JPS6333360A - アゼチジノンの製造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

背景 本発明は、ペネム抗生物質合成中間体として有用なアゼ
チジノンを製造する多段階の７体特異的工程における改
良法に関する。特に本発明は、次式１０ （式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基である。）
を有する化合物が、次式！ （式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基であり、Ｐ
ｒ’はカルボキシ保護基である。）を有する化合物に転
化されることを含む、立体特異的で多段階工程における
改良法に関する。 化合物Ｉは、例えば、米国特許第４，５０３．０６４号
；第４，５３０，７５３号および第４．５５９，３３３
号で示されるような既知法によって、ペネム抗生物質に
転化されることもある。 式１０を有する化合物は既知法によって合成されること
もある。本発明の工程においては、Ｐｒはヒドロキシ保
護基、その中でもＣ−ブチルジメチルシリルであること
が好適である。式１０を有する化合物の合成は、例えば
、英国特許出願第２．１５６，８１４Ａ号（１９８４年
４月６日公示。）にお（・て開示される。 ここに示したように次の反応工程： ６−アミノペニシラン酸 ｉ− ＋ ｉ Ｐｒｆ）ｉｇ−ブチルジメチルシリルである、式１０を
有する化合物 が使用されることもある。 本発明の工程は、６−アミノペニシラン酸に由来する硫
黄原子の離脱と再導入を必要としな（・。 加えて、該工程は全て中間体の単離を必要とせず、効果
的かつ経済的である。該工程は、ペネム抗生物質を造る
既知工程において究極的に便用式れる、新規および既知
の中間体を合成する手段を利用かつ提供する。好適な具
体化により、高収率か得られる。 ここで使用される、様々なペネムＳよびアゼチジノン化
合物に対する命名法は、次のように、指示された適当な
ナンバリング系と示された立体異性表示を用いて図示さ
れる。 １０′ １′ 化合物１０′は、（５Ｒ，６８，８Ｒ）−３，７−シオ
キンー６−（１−ヒドロキシエチル）−２−（１−メチ
ルエチリデン）−４−チア−１−アザビシクロＣ３、２
、０，）へブタンであり、化合物１′は、（３Ｓ、４Ｒ
，５Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニル）メチル−３
−（１−ヒドロキシエチル）−４−ベーターナフトキシ
（チオカルボニル）チオ−２−アゼチジノンである。 本発明の工程で使用される化合物およびこれによって合
成される化合物の１−とドロキシエチル側鎖のＶ体化学
は、カーンーインゴルトーブレログ（Ｃａｈｎ−１Ｓｇ
ｏｌｄ−Ｐｒｏｌｏｇ）則により定義されるＲ配置であ
り、これは以下の、化合物■′における５位の炭素およ
び化合物１０′における８位の炭素のＲ配けによって示
される通りである。そして、存在している不斉中心は適
当なＲまたはＳ配置によって示されている。 本発明工程は、次の項において要約される。 最も広い面において、不発明は、次式Ｉ：〔式中、Ｐｒ
は水素またはヒドロキシ保護基（好適なものとしては、
Ｃ−ブチルジメチルシリル。）であり　Ｐ、１はカルボ
キシル保護基（好適なものとしては、アリル。）である
。〕 を有する化合物を製造する工程において、欠式５：（式
中、Ｐｒは先に定義した通りである。）を有する化合物
と、次式：Ｐｒ’−ＯＨ〔式中、Ｐｒ’は先に定義した
