル基がわずかに脱離するこ
ともあるが、脱離生成物も化合物（１）と同様に、α−
アスパルチルフェニルアラニンエステルの製造用中間体
として使用できることから何ら問題はない。
ものではないが、大過剰用いる必要はなく、化合物（■
）に対して１．１〜１．５当量で十分である。反応は、
５０±２０℃の範囲において好適に進行し、通常３〜２
４時間で完結するが１反応温度、溶媒、塩基性触媒の使
用量により変化する。なお、反応時間が長い場合には化
合物（１）のヒドロキノメチル基がわずかに脱離するこ
ともあるが、脱離生成物も化合物（１）と同様に、α−
アスパルチルフェニルアラニンエステルの製造用中間体
として使用できることから何ら問題はない。
本発明て使用される溶媒としては、反応に悪影響を及ぼ
さないものなら何でも良く、例エバ、ベンゼン、トルエ
ン、キンシン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピルなどのエステル類、ジクロロメタン、
クロロホルム、１．２−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、リン酸へキサメルトリアミドが挙げられ
るが、ベンゼンあるいは１．２−ジクロロエタンが好ま
しい。
さないものなら何でも良く、例エバ、ベンゼン、トルエ
ン、キンシン等の芳香族炭化水素、テトラヒドロフラン
、ジオキサンなどのエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチ
ル、酢酸プロピルなどのエステル類、ジクロロメタン、
クロロホルム、１．２−ジクロロエタンなどのハロゲン
化炭化水素、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、リン酸へキサメルトリアミドが挙げられ
るが、ベンゼンあるいは１．２−ジクロロエタンが好ま
しい。
以上述べたように溶媒としてベンゼンまたは１．２−ジ
クロロエタンを用い、オキサゾ＋） シン（Ｕ）に対し
０．７７〜１，３当量のフェニルアラニンメチルエステ
ル塩酸塩を用い、トリエチルアミンを種々の当量数で使
用した場合のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−ヒド
ロキシメチル−α−アスパルチル−フェニルアラニンメ
チルエステルの生成率（高速液体クロマトグラフィによ
る定量）を表１に示した。
クロロエタンを用い、オキサゾ＋） シン（Ｕ）に対し
０．７７〜１，３当量のフェニルアラニンメチルエステ
ル塩酸塩を用い、トリエチルアミンを種々の当量数で使
用した場合のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−ヒド
ロキシメチル−α−アスパルチル−フェニルアラニンメ
チルエステルの生成率（高速液体クロマトグラフィによ
る定量）を表１に示した。
表１８
実施例１による生成物の収率及び対照として既存の方法
（特開昭１９−３５３５２号実施例６）を用い、追試験
をした結果及び参考例による塩基性触媒琶を１当量以上
用いた場合のそれぞれの塩基性融媒量と生成物の収率を
表２に示す。
（特開昭１９−３５３５２号実施例６）を用い、追試験
をした結果及び参考例による塩基性触媒琶を１当量以上
用いた場合のそれぞれの塩基性融媒量と生成物の収率を
表２に示す。
この表から明らかなように対照方法では、本発明方法に
比べて２０チ以上も収率が低い上、未反応のオキサゾリ
ジノン誘導体が多いため、目的物を純粋に取り出すこと
が難しく、精製することが必要である。これに対し、本
発明方法では９０％前後の好収率で反応を完結させるこ
とができる上、目的物をなんら精製することなく、Ｌ−
α−アスパルチル−フェニルアラニンエステルの製造に
使用できるという極めてすぐれた効果を有する。
比べて２０チ以上も収率が低い上、未反応のオキサゾリ
ジノン誘導体が多いため、目的物を純粋に取り出すこと
が難しく、精製することが必要である。これに対し、本
発明方法では９０％前後の好収率で反応を完結させるこ
とができる上、目的物をなんら精製することなく、Ｌ−
α−アスパルチル−フェニルアラニンエステルの製造に
使用できるという極めてすぐれた効果を有する。
以下実施例により本発明を具体的に説明する。
Ｎ−保１−Ｎ−ヒドロキ／メチルーα−アスバチルーフ
ェニルアラニンエステルの分析に用いた測定装置及び測
定条件は下記のとおりである。
ェニルアラニンエステルの分析に用いた測定装置及び測
定条件は下記のとおりである。
装 置：高速液体クロマトグラフ
（日立製作所社製 日立−６３５Ａ ）カラム：内径５
