JPS6334254Y2 - - Google Patents

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JPS6334254Y2
JPS6334254Y2 JP1982117414U JP11741482U JPS6334254Y2 JP S6334254 Y2 JPS6334254 Y2 JP S6334254Y2 JP 1982117414 U JP1982117414 U JP 1982117414U JP 11741482 U JP11741482 U JP 11741482U JP S6334254 Y2 JPS6334254 Y2 JP S6334254Y2
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JP
Japan
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base
treatment vessel
pallet
varnish
treatment
Prior art date
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JP1982117414U
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JPS5923718U (ja
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Description

【考案の詳細な説明】 [考案の目的] (産業上の利用分野) 本考案は、回転電機又は油入電気機器等でその
内部部品に絶縁処理のため、ワニス含浸処理を行
なう浸漬形ワニス含浸処理装置に関する。
(従来の技術) 第1図は従来技術例として示す浸漬形ワニス含
浸処理装置を示す正面図、第2図は第1図の平面
図を示す。
第1図及び第2図において、予め準備された処
理物であるワーク1aは、パレツト2aの中に入
れられ処理台である準備台3の上に載せられ待機
している。処理槽4の中には処理に用いるワニス
5が予め入れられており、ワーク1aは既にパレ
ツト2a毎処理槽4の中に浸漬され、処理槽4の
上にはカバー6を被せている。一方処理台である
風乾台7の上には、既に含浸処理されたワーク1
cがパレツト2a毎風乾台7の上に載せられ、ワ
ニスの余滴落しを行なつている。
(考案が解決しようとする問題点) このようなワニス含浸処理準備→ワニス含浸処
理→ワニス余滴落しから成るワニス含浸処理作業
において、各々工程間の移動時に準備台3に載せ
られたパレツト2aは搬送クレーン8により持ち
上げられ、処理槽4の中へ降下される。この時パ
レツト2aは孔が数多く設けられた鋼板或いは網
状の金属から成つているため、処理槽4中で容易
にワーク1bがワニス含浸処理される。この処理
中には、外部へワニスの蒸気等が外部へ飛散しな
いように、前記搬送クレーン8にてカバー6を処
理槽4の上に覆う。次いでワニス含浸処理が完了
すれば、同様に前記搬送クレーン8にてカバー6
を取外し、更に処理槽4中のパレツト2aを吊り
上げ風乾台7の上に載せられる。
このように各々パレツト2aの搬送及びカバー
6の搬送については、各々別々の動作で回数が多
くなるうえ、個々の動作が不安定で時間が非常に
多くかかつた。
このことは単に作業性が悪いだけでなく、通常
ワニス含浸処理作業においては準備台3に載せら
れたワーク1aは予熱されていることが多い。従
つて温度管理する必要がある為、処理槽4には迅
速に浸漬しなければならない。また、通常ワニス
5には有害な有機溶剤を多く含んでおり、できる
だけカバー6を処理槽4の上に覆う必要がある
が、短時間に載せ換えすることは極めて困難であ
つた。
以上のように従来のワニス含浸処理装置におい
てはパレツト2a及びカバー6の搬送が繁雑で作
業然が悪いばかりでなく、ワニス含浸処理に関し
品質管理がむずかしい、また、ワニス含浸処理装
置付近の作業場においては、有機溶剤の蒸気の濃
度が高くなり作業環境が悪い等数多くの欠点があ
つた。
本考案は上記欠点に鑑みなされたもので、回転
電機又は油入電気機器等の内部部品のワニス含浸
処理が、容易で短時間に且つ品質管理も確実に、
そして作業者の安全確保と健康管理も容易に行な
い得る浸漬形ワニス含浸処理装置を堤供すること
を目的とする。
[考案の構成] (問題点を解決するための手段) 本考案は電気機器の巻線部品を絶縁処理する装
置において、平行に立設したフレーム、このフレ
ームの下部に直角水平方向に突出して固定された
処理物を載置するベース、このベースから空間を
介した上部のフレームに前記ベースと同方向に突