通りである。）を有する化合物および、鉱酸（好適なも
のとしては、塩化水素酸。）または有機塩基の銀塩（好
適なものとじ

【は、銀イミダゾレート。）とを反応させ
、この生成物を次式：〔式中、Ｌは脱離基（好適なもの
としては、塩素。）である〕を有する化合物と反応させ
る、ことからなる工程から取る。 化合？！１５は以下の工程： （αン　次式１０： 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基（好適なも
のとしては、ｔ−ブチルジメチルシリル。〕である。〕
をオゾンと反応させる、および、 ｔ６）　　工程（ａＪの生成物を式”　Ｐ（ＯＲ”）Ｉ
Ｃ式中、Ｒ１は低級アルキル（好適なものとしては、エ
チル。）、了り−ル低級アルキルまたはベンジルである
。〕を有する化合物と反応させ、反応混合物に水を加え
て、式５を有する化合物を製造する、 のよ５に製造することができる。 本発明の第２の面は、次式！＝ 〔式中、ｐｒは水素またはヒドロキシ保饅基（好適なも
のとしては、ｔ−ブチルジメチルシリル。）であり、Ｐ
ｒ１はカルボキシ保護基（好適なものとしては、アリル
。）である。〕を有する化合物を製造する工程にお（・
て、 （αン　次式１１： （式中、Ｐｒ　およびＰｃ’は先に定義した通りである
−を有する化合物を金属および、鉱酸または有機酸（好
適なものとしては、酢酸。）と反応させるか、あるいは
金属との反応混合物を電気分解に付す、 〔式中、Ｌは脱離基（好適なものとしては、塩素。）で
ある。〕を有する化合物と反応させる、ことからなる工
弓として要約される。 化合物１１は、 （α）　次式１０： （式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基である。）
を有する化合物を酸素、銅塩（好適なものとしては、塩
化第一４司。）およびイ氏級アルカノール（好・酊なも
のとしては、メタノール◇）と反応させる、 （６】　　工程（α）の生成物をオゾンと反応させる、
ｔｅｌ　　工程（６）の生成物を、水酸化アンモニウム
または有機アミン（好適なものとしては、水酸〔式中、
Ｌ２は脱離基（好適なものとしては、ヨウ素。）であり
、Ｐｒ１はカルボキシ保護基（好適なものとしては、ア
リル。）〕を有する化合物と反応させて、式１１を有す
る生成物を製造する、 によって製造することができる。 化合物１１を製造するもうひとつの方法は、次式１３： 〔式中、Ｐｒはヒドロキシ保護基、Ｐｒ２はカルボキシ
保ｉ基セしてＬ３は脱離基（好適なものとしては、トリ
フェニルメチル。）である。〕を有する化合物をヨウ素
と反応させて、式１１を有する生成物を製造することに
よるものである。 化合ｖ！ｊ１３は既知（例えば、米属特許第４，５５９
．３３３号：第４，５０３，０６４号および第４，５３
０．７９３号を見よ。）である。 上記の工程において、化合物５および１０は５Ｒ，６ｇ
、ＳＲの立体化学をとシ、化合′勿Ｉおよび１３は３Ｓ
、４Ｒ，５Ｒの立体化学をとることが好ブしい。 本発明の一部をなす本発明によって製造または使用され
る新規化合物は以下のものである。 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保換基（好適なも
のとしては、ｔ−ブチルジメチルシリル。）である。コ および、 〔式中、両刃のＰｒ基は、水素あるいはヒドロキシ保護
基（好適なものとしては、ｔ−ブチルジメチルシリル。 ）であり、各Ｒ２は、同一であって（ここで、Ｒ３は低
級アルキル（好適なものとしては、メチル。）であり、
　Ｐｒ’はカルボキシ保護基（好適なものとしては、ア
リル。）である。）である。〕本発明による方法の各々
の面を以下に詳細に記述する。本記述において、本発明
の方法の好適な実施態様が内示される。しかしながら、
化学に習熟した者は、付録の特許請求の範囲によっての
み限定された、他の実施態様も可能であることを認識す
るだろう。 本発明による方法の一実施態保は、反応工程ＡＫ示され
る。 反応工程Ａ： １、　アリルアルコール、　ＨＣＬ ■′ 工程ＡＩにおいて、英国特許第２，１５６．８１４Ａ号
において示される方法で製造される化合物２は、無水不
活性有機溶媒（例えば、無水アセト４）中、大気圧下約
−５０から一８４℃（好適なものとしては、窒素を例と
する不活性雰囲気下約−７８℃。）でオゾンで処理され
るが、これは反応が完了して青色を呈した反応溶液の生
成が明らか（なる１で行われる。その結果生成する化合
物３は単離されずに、次の反応工程、工程Ａ２において
使用てれる。 工程Ａ２において、工程Ａｌ由来の化合物３は、式”　
’＜Ｏｎ’）ｓ　　（式中、Ｒ１は低級アルキル、アリ
ール低級アルキルまたはベンジ゛ルである。）で処理さ
れる。化合？！７　Ｐ　＜ＯＲ”　）ｓは好適なものと
してハ、トリエチルホスファイトである。反応混合物は
室温（約２０＠〜２５℃）まで暖められ、次に、反応が
完了するまで約３０分間、水で処理され、生成物である
化合物５′が白色固体として回収される。 工程Ａ３において、化合物５′は化合物１’Ｋ　２工程
の反応、すなわち、第一に、式：　Ｐｒ’　−ＯＨ〔好
適なものとしては、示したようなアリルアルコール。）
を有する化合物と濃＠酸（好適なものとしては、ＨＣ４
，）中、室温で約３０分間（反応が完了するまで、）反
応させ、第二に、その結果生成する生成物を、不活性溶
媒（例えば塩化メチレン。）巾約−１０℃から＋１０℃
（好適なもの〔式中、Ｌは脱離基（好適なものとしては
、反応工程Ａに示したように塩素。）である。〕を有す
る化合物と、有機窒素塩基あるいは、他の酸除去剤の存
在（または非存在）下で反応させ、生成物である化合向
１”ｋ回収する、 ことで転化される。 反応工程Ａは通常、Ｐｒが水素である式■を有する化合
物を与える。化合物■が先の合成に使用される場合、そ
のヒドロキシ基は通常、保護されているので、反応工程
Ｂ（これは、より高収率を与える。）を使用することは
、より好適である。 反応工程Ｂ： ＋ ■“ 工程Ｂ１において、化合物５′は式二Ｐデ１−〇Ｈ（好
適なものとしては、示したようなアリルアルコール。）
および有機塩基のψ塩（好適なものとしては、示したよ
うな銀イミダゾレート。）と、室温で反応し、約３０時
間で反応が完了する。その結果生成する生成物、化合′
ＷＪ６は、次工程Ｂ２で使用するために単離する必要は
な（・。 工程Ｂ２において、化合物６は化合物Ｉ“に、不活性溶
媒（例えば、塩化メチレン。）中、式：通なものとして
は、反応工程Ｂに示したように塩素である。）である。 〕を有する化合物と室温で反応（約１時間で反応は完了
する。）することにより転化される。生成物化合物１　
”４ま、反応後、高収率で回収される。 反応工程Ｃは、本発明の一部でもあるのだが、これは式
■を有する化合物（ここで、Ｐデは通常、水素である。 ）を高収率で与える。 反応工程Ｃ： 工程　　Ｃ４ １１′ 工程　Ｃ７ １３′ １１’ 工程Ｃ１にお（・

【、化合′吻２は、酸素、銅塩（好適
なものとしては、示したような、塩化第一銅。）および
低級アルカノール（好適なものとしては、示したような
、メタノール。）との反応により、化合ｖ１ｊ７に転化
される。他の使用しうる銅塩とし又は、例えば、酢酸第
二銅および塩化第二鋼が含まれる。該反応は、適度に上
昇した温度（例えば、ＦＪ４０℃〜６０℃、好適なもの
としては、約５０℃。）で幻１日を要する。生成物、化
合物７は白色固体として回収される。 工程Ｃ２において、化合物７は、不活性有機溶媒（例え
ば、塩化メチレン。）中、低温（例えば、約−７８℃。 ）下におよそ大気圧下のオゾン処理（反応混合物が青色
に変化し、青色が残存するまで行う。）することにより
化合物８に転化される。 反応後、青色溶液は、ジメチルスルフィドと室温で処理
され、過剰のオゾンを除去する。 工程Ｃ３において、化合物８の窒素は、不活性有機溶媒
中（例えば、エチルエーテル。）中、水性水酸化アンモ
ニウムまたは有機アミン（好適なものとしては、示した
ような水酸化アンモニラへ）と、約−１０℃〜＋ｌθ℃
（好適なものとしては、０℃。）で反応させることによ
り脱保護され、生成物、化合物９が白色固体として回収
される。 工８Ｃ４において、化合物９は、無水不活性有機溶媒（
例えば、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）。）中で、式：
　Ｌ”−ＣＨ２−Ｃｏ−０Ｐｒ”　（式中、Ｌ２は脱離
基（好Ｍなものとしては、示したようなヨウ素。）であ
り、Ｐｒ１はカルボキシ保護基（好適なものとしては、
示したようなアリル。）である。〕を有する化合物およ
び、水素化ナトリウム、あるいは炭酸カリウムのような
無機塩基（好適なものとしては、水素化ナトリウム。）
と、約−２０℃〜−４０℃という低温（好適なものとし
又は、−３０℃。）下、約１日反応させる。生成物、化
合物１４は、粘性オイルとして回収される。 随意工程Ｃ５においては、化合物１４のヒドロキシ基は
、不活性有機溶媒（例えば、ＴＨＦ、）中、鉱酸（好適
なものとしては、示したような塩化水素酸。ンと、室温
で反応が完了（薄層クロマトグラフィー（ｔｌａ）によ
って確かめられる。）する筐で反応させることにより脱
保護され、化合物１１′（これは、単離することなしに
、次工程で使用てれる。）を与える。本随意工程が行わ
れるのは、客−ブチルジメチルシリルよジを除去か難し
い保護基が使用されなければ、はとんどのとドロキシ保
繰基は、後の工程で除去されるからである。 工程Ｃ６において、化合物１１’のジスルフィド結合は
、金属（好適なものとしては、示したような亜鉛。）お
よび、鉱酸または有機酸（好適なものとしては、酢酸。 ）と反応させるか、ある〜・は金属との反応混合物を電
気分解に付すことにより還元される。好適なものとして
は、鉱酸（最も好適なものは、反応工程Ｃで示したよう
なＨＣｌ　である。）が使用される。該反応は室温で進
行し、薄層クロマトグラフィーにより確認して、反応が
完了する１で行う。化合物」２が生成されるが、これは
、特製せず罠次工程で使用される。工程Ｃ５およびＣ６
は、ひとつの反応容器で連続的に行われる。 工程Ｃ７におい【、化合ｖＪ１’は、化合物１２と（好
適なものとしては、示したような塩素。）である。〕を
有する化合物と、不活性有機溶媒（例えば、塩化メチレ
ン。ン中、有機含窒素塩基（例えば、ピリジン、アニリ
ンまたは低級アルキルアミン（トリエチルアミンが好］
しい。゛）。）の存在（または非存在）下、約Ｏ℃、不
活性雰囲気（例えば、窒素。）下、約１時間反応させる
ことにより、化合物１２かも造られる。生成物、化合物
１′は白色固体として回収される。 化合物１１’は、でた、反応工程Ｃ１工程Ｃ８に示され