ｍｍ Ｘ長さ２００ ｍｍ充填剤： Ｎｕｃｌｅｏｓ
ｉｌ ５ Ｃ１８溶離液：１ｗｔチＨ３Ｐ０． ： Ｃ
Ｈ３ＣＮ ＝ ６ ： ４流 速 １ 、４ ｍｌ
／ｍｉ ｎ検出器： ＵＶ、 ２５６ ｎｍ 実施例１゜ α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−オキソオキ
サゾリジニル＝（４） ）−酢酸６．４３ ｇ（２３，
０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩酸
塩５．９５ ｇ （２７，６ミ１）−Ｅ−ル） ヲベン
ゼン２１ｍ１に加えたのち、ここにトリエチルアミン４
．．１９ ｇ （４１，４，Ｓ９モル）を滴下し、５０
°Ｃで１２．５時間攪拌した。
ｍｍ Ｘ長さ２００ ｍｍ充填剤： Ｎｕｃｌｅｏｓ
ｉｌ ５ Ｃ１８溶離液：１ｗｔチＨ３Ｐ０． ： Ｃ
Ｈ３ＣＮ ＝ ６ ： ４流 速 １ 、４ ｍｌ
／ｍｉ ｎ検出器： ＵＶ、 ２５６ ｎｍ 実施例１゜ α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−オキソオキ
サゾリジニル＝（４） ）−酢酸６．４３ ｇ（２３，
０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩酸
塩５．９５ ｇ （２７，６ミ１）−Ｅ−ル） ヲベン
ゼン２１ｍ１に加えたのち、ここにトリエチルアミン４
．．１９ ｇ （４１，４，Ｓ９モル）を滴下し、５０
°Ｃで１２．５時間攪拌した。
反応終了後、高速液体クロマトグラフィーにエニルアラ
ニンメチルエステルを定量したところｃ＋、９１ｇ（収
率９４．０％ ）が生成していた。
ニンメチルエステルを定量したところｃ＋、９１ｇ（収
率９４．０％ ）が生成していた。
実施例２゜
α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−オキソオキ
サゾリジニル−（４） ）−酢酸８．３８ ｇ （３０
，０ミリモル）及ヒフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩８．４０ ｇ （３９，０ミリモル）を１，２−ジ
クロロエタン１２．５ｍｌに加えたのち、ここにトリエ
チルアミン５．１５ｇ （５０，９ミリモル）を滴下し
、４０°Ｃで１２時間攪拌した。反応終了後、高速液体
クコマドグラフィーにより反応液中のＮ−ベンジルオキ
シカルボニル−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−アスパチル
ーフェニルアラニンメチルエステルを定量したところｘ
２．４３ｇ（収率９０．４係）が生成していた。
サゾリジニル−（４） ）−酢酸８．３８ ｇ （３０
，０ミリモル）及ヒフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩８．４０ ｇ （３９，０ミリモル）を１，２−ジ
クロロエタン１２．５ｍｌに加えたのち、ここにトリエ
チルアミン５．１５ｇ （５０，９ミリモル）を滴下し
、４０°Ｃで１２時間攪拌した。反応終了後、高速液体
クコマドグラフィーにより反応液中のＮ−ベンジルオキ
シカルボニル−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−アスパチル
ーフェニルアラニンメチルエステルを定量したところｘ
２．４３ｇ（収率９０．４係）が生成していた。
実施例３゜
α−〔３−ペンジルオキン力ルボニルー５＝オキソオキ
サゾリジニル−（４） ）−酢酸１６．７５ ｇ（６０
，０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩１６．８０ ｇ （７７，９ミリモル）を１，２−
ジクロロエタン２５ｍ１に加えたのち、ここにトリエチ
ルアミン１２．１２ ｇ （１１９，８ミリモル）を滴
下し、５０°Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、高速
液体クロマトグラフィーによシ反応液中のＮ−ペンジル
オキン力ルボニルーＮ−ヒドロキシメチル−α−アスバ
チルーフェニルアラニンメチルエステルを定量し念とこ
ろ２３．９９ｇ（収率８７．２％）が生成していた。
サゾリジニル−（４） ）−酢酸１６．７５ ｇ（６０
，０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩１６．８０ ｇ （７７，９ミリモル）を１，２−
ジクロロエタン２５ｍ１に加えたのち、ここにトリエチ
ルアミン１２．１２ ｇ （１１９，８ミリモル）を滴
下し、５０°Ｃで１０時間攪拌した。反応終了後、高速