出して固定され上面は台車が走行し下面が処理槽
開口部の覆い用となる特殊カバーとを備えて成る
昇降装置を、2つの処理台間に凹設された処理槽
縁に配設し、この昇降装置の降下した時ベース上
の処理物は処理槽内に浸漬し特殊カバー上面は台
車が走行でき且つ下面は処理槽開口部を覆い上昇
した時処理物を処理台上に移行する昇降装置を有
することを特徴とする浸漬形ワニス含浸処理装置
である。
(作用) この様に構成されているので、ベース上に載置
した処理物は昇降装置の降下により処理槽内でワ
ニス含浸処理され、この時特殊カバー下面は処理
槽開口部を覆つて有機溶剤の蒸気の外部漏れを少
なくすると共に上面は台車が走行可能である。
この結果、ワニス含浸処理作業の搬送作業が大
幅に短縮され、更にワニス含浸処理作業現場付近
の有機溶剤等の蒸気の濃度が低下して作業環境が
改善され、その上予熱されたワークの温度管理が
容易となる。
(実施例) 以下本考案を第3図及び第4図に示す一実施例
にて説明する。ワニス含浸処理前で通常予熱され
ている処理物であるワーク1aは、台車であるパ
レツト2bの中に入れられ処理台である準備台3
bの上に載せられている。パレツト2bの下部に
は車輪2cを有し準備台3b上のレール9a上に
載せられ水平方向に走行可能な状態である。パレ
ツト2bは、従来例と同様に孔が数多く設けられ
た鋼板或いは網状金属からなり、同様に処理槽4
中で容易にワーク1bがパレツト2bごと含浸処
理される構造を有する。
ワーク1bは、同じく処理槽4中でワニス5の
中へ浸漬されるが、パレツト2bは車輪2cを介
してベース10上に設けられたレール9b上にあ
る。特殊カバー11の上には同様にレール9dが
設けられており、これらベース10及び特殊カバ
ー11はいずれもフレーム12を介して一体化さ
れている。昇降装置13はフレーム12と一体化
されたベース10及び特殊カバー11を上、下に
昇降させる装置である。処理槽4中には従来と同
様ワニス5が入れられている。ワーク1cはワニ
ス含浸処理後のものでパレツト2bの中に入れら
れ余滴落しを行なつている。含浸処理前に同じく
パレツト2bは、車輪2cを介し風乾台7b上に
設けられたレール9c上に載せられ、同じく水平
方向に容易に移動可能な構造である。次にワニス
余滴落し作業が完了されたワーク1cを、パレツ
ト2bごと紙面右方に移動させ本乾燥炉へと移送
する。次に昇降装置13を作動させてベース10
を上昇させ、ワーク1bをパレツト2bごと処理
槽4から引き揚げる。昇降装置13の構造につい
ては第6図にその一実施例の側面図を示す。図に
於いて、ベース10及び特殊カバー11はフレー
ム12により一体化され、このフレーム12全体
はガイドローラ14により上下に平滑に動くよう
に案内され、フレーム12はワイヤー15により
吊りさげられ昇降シリンダ16によりフレーム1
2全体が上下に昇降する機能を有する。
従つてベース10及び特殊カバー11は一体で
上昇していき定位置で停止する。第5図はこの時
点でのワニス含浸処理装置の正面図を示す。
この後ワーク1bはパレツト2b毎ベース10
に設けられたレール9b上を紙面右方向に移動
し、風乾台7bに設けられたレール9c上に移動
し、風乾台7b上で余滴落とし作業が始められ
る。これと同時に予備乾燥され予熱が完了したワ
ーク1aが、パレツト2bごと準備台3bに設け
られたレール9a上から紙面右方向に移動し、ベ
ース10に設けられたレール9b上の定位置に停
止される。次に昇降装置13が下降し、ベース1
0と共にパレツト2b、特殊カバー11が一体と
なつて下降し、定位置にて停止されワーク1aの
ワニス含浸処理作業が行なわれる。このときの昇
降装置13の状態は第3図と同様である。このワ
ニス含浸処理作業が行なわれている間に空パレツ
ト(図示せず)は各々レール9c、レール9d、
レール9a上を順に通過して風乾台7bから準備
台3bへと逆送される。
このように本考案なる浸漬形ワニス含浸処理装
置を用いると、搬送クレーン8aがなくてもワー
クの充填されたパレツト及び空パレツトの搬送が
容易に且つ安全で迅速に行なうことができ、同時
に処理槽4の開口部を覆うことが可能になる。
次に第7図及び第8図に本考案なる浸漬形ワニ
ス含浸処理装置における特殊カバー11の変形例
を示す。
第7図は特殊カバー11aの平面図、第8図は
第7図の側面断面図である。有機溶剤を有するワ
ニスやその他特定化学物質等を含む有害ワニスに
ついては、一般に局所排気装置をつけなければい
けない。本変形例では特殊カバー11aの下面を
四角錐状とし、中央部にダクト孔を設けたもので
本ダクト孔はフレキダクト17につながれてお
り、特殊カバー11aが処理槽4のカバー及びパ
レツト2bの搬送時のベース及び処理槽4が開放