ろように、化合物１３′から無水不活性有機溶媒（例え
ば、トルエン。）中、約０℃で、ヨウ素と反応させるこ
とによ構造られる。生成物、化合物１１′が与えられる
が、次工程での使用の為に回収される必要はない。 ここで使用される「ヒドロキシ保護基」は、本目的の為
に慣例通り使用される全ての基を意味するので、本目的
の為の慣用試薬で、咳化合物の構造に不都合な影響を与
えないものとの、保護および脱保護の反応に適合するも
のであればよい。このような基の典型的なものは、「グ
リーン（Ｇｒｅｅｎ入「有機合成にＫＬｒｒる保護基Ｊ
　（ＰｒｏｔｅｃｔｉｎｇＧｒｏｓｐａ　　ｓｓ　　Ｏ
ｒｇａｎｉｃ　　５ｙｎｔｈａｓｉａ）、　ＪｏｈｎＷ
ｉｌｍｙ　ａｎｄ　５ｏｔｓｓ、　ニューヨーク、＃１
’（１９８１年）にリストされている。不発明に使用す
る為に最も好ましいものは、３級プチルジメチルシリル
である。本発明中の使用によく適合している他のものと
しては、２，２．２−トリクロロエトキシカルボニル、
アセテート、１−二トキシエチルＳよひインアミルジメ
チルシリルかある。 「カルボキシ保饅基」は、アリル、ｐ−二トロベンジル
、べ／ジルまたはベンジヒドリル（アリルが好適である
。）のような慣用的なカルボキシ保１う基を意味する。 「適切な不活性有機溶媒」は、行われる反応中に反応性
がなく、反応出発物に対する溶媒となる全ての有機溶媒
またはそれらの組合せを意味する。 不発明の様々な反応で使用されるそのような溶媒は、反
応工程の検討Ｓよび実施例において明らかにされる。 「鉱酸」は、塩化水素酸、硫酸、硫識８よびリン酸のよ
うな無機酸を意味する。 「低級アルキル」は、１個から６個の炭素原子を有する
直鎖ｌ）るいは分枝鎖のアルキル基が当てはする０もち
ろん、本定義はまた、低級アルカノールにおσる場合の
ように、他の基を有する、関係する低級アルキル基にも
適合する。 アリールという語は、フェニルおよびナフチルヲ含ム。 フェニル、アリールおよび低級アルキルの全ての基は、
目的の反応を促進するか、あるいは妨げない置換基によ
って置換されることがありうる。 次の実施例は、不発明の工程を記述する。これらの実施
例を通じて、「ＮＭＲ」とは、核磁気共鳴スペクトル（
記述されるスペクトルの中には、不完全なものもあるが
、関係する化合物を同定するには充分である。）を意味
し：　ｒｍｐＪは融点を意味し；　Ｉ−ＨＰＬＣＪは高
圧液体クロマトグラフィーを意味し：「エーテル」はジ
エチルエーテルを意味し、そして石油エーテル（Ｐａｔ
　ｏｔｈｅｒ）の沸騰範囲は、３５℃〜６０℃にする。 シリカゲル上のフラッシュクロマトグラフィーは、ステ
イル（Ｓｔ＜１Ｌ）らのＪ、Ｏデｇａ＊、ｃｈａ惰、、
第４３巻、２９２３ページ（１９７８年）の操作に従う
ものとする。 実施例１は、化合物５′を製造する工程Ａ１およびＡ２
を例示する。 実施例１゜ ヘプタ／ ２．０１９ｆ（０，００５９モル）の（５Ｒ，６Ｓ。 ８Ｒ）″６−〔１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ
）エチル）−３，７−シオキンー２−（１−メチルエチ
リデン）−４−チア−１−アザビシクロ−［３，２，０
］へブタンおよび２５−の無水ア七トンを取り、窒素気
流を流した１００′ＩＬｔの三極フラスコに加える。約
−７８℃まで冷却、オゾン気泡を通し、溶液に宵色が残
存する１でこれを行い、５分間撹拌する。次に、窒素気
流を溶液が無色になる１で通すと、（５Ｒ，６８，８Ｒ
）−６−［１−（＄−７’チルジメチルシリルオキシ）
エチルツー４−チア−２，３，フードリオキンー１−ア
ザビシクロ（３，２，０］へブタン（これは、該反応中
、単離嘔れないが、その７３Ｃ−ＮＭＲスペクトルに基
づ（・て同定される。）を与える。 １３０　ＮＭＲ：　（ＣＤ、Ｃ０ＣＤ３．ＢＢ）、δ−
１８９，８゜１６４−２．　１５６．９　　、　６９．
８　　、　６５．０　　、　５０．４　　。 ２５．９　　、　２１．７　　、　１８．４　　、−４
．０　　、−５．５　　。 ３．４４？（０，０２０７モル）の新たに蒸留したトリ
エチルフォスファイトを加え、ゆっくりと室温１で暖め
る。４時間後０．５紅の水を加え、３０分間撹拌し、回
転式エバポレーターを用いて濃縮する。残渣をシリカゲ
ル（５〜１００％エチルエーテル／石油エーテル）でフ
ラッシュクロマトグラフィーに付し、標記の生成物を白
色固体として与える。 ％７：　６５〜６６℃（エチルエーテル／石油エーテル
より再結晶。） ’　Ｈ−ＮＭＲ：　（ＣＤＣ１，）　、δ−５，３７（
ｓ　、　ＩＨ）。 ４．３　７　　（ｄ　、ＩＨ，Ｊ−１６，８Ｈｇ）、４
．３０　　（ｍ、ＩＨ）　、　３．５３　（ｄｄ　、　
１＃、　Ｊ−１，５、４，４Ｈｚ）　、３．４４（ｄｄ
、　ＩＨ，Ｊ−０，９、１６，８ｆｆｇ）　、　１．２
７　（ｄ　、　３１１、Ｊ＝６．２Ｈｚ）、０．８７（
ｓ、９Ｈ）、０．０８（ｓ。 ３Ｈ）−０，０７（ｓ、３Ｈ）。 実施例２は、工程Ｂ１およびＢ２、すなわち式Ｉを宵す
る化合物（この場合は式！“を有する化合物）を化合′
ａ５′に転化する好適な方法を例示する。 ０、３１７　ｆ　（０，００１１モル）の（ＳＲ，６８
゜８Ｒ）−６−Ｃ１−Ｃｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル１−３．７−シオキンー４−チア−１−アザ
ビシクロ［３，２，０３へブタ／、０、０６３５’　（
０，００１１モル）のアリルアルコール、１０１１１４
のアセトニトリルをとり、窒素気流を流した２５１Ｌｔ
のフラスコに加える。次に、銀イミダシレー）（０，１
８７？、０．００１１モル）を加え、フラスコをアルミ
ホイルで元から保護し、呈ムλ下２４時間、反応混合物
を撹拌する。もう１当量のアリルアルコール（０，０６
３ｔ、　０．００１１モル）を加える。さらに２４時間
後、２５ｄの塩化メチン／、２５−の食塩水および１０
ＨＬｔの水を加え、液層を分離し、ｌＸ２５ｍの塩化メ
チレンで水層を抽出し、集めた有機層を、Ｈ，Ｓ　Ｏ４
で乾燥し、回転式エバポレーターで濃縮する。粗面体を
２０Ｍの塩化メチレンに溶解、０℃に冷却し、０、６２
３　？　（０，００１２モル）の０−２−ナフタレニル
カルボツクロリドチオエートを加え、反応混合物を２４
時間、撹拌する。生成した固体をパッド状のセライトを
通して戸云し、該セライトパッドを３ｘ２５ｉｙｊの塩
化メチレンで洗浄、絖いて集めた有機層を１　ｘ　２５
ｔｊの５％ｌＩＣ１，Ｉ　Ｘ　２５ｊｌｅｆ）Ｈ２Ｏ，
Ｉ　Ｘ　２５ｘｔｌの飽和ＮａＨＣＯ３、ｌＸ２５１Ｌ
ｔの食塩水で洗浄し、Ｍ　ｆ　Ｓ　Ｏ４で更燥する。シ
リカゲル（ＳＯｃＩＩエチルエーテル／石油ニーｆｋ）
でフラッシュクロマトグラフィーＫｆｆし、回転式エバ
ポレーターを用いる濃縮の後、得られる残渣は生成物を
与える。 ’ＨＮＭＲ：（ＣＤＣ１，ン、δ−８，００７７−２５
（ｂｒ。 ７Ｈ）、５．８９（ｄ、　ＩＨ，Ｊ−２−６Ｈ客）、４
．２８（ｄ。 ＩＨ，Ｊ−１７，８Ｈ露）、３．９６（ｄ、ＩＨ，Ｊ塩
１７．８Ｈｇ）、３．３７（ｄ　ｄ、１＃、７−２．５
．６．０ｆｆｇ　　）　　。 １３４（ｄ、３Ｈ，Ｊ−６−ＩＨｇ）、０．９１（ａ、