液体クロマトグラフィーによシ反応液中のＮ−ペンジル
オキン力ルボニルーＮ−ヒドロキシメチル−α−アスバ
チルーフェニルアラニンメチルエステルを定量し念とこ
ろ２３．９９ｇ（収率８７．２％）が生成していた。
実施例４゜
α−（３−ベンジルオキシカルボニル−５−オキソオキ
サゾリジニル−（４））−酢酸６．４３ ｇ （２３，
０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩酸
塩６．４５ ｇｆ ２９．９ ミリモル）をベンゼン２
１ｍ１に加えたのち、ここにトリエチルアミン４．６５
ｇ（４６，０ミリモル）滴下し、５０’Ｃで１５時間
借押した。反応終了後、高速液体クロマトグラフィーに
より反応液中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−ヒ
ドロキシメチル−α−アスパチルーフェニルアラニンメ
チルエステルヲｇ 早、’ Ｌ／ ’ｊ’Ｃところ９．
９４ｇ（収率９４．３％）が生成していた。
サゾリジニル−（４））−酢酸６．４３ ｇ （２３，
０ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩酸
塩６．４５ ｇｆ ２９．９ ミリモル）をベンゼン２
１ｍ１に加えたのち、ここにトリエチルアミン４．６５
ｇ（４６，０ミリモル）滴下し、５０’Ｃで１５時間
借押した。反応終了後、高速液体クロマトグラフィーに
より反応液中のＮ−ベンジルオキシカルボニル−Ｎ−ヒ
ドロキシメチル−α−アスパチルーフェニルアラニンメ
チルエステルヲｇ 早、’ Ｌ／ ’ｊ’Ｃところ９．
９４ｇ（収率９４．３％）が生成していた。
実施例５
実施例１において、トリエチルアミンの使用量を４．６
５ ｇ （４６，０ミリモル）とし、実施例１と同様に
して反応を行なったところ１６時間後にＮ−ベンジルオ
キ７カルボニルーＮ−ヒドロキシメチル−α−アスバチ
ルーフェニルアラニンメチルエステル９．４９ｇ（収率
９０．０％）が生成していた。
５ ｇ （４６，０ミリモル）とし、実施例１と同様に
して反応を行なったところ１６時間後にＮ−ベンジルオ
キ７カルボニルーＮ−ヒドロキシメチル−α−アスバチ
ルーフェニルアラニンメチルエステル９．４９ｇ（収率
９０．０％）が生成していた。
実施例６゜
実施例４においてトリエチルアミンの使用量を４．１９
ｇ （４１，４ミリモル）とし、実施例４と同様にし
て反応を行なったところ１３時間後Ｋ Ｎ −ベンジル
オキ７カルボニルーＮ −ヒドロキシメチル−α−アス
パチルーフェニルアラニンメチルエステル９．８８ ｇ
（収率９３．７％）が生成していた。
ｇ （４１，４ミリモル）とし、実施例４と同様にし
て反応を行なったところ１３時間後Ｋ Ｎ −ベンジル
オキ７カルボニルーＮ −ヒドロキシメチル−α−アス
パチルーフェニルアラニンメチルエステル９．８８ ｇ
（収率９３．７％）が生成していた。
実施例７゜
実施例４において、トリエチルアミンの使用量を３．７
２ ｇ （３６，８ミリ、モル）とし、実施例４と同様
にして反応を行なったところ１０時間後Ｋ Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニル−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−アス
パチルーフェニルアラニンメチルエステル９．５４ｇ（
収＄９０．５％）が生成していた。
２ ｇ （３６，８ミリ、モル）とし、実施例４と同様
にして反応を行なったところ１０時間後Ｋ Ｎ−ベンジ
ルオキシカルボニル−Ｎ−ヒドロキシメチルーα−アス
パチルーフェニルアラニンメチルエステル９．５４ｇ（
収＄９０．５％）が生成していた。
参考例
α−〔３−ベンジルオキシカルボニル−５−オキンオキ
サゾリジニルー（４） ）−酢酸２．７９ ｇ ’（９
，９ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩２．３７ ｇ （１１，０ミリモル）をベンゼン９
．３ｍｌに加えたのち、ここにトリエチルアミン３．１
３ ｇ （：３０．９ミリモル）を滴下し、４５°Ｃで
１０時間攪拌した。反応終了後、高速液体クロマトグラ
フィーにより反応液中のＮ−ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ−ヒドロキンメチル−α−アスパチルーフェニルア
ラニンメチルエステルを定量したところ２．８６ｇ（収
率６３．１％）が生成していた。
サゾリジニルー（４） ）−酢酸２．７９ ｇ ’（９
，９ミリモル）及びフェニルアラニンメチルエステル塩
