JPS6334728A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS6334728A JPS6334728A JP17694386A JP17694386A JPS6334728A JP S6334728 A JPS6334728 A JP S6334728A JP 17694386 A JP17694386 A JP 17694386A JP 17694386 A JP17694386 A JP 17694386A JP S6334728 A JPS6334728 A JP S6334728A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、高密度磁気記録に適する強磁性金属薄膜を磁
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
気記録層とする磁気記録媒体の製造方法に関する。
従来の技術
高分子フィルム上に直接又は、下地層を介して、電子ビ
ーム蒸着法で、Co−Niを斜め蒸着した、いわゆる蒸
着テープは、蒸着時に酸素ガスを導入することで、保磁
力を制御すると共に、耐久性。
ーム蒸着法で、Co−Niを斜め蒸着した、いわゆる蒸
着テープは、蒸着時に酸素ガスを導入することで、保磁
力を制御すると共に、耐久性。
耐食性の向上をはかっている。〔外国論文誌:アイイー
イーイー トランザクションズ オン マグネティクス
(IEEE TRANSACTIONS ONMAG
NETIC3)Vo eoMAG−20,No、−6,
p、p。
イーイー トランザクションズ オン マグネティクス
(IEEE TRANSACTIONS ONMAG
NETIC3)Vo eoMAG−20,No、−6,
p、p。
824〜B28(1984))
蒸着テープの耐久性の向上にとって有力な手段は、磁気
記録層の微細凹凸化である〔外国論文誌:アイイーイー
イー トランザクションズ オン マグ$fイクス(I
EEE TRANSACTIONS ONMAGN
ETIC8)Vol、MAG−21、、p、p。
記録層の微細凹凸化である〔外国論文誌:アイイーイー
イー トランザクションズ オン マグ$fイクス(I
EEE TRANSACTIONS ONMAGN
ETIC8)Vol、MAG−21、、p、p。
1524〜1526(1985))が、最近、より耐久
性能の向上をはかるために、ダイアモンド状硬質炭素薄
膜(以下、D、L、C膜と記す)を保護膜として検討が
進み、スチル耐久性の向上が確認されている〔電子通信
学会、磁気記録研究会資料、MR5s−6e (1s8
e ) )。
性能の向上をはかるために、ダイアモンド状硬質炭素薄
膜(以下、D、L、C膜と記す)を保護膜として検討が
進み、スチル耐久性の向上が確認されている〔電子通信
学会、磁気記録研究会資料、MR5s−6e (1s8
e ) )。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、Co−Ni−0膜やCo−〇膜等の部分
酸化膜を磁気記録層とする蒸着テープの保護膜としてり
、L、C膜を直接磁気記録層上に形成した磁気記録媒体
は、短波長での信号出力に変動が生じるといった問題が
あり、改善が望まれていた。
酸化膜を磁気記録層とする蒸着テープの保護膜としてり
、L、C膜を直接磁気記録層上に形成した磁気記録媒体
は、短波長での信号出力に変動が生じるといった問題が
あり、改善が望まれていた。
本発明は上記した事情に鑑みてなさnたものであり、長
手方向で再生出力が安定し、且つ耐久性能の向上した磁
気記録媒体を製造することの出来る方法を提供するもの
である。
手方向で再生出力が安定し、且つ耐久性能の向上した磁
気記録媒体を製造することの出来る方法を提供するもの
である。
問題点を解決するための手段
上記した問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体
の製造方法は、高分子フィルム上に部分酸化された強磁
性金属薄膜を配した処理体を回転支持体に沿って移動し
ながら、表面酸化層をドライエツチング直後、ダイアモ
ンド状硬質炭素薄膜を形成するものである。
の製造方法は、高分子フィルム上に部分酸化された強磁
性金属薄膜を配した処理体を回転支持体に沿って移動し
ながら、表面酸化層をドライエツチング直後、ダイアモ
ンド状硬質炭素薄膜を形成するものである。
作 用
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記した構成によ
り、ダイアモンド状硬質炭素薄膜の形成過程で、表面酸
化層がエツチングさ扛ることかなくなるため、該薄膜の
厚みを一定に制御できるようになり、スペーシングが安
定な磁気記録媒体を得ることができるのと、表面酸化層
によるスペーシング損失分をダイアモンド状硬質炭素薄
膜の厚み分にふり向ければ、耐久性−7);一層面上し
た磁気記録媒体が確実に得ら扛ることになる。
り、ダイアモンド状硬質炭素薄膜の形成過程で、表面酸
化層がエツチングさ扛ることかなくなるため、該薄膜の
厚みを一定に制御できるようになり、スペーシングが安
定な磁気記録媒体を得ることができるのと、表面酸化層
