JPS6333662A - 自動分析装置 - Google Patents

自動分析装置

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JPS6333662A
JPS6333662A JP17728686A JP17728686A JPS6333662A JP S6333662 A JPS6333662 A JP S6333662A JP 17728686 A JP17728686 A JP 17728686A JP 17728686 A JP17728686 A JP 17728686A JP S6333662 A JPS6333662 A JP S6333662A
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reaction tube
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Masao Kobayashi
木林 昌男
Norihiro Sato
佐藤 教博
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/02Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
    • G01N35/04Details of the conveyor system
    • G01N2035/0401Sample carriers, cuvettes or reaction vessels
    • G01N2035/0437Cleaning cuvettes or reaction vessels

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  • Optical Measuring Cells (AREA)
  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 この発明は自動分析装置に関する。さらに詳しくは生化
学分析等の分野に用いる自動分析装置に適し、ことに反
応管を直接測光する方式でランダムアクセス可能な自動
分析装置に関する。
(ロ)従来の技術 反応管直接測光方式の自動分析装置には、被検試料搬送
ラインと、試薬循環ラインと、測光部、洗浄部を宵し多
数の反応管(反応測光セル)をこれらに循環する測定ラ
インとからなり、被検試料搬送ラインと測定ラインとと
の間に設置され被検試料を測定ラインの反応管に供給す
る試料供給手段と、試薬循環ラインと測定ラインとの間
に設置され試薬循環ライン上の試薬を測定ライン上の反
応管に分注する試薬分注手段とを備え、反応管は測光後
洗浄部で洗浄されて繰返し使用されるよう構成されてい
るものがある。
(ハ)発明が解決しようとする問題点 しかしながら、上記自動分析装置では測定項目によって
は反応測光セル内面への吸着性が強く一定の洗浄操作で
は完全に汚れを除去できない可能性がある。このような
場合、次の測定に大きな誤差を与えるだけでなく、顕著
な場合その反応測光セルは使用できなくなり装置全体の
処理に支障をきたすことになる。従来このような間層に
対しては洗浄後の反応測光セルに水を分注してその吸光
度(セルブランク値)を基準にして次の測定を行うこと
により誤差を小さくしたり、その吸光度自身を清浄なと
きの吸光度と比較し別に設定した範囲を越えた場合警報
を出すなどの手段を装置に付加することが行われていた
が、前者の方法では誤差を完全に除(ことは不可能であ
り、また後者の方法でも汚染された反応測光セルの処理
についてはいまだ解決されていない。
この発明はかかる状況に鑑み為されたものであり、こと
に反応管が汚染度により使用の適否を判断しかつ使用不
可能と判断された場合にも連続分析に支障を与えない自
動分析装置を提供しようとするものである。
(ニ)問題点を解決するための手段 かくしてこの発明によれば、被検試料・搬送ラインと、
試薬循環ラインと、測光耶、洗浄部を有し多数の反応管
をこれらに循環する測定ラインとからなり、被検試料搬
送ラインと測定ラインとの間に設置され被検試料を測定
ラインの反応管に供給する試料供給手段と、試薬循環ラ
インと測定ラインとの間に設置され試薬循環ライン上の
試薬を測定ライン上の反応管に分注する試薬分注手段と
を備えてなり、測定後の反応管を循環使用しうるよう構
成された反応管直接測光方式の自動分析装置であって、 洗浄部が洗浄手段、洗浄確認手段および洗剤液供給手段
を有しかつ洗浄確認手段が反応管の汚染度測定用測光部
と、該汚染度測定用測光部による洗浄後の反応管のブラ
ンク吸光度値A。と予め設定された許容限界値Aとの大
小関係を演算し汚染の有無を判断する演算部とから構成
されてなり、AD>A の際の演算部からの汚染反応管
検出信号に基づいて該反応管−・洗剤液を供給しかつ該
反応管への被検試料および試薬の供給を停止するよう洗
剤液供給手段、試料供給手段および試薬供給手段を制御
する制m部とを備えてなることを特徴とする自動分析装
置が提供される。
この発明の自動分析装置は、洗浄後の反応管(反応測光
セル)の再使用の適否を自動的に判断し、使用不可能と
判断された反応管を連続分析を中断することなく試料・
試薬の供給をスキップしかつ測定ライン循環中に洗剤液
により浸漬洗浄しうるよう構成されたことを特徴とする
この発明の装置において、汚染反応管と判断された反応
管を上記のごとくスキップしうるには、例えば汚染反応
管検出信号に基づいて該当する反応管の番号を記憶する
記憶部を備えた制御部等の構成が挙げられる。
この発明の装置において、被検試料搬送ライン、試薬循
環ラインおよび測定ラインのそれぞれの駆動、試料供給
手段および試薬供給手段の作動、測定部および洗浄部の
作動等の作動系制御部と演算部とはすべてマイクロコン
ピュータ等を内蔵した制御部により制御される。
この発明の装置は、反応管が汚染される前の分析項目を
記憶し、該項目に応じて洗剤の濃度、種類を自動的に変
えるよう洗浄手段および洗剤液供給手段を制御しうる機
構を付加したものであってもよい。また、使用不可能な
反応管の個数を表示し、有る時点で予め設定された個数
を越えると自動的にサンプルストップをかけろよう制御
しうる機構を付加したものであってもよい。
(ホ)作用 この発明によれば、測定ライン上を循環する反応管を洗
浄後そのブランク吸光度を測定して許容限界値との大小
を演算することにより自動的に反応管の再使用の適否を
判断する。汚染反応管には演算部からの汚染反応検出信
号に基づいて洗剤液が供給されて測定用清浄反応管と共
に測定ラインを循環するとともに該汚染反応管には試料
供給および試薬供給が自動的に停止され、再度洗浄部で
汚染度が判断される。
以下実施例によりこの発明の詳細な説明するが、これに
よりこの発明は限定されるものではない。
(へ)実施例 第1図はこの発明の一実施例の自動分析装置の構成説明
図である。
図において、自動分析装置(1)は、各サンプルカップ
(21)に用意されたそれぞれの被検試料を順次搬送す
るサンプルラック(2)と、多数の反応測光セル(31
)を反時計方向に間欠的に循環する反応ターンテーブル
(3)と、第1試薬群を循環する試薬トレイ(4)およ
び第2試薬群を循環する試薬トレイ(5)と、サンプル
ラック(2)と反応ターンテーブル(3)との間に設定
されサンプルラック(2)上の被検試料を反応ターンテ
ーブル(3)上の反応測光セル(31)に供給するサン
プラ−(6)と、反応ターンテーブル(3)と試薬トレ
イ(4X5)との間に設定され、それぞれの試藁群から
の試薬を反応ターンテーブル(3)上の反応測光セル(
31)に分注する試薬ノズル(7)(8)とから構成さ
れている。
上記試薬トレイ(4)(5)はそれぞれ独立して回転・
停止するよう構成されている。
反応ターンテーブル(3)には試薬分注後一定時間経過
後に反応測光セル(31)内の反応液の光学濃度を測定
する測光手段(9)および測光後の反応測光セル(31
)を洗浄する洗浄部(10)が設定されており、上記測
光手段(9)は演算装置(14)に電気接続されている
。またすべての反応測光セル(31)は図示しない恒温
装置により一定に温度が保たれている。
上記洗浄部(10)には反応測光セル(31)を洗浄・
乾燥する洗浄ノズル部(11)と、洗浄後の反応測光セ
ル(31)の汚染度を吸光度により確認する汚染度測定
用測光装置(12)と、該測光袋W(12)の測定結果
により作動する洗剤液供給ノズル(13)が設置されて
いる。洗浄ノズル部(11)および洗剤供給ノズル(1
3)は第2図に示すように配設され、洗浄ノズル部(1
1)には吸引・吐出可能な3本のノズルおよび風乾用の
、/ダル1本が設定され、上記3本のノズルは順に純水
(111)、洗剤(112)、純水(113)がそれぞ
れ供給可能に構成されている。上記汚染度測定用測光装
置(121)は上記演算装置(14)に接続され、該演
算装置(14)はさらに記憶装置(15)に電気接続さ
れており、記憶装置2(15)には萌記洗剤液供給ノズ
ル(13)が電気接続されている。
またこの装置の駆動および測定はすべて図示しない制御
部により制御され、該制御部には上記演算装置(14)
、記憶袋ff1(15・)が接続されている。
次にこの自動分析装置の作動を説明する。
サンプルラック(2)上のサンプルカップ(21)中の
各被検試料は、サンプラー(6)により反応ターンテー
ブル(3)に設置された各反応測光セル(31)内に層
成分注される。被検試料がそれぞれ分注された各反応測
光セル(31)はそれぞれの測定項目にしたがって試薬
トレイ(4)および(5)からそれぞれ相当する第1お
よび/または第2試薬が試薬ノズル(7)および/また
は(8)により供給される。上記反応測光セル(31)
は反応開始直後から一定時間経過後にその吸光度が測光
手段(9)により測定され、この測定信号は演算装置(
14)に送られて目的成分の濃度が計算され、図示しな
い出力装置に出力される。
測定の終了した反応測光セル(31)は洗浄部(10)
に送られる。洗浄部(10)において反応測光セル(3
1)はまず洗浄ノズルIE(11)のノズル(111)
により反応液の吸引、純水の吐出・吸引が繰返され1回
目の洗浄がなされ、次いでノズル(112)により洗剤
による同様の洗浄が繰返された後、さらにノズル(11
3)により2回目の純水の吐出・吸引が行われる。
上記洗浄後の反応測光セル(31)は汚染度測定用測光
装置(12)によりセルブランク値(八〇)が測定され
る。すなわち洗浄を終了した反応測光セル(31)に一
定1の純水が分注され、これについての吸光度が汚染度
測定用測光装置(12)により測定される。測定された
八〇は演算装置(14)に送られ、予め設定されている
許容限界値Aとの大小が判定される。
八〇≦A と判断された反応測光セルはノズル(114
)により乾燥操作が行われ、再び上記と同様に測定に供
される。
一方、AD>A のときは出力装置に該当する反応測光
セルの番号を出力して記憶装置(15)に記憶すると同
時にこの反応測光セルを測定に使用しない旨の指示信号
を制御装置に送る。次いでこの反応測光セルは洗剤液供
給ノズル(13)により特別の洗剤(例えばクリーン9
9− K )が供給され、この洗剤液を充填したまま反
応ターンテーブル(3)を循環し他の反応測光セルの測
定と並行してこの間に浸漬洗浄される。またこの反応測
光セルに対しては制御装置からの信号に基づいてサンプ
ラー(6)試薬ノズル(7)(8)および測光手段(9
)が作動しないよう制御され、これによって測定を中断
することなく〆9染反応測光セルが測定からスキップさ
れる。こうして再び洗浄部(10)に送られて通常の洗
浄をうけた後上記と同様の洗浄確認が行われ、使用の可
否か判断される。もし汚染が除かれ測定使用可能となっ
た反応測光セルについては再び出力装置に該反応測光セ
ルの番号を出力し、記憶装置(15)の記憶を解除する
とともに次の測定に使用する指示を出(7正常動作に復