９ｆｆ）。 ０．１２（ｊ、６Ｈ）。 実施例３は、工程Ａ３、を例示する。 ０、２９０　ｆ　（０，ＯＯ１０モル）の（５Ｒ，６３
゜８Ｒ）−６−（１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチル）−３，７−シオキソー４−チア−１−アザ
ビシクロ（３，２，０３へブタン、３ゴのアリルアルコ
ール、ピペット２滴の濃ＨＣ１をとり、窒素気流を流し
た２５ｇフラスコに加える。室温下３０時間の撹拌後、
回転式エバポレーターで濃縮、浅漬を１０１Ｅｔの塩化
メチレンに溶解し、０℃に冷却、０．２５０　ｆ　（０
，００１１−ｖ−ル）の０−２−す７タレニルカルボノ
クロリドチオエートを加える。室温下１時間撹拌後、５
０ｊｌｊのエチルエーテル、１０１ＬｔのＨ，Ｏを加え
て分離、１ｘ２５−のエチルエーテルで水層を抽出し、
集めた有機層を２　Ｘ　２０１ｔの５　％ＨＣ１，Ｉ　
Ｘ　２０ｍ１ｔの食塩水、１ｘ２０１１１ｊの飽和Ｎａ
ｆｆＣＯ３、Ｉ　Ｘ　２０　Ｗｉｇの食塩水で洗浄、Ｍ
ｇＳＯ４で乾燥する。回転式エイくボレーターを用いて
濃縮し、残渣をシリカゲル（１５〜１００＊工チルエー
テル／石油エーテル）でフラッシュクロマトグラフィー
に付し、生成物を与える。 ”ＨＮＭＲ：　（ＣＤＣ１，）、δ−７−９３−７，２
１（ｂｒｍ、７ｆｆ）＊５−９６（ｄ、ＩＨｓＪ−２，
５ｆｆｇ）ｔ５．８２（愼、Ｉｆｆ）、４．３７（ｄ、
ＩＨ，Ｊ−１８，１Ｈｇ）、３．９２（ｄ、ＩＨ，Ｊ−
１８−ＩＨｚ）、３．４７（ｄｄ、ｌＨ，Ｊ■２５　、
５．４Ｈｚ　）　、　２．２５　（ｄ　、］Ｊ。 Ｊ−４，２Ｈ８）、１．４１（ｄ、３Ｈ，！−６．４Ｈ
雰）。 実施例４〜１１は、工程Ｃの様々な工程を例示する。 ボニル）−２−メチル−１−プロペニル）−２−アゼチ
ジノン ２５．１１（０，０７３５モル）の（ＳＲ，６８゜８Ｒ
）−６−（１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エ
チル）−３，７−シオキソー２−（１−メチルエチリデ
ン）−４−チア−１−アザビシクロ（３，２，０３へブ
タン、５００！１ｊのメタノールをとり、ｌｔのフラス
コに加える。５分間酸素気流を通し、フラスコを５０℃
で油浴に設置、４．０５　ｆ　（０，０４１２％ル）の
塩化第一銅を加える。さらに３時間、酸素気流を通す。 ２２．５時間後油浴なはずし、反応混合物を冷却（水浴
）、５００ｊのエチルエーテル、１００−の５チＨＣ１
を加え、溶液をパッド状のセライトを通し濾過する。有
機層をＩ　Ｘ　１００ＩＩｔの食塩水、２ｘ１００ｍ（
ｒ）飽和ＡＩ’　ａ　ＨＣＯｓ、１ｘ１５Ｑｄの食塩水
で洗浄、Ｍ　、　Ｓ　Ｏ４で乾燥し、回転式エバポレー
ターを用いて濃縮する。残渣を再結晶（ＥｔＯＨ）ｌ、
、生成物を白色固体として得る。 惰ｐ；１２４〜１２５℃（ＥｔＯＨより再結晶）。 Ｉｆｆ　　ＮＭＲ：　（ＣＤＣ１，）　、δ＝５．１４
（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝２２ｆｆｇ）、４．２６（ｓ、２Ｈ）
、３．７２　（ａ　、　６Ｈ）、３−４０　（ｄｄ、　
２Ｈ、Ｊ＝　２．２．６．１Ｈｇ）、２，２１（ｓ、６
ｆｆ）、１．９４（ｓ、６Ｈ）、１．３３　（ｄ　、　
６Ｈ。 Ｊ＝６−３Ｈｚ）、０．８８（ｇ、１８ｆｆ）、０．０
９（ｓ。 ６Ｈ）、０−０７　（ｓ　、　６Ｈ）。 第２の、少ない生成物が母液中に存在し、（３Ｓ。 ４Ｒ、５Ｒ，３’Ｓ、４’Ｒ，５’Ｒ’Ｊ−４，４’−