によるスペーシング損失分をダイアモンド状硬質炭素薄
膜の厚み分にふり向ければ、耐久性−7);一層面上し
た磁気記録媒体が確実に得ら扛ることになる。
実施例
以下、図面を参照しながら、本発明の実施例について説
明する。第1図は、本発明の製法により得られる磁気記
録媒体の拡大断面図で、図中、1は厚みが9.5μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルムのごとき高分子フ
ィルム、2は微粒子塗布層で、平均170へのチタニア
粒子を109個/dポリエステル樹脂で固定したもので
ある。3は部分酸化された柱状結晶微粒子から成る磁気
記録層、4はダイアモンド状硬質炭素薄膜、5は潤滑剤
層である。3と4の界面は、柱状結晶微粒子表面の酸化
層は後述するようにエツチングされて無視できる厚み(
磁気記録のスペーシング損失面からみて、20〜30Å
以下好ましくは0人)になっている。
明する。第1図は、本発明の製法により得られる磁気記
録媒体の拡大断面図で、図中、1は厚みが9.5μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルムのごとき高分子フ
ィルム、2は微粒子塗布層で、平均170へのチタニア
粒子を109個/dポリエステル樹脂で固定したもので
ある。3は部分酸化された柱状結晶微粒子から成る磁気
記録層、4はダイアモンド状硬質炭素薄膜、5は潤滑剤
層である。3と4の界面は、柱状結晶微粒子表面の酸化
層は後述するようにエツチングされて無視できる厚み(
磁気記録のスペーシング損失面からみて、20〜30Å
以下好ましくは0人)になっている。
第・1図に示した磁気記録媒体を・製造するのに用いた
処理装置は第2図に示した通りである。すなわち、第2
図で、6は磁気記録層として直径が1mのクーリングキ
ャンに沿わせて、4X10−5(Torr )の酸素中
で、Co −Ni (Ni : 20w t%)を最小
入射角40度で電子ビーム蒸着で形成したもので、膜厚
o、16μm2表面酸化層120八とした層を有する被
処理体で、微粒子塗布、高分子フィルムは前記した通り
である。7はエツチングで表面酸化層(100人)を除
去後、ダイアモンド状硬質炭素膜を配した原反で、8は
送り出し軸、9は巻取り軸、10はクーリングキャン(
直径50Crn +回転方向は矢印A)、11はエツチ
ングのための放電電極で、電極のクーリングキャ/との
対向面に微細な孔を複数個あけて、放電ガスとしてAr
+ H2(Ar :H2=2 : 1 )を0.01
41 / m i n導入できるよう構成したものであ
る。12はプラズマ管で、13は外部励起高周波コイル
、14はメツシュ状電極で、■1200Vにした。16
は真空槽、17は真空排気系、18は絶R導入端子であ
る。
処理装置は第2図に示した通りである。すなわち、第2
図で、6は磁気記録層として直径が1mのクーリングキ
ャンに沿わせて、4X10−5(Torr )の酸素中
で、Co −Ni (Ni : 20w t%)を最小
入射角40度で電子ビーム蒸着で形成したもので、膜厚
o、16μm2表面酸化層120八とした層を有する被
処理体で、微粒子塗布、高分子フィルムは前記した通り
である。7はエツチングで表面酸化層(100人)を除
去後、ダイアモンド状硬質炭素膜を配した原反で、8は
送り出し軸、9は巻取り軸、10はクーリングキャン(
直径50Crn +回転方向は矢印A)、11はエツチ
ングのための放電電極で、電極のクーリングキャ/との
対向面に微細な孔を複数個あけて、放電ガスとしてAr
+ H2(Ar :H2=2 : 1 )を0.01
41 / m i n導入できるよう構成したものであ
る。12はプラズマ管で、13は外部励起高周波コイル
、14はメツシュ状電極で、■1200Vにした。16
は真空槽、17は真空排気系、18は絶R導入端子であ
る。
この構成でガス導入孔16より、Arとメタンガスを混
合比1:1で混合した状態で。−019e/m導入し、
13に13.56 (MHz ) 1900 (W)を
投入し、ダイアモンド状硬質炭素薄膜を140人形成し
た。この上に、別の蒸着機で、潤滑剤層としてステアリ
ン酸のコバルト塩を約40人蒸着形成した。11には1
3.56(MHz)を実施例では2400(W)投入し
たが、比較例では、ガス導入と高周波の印加をしないで
直接、ダイアモンド状硬質炭素膜を実施例と同じ条件で
形成した。
合比1:1で混合した状態で。−019e/m導入し、
13に13.56 (MHz ) 1900 (W)を
投入し、ダイアモンド状硬質炭素薄膜を140人形成し
た。この上に、別の蒸着機で、潤滑剤層としてステアリ
ン酸のコバルト塩を約40人蒸着形成した。11には1
3.56(MHz)を実施例では2400(W)投入し
たが、比較例では、ガス導入と高周波の印加をしないで
直接、ダイアモンド状硬質炭素膜を実施例と同じ条件で
形成した。
比較テープと実施例のテープを任意に1od”x1d’
を選び、0.76μmの記録波長を記録し、再生出力を
モニターしたところ、実施例では、±o、2(dB)の
範囲内に全て入っていたが、比較テープは、±1.4(
dB)と変動が大きかった。−6°Cでのメチル特性を
比較したところ、任意の3Φケ所で、再生出力が2 (