時の局所排気設備のフードの役目を果たすもので
ある。もちろん特殊カバー11aは、先に説明し
た特殊カバー11と同様にベース10と一体で昇
降装置13により昇降されることは同一である。
[考案の効果] 本考案なる浸漬形ワニス含浸処理装置を用いる
ことにより、搬送クレーンがなくてもワークを積
載したパレツト及び空パレツトを短時間で確実に
移送でき且つ処理槽は短時間解放となる。この結
果、ワニス含浸処理作業における搬送作業が大幅
に短縮されると共に確実で安全に行なうことがで
きる。更にワニス含浸処理作業場付近の有機溶剤
等の蒸気の濃度が低下して作業環境が改善され
る。その上、予熱されたワークの温度管理がやり
やすくなることにより、ワニス含浸処理作業にお
ける品質向上など数多くの効果をもたらすことが
可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の浸漬形ワニス含浸処理装置を示
す正面図、第2図は第1図の平面図、第3図は本
考案なる浸漬形ワニス含浸処理装置の一実施例を
示す正面図、第4図は第3図の平面図、第5図は
第3図の作用の説明図、第6図は昇降装置の機構
及び作用を示す拡大側面図、第7図はその変形例
を示す特殊カバーの平面図、第8図は第7図の側
面断面図を示す。 1a,1b,1c……ワーク、2a,2b……
パレツト、3,3b……準備台、4……処理槽、
7,7b……風乾台、10……ベース、11,1
1a……特殊カバー、12……フレーム、13…
…昇降装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 電器機器の巻線部品を絶縁処理する装置におい
    て、平行に立設したフレーム、このフレームの下
    部に直角水平方向に突出して固定され処理物を載
    置するベース、このベースから空間を介した上部
    のフレームに前記ベースと同方向に突出して固定
    され上面は台車が走行し下面が処理槽開口部の覆
    い用となる特殊カバーとを備えて成る昇降装置
    を、2つの処理台間に凹設された処理槽縁に配設
    し、この昇降装置の降下した時ベース上の処理物
    は処理槽内に浸漬し特殊カバー上面は台車が走行
    でき且つ下面は処理槽開口部を覆い、上昇した時
    処理物を処理台上に移行する昇降装置を有するこ
    とを特徴とする浸漬形ワニス含浸処理装置。
JP11741482U 1982-08-03 1982-08-03 浸漬形ワニス含浸処理装置 Granted JPS5923718U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11741482U JPS5923718U (ja) 1982-08-03 1982-08-03 浸漬形ワニス含浸処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11741482U JPS5923718U (ja) 1982-08-03 1982-08-03 浸漬形ワニス含浸処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5923718U JPS5923718U (ja) 1984-02-14
JPS6334254Y2 true JPS6334254Y2 (ja) 1988-09-12

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ID=30270293

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JP11741482U Granted JPS5923718U (ja) 1982-08-03 1982-08-03 浸漬形ワニス含浸処理装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0235633Y2 (ja) * 1986-02-19 1990-09-27

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50152276A (ja) * 1974-05-30 1975-12-08

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS50152276A (ja) * 1974-05-30 1975-12-08

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JPS5923718U (ja) 1984-02-14

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