帰する。しかし依然として汚染されていると判断された
場合は、上記記憶が解除されず再度サンプラー(6)、
試薬ノズル(7)(8)および測光手段(9)が作動し
ないよう制御される。
上記動作の制御例としては、例えば第3図に示すような
フローチャート図に従って制御されろものが挙げられる
(ト)発明の効果 この発明によれば、洗浄後の反応管の汚染度が予め設定
されている許容限界値以下に押さえられるので、汚染に
よる測定誤差を殆ど生じない。また洗浄後の反応管の再
使用の適否を自動的に判断するとともに使用不可能と判
断された場合においても連続分析を中断することなく測
定ラインを循環中に反応管が洗浄できかつ洗浄により再
使用可能となった反応管は自動的に測定に組み入れられ
、反応雪取り替え、装置停止等の煩わしい操作が不要と
なり分析が効率良く行われる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の自動分析装置の一例の構成説明図、
第2図は第1図の装置の洗浄ノズル部および洗剤供給ノ
ズルの一配設例の構成説明図、第3図はこの発明の装置
の制御の一例を示すフローチャート図である。 (2)・・・・・・サンプルラック、 (3)・・・・・・反応ターンテーブル、(4)、(5
)・・・・・・試薬トレイ、(6)・・・・・・サンプ
ラ、(7)、(8)・−・−・・試薬ノズル、(9)・
・・・・・測光手段、(lO)・・・・・洗浄部、  
 (11)・・・・・・洗浄ノズル部、(12)・・・
・・・汚染度測定用測光装置、(13)・・・・・・洗
剤液供給ノズル、(14)・・・・・・演算装置、(1
5)・−・・・記憶装置、  (31)・・・・・・反
応測光セル。 第 2 図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、被検試料搬送ラインと、試薬循環ラインと、測光部
    、洗浄部を有し多数の反応管をこれらに循環する測定ラ
    インとからなり、被検試料搬送ラインと測定ラインとの
    間に設置され被検試料を測定ラインの反応管に供給する
    試料供給手段と、試薬循環ラインと測定ラインとの間に
    設置され試薬循環ライン上の試薬を測定ライン上の反応
    管に分注する試薬分注手段とを備えてなり、測定後の反
    応管を循環使用しうるよう構成された反応管直接測光方
    式の自動分析装置であって、 洗浄部が洗浄手段、洗浄確認手段および洗剤液供給手段
    を有しかつ洗浄確認手段が反応管の汚染度測定用測光部
    と、該汚染度測定用測光部による洗浄後の反応管のブラ
    ンク吸光度値A_0と予め設定された許容限界値Aとの
    大小関係を演算し汚染の有無を判断する演算部とから構
    成されてなり、A_0>Aの際の演算部からの汚染反応
    管検出信号に基づいて該反応管へ洗剤液を供給しかつ該
    反応管への被検試料および試薬の供給を停止するよう洗
    剤液供給手段、試料供給手段および試薬供給手段を制御
    する制御部とを備えてなることを特徴とする自動分析装
    置。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01210864A (ja) * 1988-02-18 1989-08-24 Jeol Ltd ランダムアクセス生化学自動分析装置
JPH02287260A (ja) * 1989-04-28 1990-11-27 Shimadzu Corp 自動分析装置
JPH05164762A (ja) * 1991-12-17 1993-06-29 Hitachi Ltd 自動分析装置および容器の汚染判定方法
JP2007285847A (ja) * 2006-04-17 2007-11-01 Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Corp 分光光度計
JP2007333645A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Fujifilm Corp スクリーニング方法、及び、スクリーニング装置
WO2009005144A1 (ja) * 2007-07-04 2009-01-08 Olympus Corporation 汚れ検出装置および分析装置
JP2009085616A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Olympus Corp 自動分析装置及び自動分析装置における液体試料の分注制御方法
JP2009174997A (ja) * 2008-01-24 2009-08-06 Hitachi High-Technologies Corp 自動分析装置
JP2010160109A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Toshiba Corp 自動分析装置
JP2011149831A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Hitachi High-Technologies Corp 自動分析装置
WO2014171346A1 (ja) * 2013-04-18 2014-10-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
JP2015125018A (ja) * 2013-12-25 2015-07-06 株式会社東芝 自動分析装置
WO2015115210A1 (ja) * 2014-01-29 2015-08-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