dB)低下する時間は、実施例は75分〜79分と均一
であったが、比較例では、19分〜72分とバラツキが
大きかった。
を選び、0.76μmの記録波長を記録し、再生出力を
モニターしたところ、実施例では、±o、2(dB)の
範囲内に全て入っていたが、比較テープは、±1.4(
dB)と変動が大きかった。−6°Cでのメチル特性を
比較したところ、任意の3Φケ所で、再生出力が2 (
dB)低下する時間は、実施例は75分〜79分と均一
であったが、比較例では、19分〜72分とバラツキが
大きかった。
なお、初期出力でも本実施例に対して、平均値比較で比
較例は−1,e(dB)と低く、スペース損失が大きい
ことを示している。このことは、本実施例を、更に、7
0〜100人ダイアモンド状硬質炭素膜を厚くして耐久
性向上に主体をおいた改良のために適用することができ
ることを物語るものである。
較例は−1,e(dB)と低く、スペース損失が大きい
ことを示している。このことは、本実施例を、更に、7
0〜100人ダイアモンド状硬質炭素膜を厚くして耐久
性向上に主体をおいた改良のために適用することができ
ることを物語るものである。
本実施例に述べた条件に本発明が限定されるものでない
ことは勿論で、高分子フィルム材料、磁気記録層材料の
選択は自由であり、ダイアモンド状硬質炭素膜の製法使
用ガス等も適宜工夫できるものである。
ことは勿論で、高分子フィルム材料、磁気記録層材料の
選択は自由であり、ダイアモンド状硬質炭素膜の製法使
用ガス等も適宜工夫できるものである。
発明の効果
以上のように本発明によれば、短波長出力が安定してい
て、かつ出力と耐久性が共に良好な磁気記録媒体を大量
に得ることができるといったすぐれた効果がある。
て、かつ出力と耐久性が共に良好な磁気記録媒体を大量
に得ることができるといったすぐれた効果がある。
第1図は本発明により製造できる磁気記録媒体の一例の
拡大断面図、第2図は本発明を実施するのに用いた処理
装置の一例の要部構成図である。 1・・・・・・高分子フィルム、2・・・・・・微粒子
塗布層、3・・・・・・磁気記録層、4・・・・・・ダ
イアモンド状硬質炭素膜、6・・・・・・被処理体、1
o川・・・クーリングキャン、11・・・・・・放電電
極、12・・・・・・プラズマ管。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 イー1翫′釘2トフイルム 4−−−ダイアもンレイX面東債々灸ル(イし一方廻1
乞を権
拡大断面図、第2図は本発明を実施するのに用いた処理
装置の一例の要部構成図である。 1・・・・・・高分子フィルム、2・・・・・・微粒子
塗布層、3・・・・・・磁気記録層、4・・・・・・ダ
イアモンド状硬質炭素膜、6・・・・・・被処理体、1
o川・・・クーリングキャン、11・・・・・・放電電
極、12・・・・・・プラズマ管。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 イー1翫′釘2トフイルム 4−−−ダイアもンレイX面東債々灸ル(イし一方廻1
乞を権
Claims (1)
- 高分子フィルム上に部分酸化された強磁性金属薄膜を配
した処理体を回転支持体に沿って移動しながら、表面酸
化層をドライエッチング直後、ダイアモンド状硬質炭素
薄膜を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17694386A JPH0740357B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17694386A JPH0740357B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6334728A true JPS6334728A (ja) | 1988-02-15 |
JPH0740357B2 JPH0740357B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=16022448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17694386A Expired - Lifetime JPH0740357B2 (ja) | 1986-07-28 | 1986-07-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0740357B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1986
- 1986-07-28 JP JP17694386A patent/JPH0740357B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02128321A (ja) * | 1988-11-07 | 1990-05-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0740357B2 (ja) | 1995-05-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |