JPS6334933A - リ−ドへのバンプ形成方法 - Google Patents

リ−ドへのバンプ形成方法

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JPS6334933A
JPS6334933A JP61177611A JP17761186A JPS6334933A JP S6334933 A JPS6334933 A JP S6334933A JP 61177611 A JP61177611 A JP 61177611A JP 17761186 A JP17761186 A JP 17761186A JP S6334933 A JPS6334933 A JP S6334933A
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JP
Japan
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lead
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bumps
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JP61177611A
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JPH0461499B2 (ja
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Kenzo Kobayashi
健造 小林
Takao Fukunaga
福永 隆男
Toshiaki Amano
俊昭 天野
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、半導体デバイスをテープキャリヤに搭載する
のに先立ち、テープキャリヤのリードにバンプを形成す
る方法に関するものである。
〔従来技術〕
半導体デバイスの実装方式の一つに、半導体デバイスを
テープキャリヤ上に搭載した状態で供給するテープキャ
リヤ実装方式がある。
この実装方式では例えば第2図のようなテープキャリヤ
が用いられる。このテープキャリヤ11は、プラスチッ
クテープ12の半導体デバイス搭載位置に穴13を形成
した後、その片面に銅箔を張りつけて、エツチングによ
りリード14を形成したものである。このテープキャリ
ヤ11に半導体デバイスを搭載するには先ず、リード1
4の端部と半導体デバイスの電極とを接続するため、そ
のどちらかに半日または金などからなるバンプを形成す
る必要がある。従来、バンプは半導体デバイス側に形成
されていたが、工程が複雑になる等の欠点があるため、
最近では、リード側にバンプを形成する方法が開発され
ている。
その方法は、第3図に示すようにバンプ転写基板15上
に形成されたバンプ16をボンディングツール17によ
りリード14の端部に転写するというものである。バン
プ16を形成した後は、第4図に示すように半導体デバ
イス1日の電$419上にバンプ16を位置させてポン
ディングツール20によりリード14を電極19に接続
すれば、第5図のようになり、テープキャリヤ11に半
導体デバイス18を搭載できることになる。
〔従来技術の問題点〕
ところで上記のようにリードの端部に転写法によりバン
プを形成する方法には、次のような問題がある。すなわ
ち、バンプをリード端部位置に合わせて正確に配列した
バンプ転写基板を製造しなければならないことと、転写
の際にテープキャリヤのリードと転写基板のバンプとを
高精度に位置決めしなければならないということである
。このため、テープキャリヤ実装方式はリードにバンプ
を形成する際にコストがかかるという問題がある。
特に最近では半導体デバイスの機能向上にともない、リ
ードが多ビン化、ファイン化しているため、上記の問題
は大きな解決課題である。
C問題点の解決手段とその作用〕 本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑み、転写
によることなくリード上にバンプを簡単に形成できる方
法を提供するもので、その方法は、テープキャリヤに形
成されたリードの端部にバンプを形成する方法において
、上記リードの表面を、形成すべきバンプの材料より卑
な金属で構成し、アビエチン酸とバンプ材料との金属塩
をを機溶剤で溶かしてなる粘稠溶液を、上記リードの端
部に塗布し、その後加熱して上記金属塩からバンプ材料
を分離し、上記リードの端部に析出させて、バンプを形
成することを特徴とするものである。
アビエチン酸は松脂の主成分であるが、このアビエチン
酸のカルボキシル基(COOH)のHを金属で置換した
塩を、その金属より卑な(イオン化傾向の大きい)金属
基材の表面に塗布して、高温に加熱すると、上記塩から
金属イオンが分離して、イオン化傾向の差により、その
金属イオンが上記金属基材上に金属として析出する現象
がある。本発明は、このような現象を利用してリード端
部にバンプを形成するものである。
〔実施例〕
第1図ta+に示すように、穴13を有するプラスチッ
クテープ12上に銅箔よりなるリード14を形成したテ
ープキャリヤ11を用意し、そのリード14の表面にニ
ッケルメッキを施した。一方、アビエチン酸と金の金属
塩をを機溶剤に溶かして粘稠溶液を作り、上記リード1
4の端部に、その粘稠溶液21を塗布した。粘稠溶液2
1の塗布は実際の生産ラインの場合、スクリーン印刷に
よる方法あるいは定量吐出装置を用いる方法などが適当
である。
次にこれを約200℃で1時間加熱して、同図伽)に示
すようにリード14上に金22を析出させた。その後、
残滓23を洗浄により取り除いた結果、同図telに示
すように金バンプ24を形成することができた。
従来、リード14の表面には酸化防止のため金メツキが
施されていたが、この方法では、これを安価なニッケル
メッキに代えることができる。
以上は金バンプを形成する場合であるが、半田バンプを
形成する場合には、アビエチン酸と錫の金属塩およびア
ビエチン酸と鉛の金属塩を別々に作り、これらを所定の
比率で混合し、有機溶剤に溶かした粘稠溶液を用いる。
この粘稠溶液を例えばニッケルメッキしたリードに塗布
すれば、加熱によって半田合金を析出させることが可能
である。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明によれば、アビエチン酸とバ
ンプ材料との金属塩を有機溶剤で熔かした粘稠溶液を、
リードに塗布して加熱することによりバンプを形成する
ことができる。したがって従来のようなバンプ転写基板
は不要であり、また塗布方式のため高精度の位置決めも
不要である。
この方法では例えば粘稠溶液を隣合うリードに跨がるよ
うに塗布しても、バンプ金属はリード表面に析出するか
ら、ファインパターンの場合でも1ノードが短絡される
おそれがない。このためバンプを極めてN単に低コスト
で形成できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図fal〜(C)は本発明に係るバンプ形成方法の
一実施例を示す断面図、第2図はテープキャリヤの底面
図、第3図は従来のバンプ形成方法を示す断面図、第4
図はテープキャリヤに半導体デバイスを搭載する方法を
示す断面図、第5図はテープキャリヤに半導体デバイス
を搭載した状態を示す平面図である。 11〜テープキヤリヤ、14〜リード、21〜粘稠溶液
、24〜金バンプ。 $ I J 第3図 羊 4 図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)テープキャリヤに形成されたリードの端部に、そ
    の部分を半導体デバイスの電極に接続するためのバンプ
    を形成する方法において、上記リードの表面を、形成す
    べきバンプの材料より卑な金属で構成し、アビエチン酸
    とバンプ材料との金属塩を有機溶剤で溶かしてなる粘稠
    溶液を、上記リードの端部に塗布し、その後加熱して上
    記金属塩からバンプ材料を分離し、上記リードの端部に
    析出させて、バンプを形成することを特徴とするリード
    へのバンプ形成方法。
  2. (2)特許請求の範囲第1項記載の方法であって、リー
    ド表面にニッケルメッキを施し、金または半田よりなる
    バンプを形成することを特徴とするもの。
JP61177611A 1986-07-30 1986-07-30 リ−ドへのバンプ形成方法 Granted JPS6334933A (ja)

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JPS6334933A true JPS6334933A (ja) 1988-02-15
JPH0461499B2 JPH0461499B2 (ja) 1992-10-01

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5695571A (en) * 1993-06-01 1997-12-09 Fujitsu Limited Cleaning method using a defluxing agent

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5695571A (en) * 1993-06-01 1997-12-09 Fujitsu Limited Cleaning method using a defluxing agent
US6050479A (en) * 1993-06-01 2000-04-18 Fujitsu, Ltd. Defluxing agent cleaning method and cleaning apparatus

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