US20220001581A1 (en) * 2018-10-04 2022-01-06 Nitto Denko Corporation Heat-resistant release sheet and thermocompression bonding method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007064943A (ja) 2005-09-02 2007-03-15 Fujifilm Corp 全反射減衰を利用した測定方法及び装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59182347A (ja) * 1983-03-31 1984-10-17 Shimadzu Corp 自動分析装置
JPS62118258A (ja) * 1985-11-19 1987-05-29 Olympus Optical Co Ltd 自動分析装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59182347A (ja) * 1983-03-31 1984-10-17 Shimadzu Corp 自動分析装置
JPS62118258A (ja) * 1985-11-19 1987-05-29 Olympus Optical Co Ltd 自動分析装置

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01210864A (ja) * 1988-02-18 1989-08-24 Jeol Ltd ランダムアクセス生化学自動分析装置
JPH02287260A (ja) * 1989-04-28 1990-11-27 Shimadzu Corp 自動分析装置
JPH05164762A (ja) * 1991-12-17 1993-06-29 Hitachi Ltd 自動分析装置および容器の汚染判定方法
JP2007285847A (ja) * 2006-04-17 2007-11-01 Hitachi High-Tech Manufacturing & Service Corp 分光光度計
JP2007333645A (ja) * 2006-06-16 2007-12-27 Fujifilm Corp スクリーニング方法、及び、スクリーニング装置
WO2009005144A1 (ja) * 2007-07-04 2009-01-08 Olympus Corporation 汚れ検出装置および分析装置
JP2009014505A (ja) * 2007-07-04 2009-01-22 Olympus Corp 汚れ検出装置および分析装置
JP2009085616A (ja) * 2007-09-27 2009-04-23 Olympus Corp 自動分析装置及び自動分析装置における液体試料の分注制御方法
JP2009174997A (ja) * 2008-01-24 2009-08-06 Hitachi High-Technologies Corp 自動分析装置
JP2010160109A (ja) * 2009-01-09 2010-07-22 Toshiba Corp 自動分析装置
JP2011149831A (ja) * 2010-01-22 2011-08-04 Hitachi High-Technologies Corp 自動分析装置
WO2014171346A1 (ja) * 2013-04-18 2014-10-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
CN105122069A (zh) * 2013-04-18 2015-12-02 株式会社日立高新技术 自动分析装置
EP2988133A4 (en) * 2013-04-18 2016-11-16 Hitachi High Tech Corp AUTOMATIC ANALYSIS DEVICE
JPWO2014171346A1 (ja) * 2013-04-18 2017-02-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
US9933447B2 (en) 2013-04-18 2018-04-03 Hitachi High-Technologies Corporation Automatic analyzing device
US10422808B2 (en) 2013-04-18 2019-09-24 Hitachi High-Technologies Corporation Automatic analyzing device
JP2015125018A (ja) * 2013-12-25 2015-07-06 株式会社東芝 自動分析装置
WO2015115210A1 (ja) * 2014-01-29 2015-08-06 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
CN105917236A (zh) * 2014-01-29 2016-08-31 株式会社日立高新技术 自动分析装置
JPWO2015115210A1 (ja) * 2014-01-29 2017-03-23 株式会社日立ハイテクノロジーズ 自動分析装置
US9945881B2 (en) 2014-01-29 2018-04-17 Hitachi High-Technologies Corporation Automatic analysis device
US20220001581A1 (en) * 2018-10-04 2022-01-06 Nitto Denko Corporation Heat-resistant release sheet and thermocompression bonding method

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Publication number Publication date
JP2661017B2 (ja) 1997-10-08

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