酸塩２．３７ ｇ （１１，０ミリモル）をベンゼン９
．３ｍｌに加えたのち、ここにトリエチルアミン３．１
３ ｇ （：３０．９ミリモル）を滴下し、４５°Ｃで
１０時間攪拌した。反応終了後、高速液体クロマトグラ
フィーにより反応液中のＮ−ベンジルオキシカルボニル
−Ｎ−ヒドロキンメチル−α−アスパチルーフェニルア
ラニンメチルエステルを定量したところ２．８６ｇ（収
率６３．１％）が生成していた。
Claims (1)
- （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（II） （式中、Ｒはアミノ基の保護基を示す。） で表わされるα−〔３−置換−５−オキソ オキサゾリジニル−（４）〕−酢酸と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（III） （式中、Ｒ′はＣ＿１〜Ｃ＿４のアルキル基を示す。）
で表わされるフェニルアラニンエステルを、α−〔３−
置換−５−オキソオキサゾリジ ニル−（４）〕−酢酸に対して当量未満の塩基性触媒の
存在下に縮合させることを特徴と する一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ、Ｒ′は前記に同じ。） で表わされるＮ−保護−Ｎ−ヒドロキシメ チル−α−アスパルチル−フエニルアラニ ンエステルの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61181861A JPS6339897A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | Ｎ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−ａ−アスパルチル−フエニルアラニンエステルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61181861A JPS6339897A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | Ｎ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−ａ−アスパルチル−フエニルアラニンエステルの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6339897A true JPS6339897A (ja) | 1988-02-20 |
Family
ID=16108117
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61181861A Pending JPS6339897A (ja) | 1986-08-04 | 1986-08-04 | Ｎ−保護−Ｎ−ヒドロキシメチル−ａ−アスパルチル−フエニルアラニンエステルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6339897A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0684238A2 (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-29 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Process for the manufacture of dicarboxamides |
| CN1057773C (zh) * | 1996-08-28 | 2000-10-25 | 中国科学院成都有机化学研究所 | 氨基－保护天冬甜肽的制备方法 |
-
1986
- 1986-08-04 JP JP61181861A patent/JPS6339897A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0684238A2 (en) * | 1994-04-27 | 1995-11-29 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Process for the manufacture of dicarboxamides |
| CN1057773C (zh) * | 1996-08-28 | 2000-10-25 | 中国科学院成都有机化学研究所 | 氨基－保护天冬甜肽的制备方法 |
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