）リチオビス−３−（１−（ｔ−ブチルジメチルシリル
オキシ）エチル）−１−（１−メトキシカルボニＪ％／
−２−メチル−１−プロペニル）−２−アゼチジノンと
単離同定された。 ’ＨＮＭＲ：（ＣＤＣＩ−ｓ）、δ５．４（ｄ、２Ｈ，
Ｊ＝２．５Ｈ露）、４．２９（惰、２Ｈ）、３−７４　
（ａ　、　６Ｈ）、３．２９　（ｄｄ　、　２Ｈ、Ｊ＝
２．５　、３．９Ｈｚ　）、２．２３（ａ、６Ｈ）、１
．９４（ｓ、６Ｈ）、１．２３（ｄ、６Ｈ。 ／＝６．３Ｈｇ）、０．８５（ａ、１８ｆｆ）、０．０
７（ｓ。 ６Ｈ）、０．０４　（ｓ　、　６Ｈ）。 再結晶母液（８，２（１，約２＝１の比の（３Ｓ。 ４Ｒ、５Ｒ，３’Ｓ、４’Ｒ，５’Ｒ）−４，４’−）
リチオビス−３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチル］−１−（１−メトキシカルボニル−２−
メチル−１−７’ロペニル）−２−アゼチジノンおよび
（３３、４Ｒ、ＳＲ、３’Ｓ、　４’Ｒ。 ５’Ｒ）−４，４’−ジチオビス−３−Ｃ１−（ｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ）エチル）−１−（１−メト
キシカルボニル−２−メチル−１−プロペニル）−２−
アゼチジノンが存在ｆる。）、１９（１（０，００７２
モル）のトリフェニルフォスフインおよび５０ｄのアセ
トニトリルを２５０−のフラスコに加える。３時間撹拌
し、４０−のエチルエーテルを加え、白色固体を枦去、
Ｆ［ｔ−回転式エバポレーターを用いて濃縮する。粗生
成物ヲシリカゲル（２５〜７０％エチルエーテル／石油
エーテル）でフラッシュクロマトグラフィーに付し、付
加的に＜３３，４Ｂ、ＳＲ，３’Ｓ。 ４’Ｒ９５’Ｒ）−４，４’−ジチオビス−３−（１−
（ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ）エチル〕−１−（
１−メトキシカルボニル−２−メチル−１−プロペニル
）−２−アゼチジノンを白色固体として与える。 １０．０７ｔＣ０，０１３Ｓモル）のＣ３８，４Ｂ。 ５　Ｒ、３’Ｓ、　４’Ｒ、５’Ｒ）　−４、４’−ジ
チオビス−３−［１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオキ
シ）エチルｌ−１−（１−メトキシカルボニル−２−メ
チル−１−プロペニル）−２−アゼチジノン、６０−の
塩化メチレンをとり、５００−のフラスコ内に加える。 −７８℃（ドライアイス−アセトン浴）に冷却、溶液に
青色が残存するまでオゾン気流を通し、５分間撹拌、溶
液が無色になるまで窒素気流を通し、３−３８９（０，
０５４４モル）のジメチルスルフィドを加えて、室温に
戻す。３時間後、反応混合物を回転式エバポレーターを
用いて濃縮し、白色固体を与える。固体を３００−のエ
チルエーテルに溶解し、ｌＸ５０ｍの食塩水で洗浄、Ｍ
ｇＳＯ３で乾燥し、回転式エバポレーターを用いて濃縮
する。粗生成物を再結晶（エチルエーテル／石油エーテ
ル）し、純生成物を白色固体として与える。 ｍｐ：　　１４７．５　１４８．５℃（エチルエーテル
／石油エーテルよ９再結晶）。 ”ＨＮＭＲ：　（ＣＤＣ４＞、δ＝５．３７（ｄ、２Ｈ
，Ｊ””２．８Ｈｇ）、４．３６（ｍ、２ｆｆ）、３．
９１（ｓ。 ６Ｈ）、３．６２　（ｔ　、　２Ｈ、Ｊ＝２．８Ｈ客）
、１．２５（ｄ　、　６Ｈ、！＝６．４Ｈｚ　）、０−
８１（ｓ、１８ｆｆ）、０．０６（ｓ、６ｆｆ）、０．
０１（ｓ、６ｆｆ）。 １０．０１　？　（０，０１４４％ル）のＣ３８，４Ｂ
。 ５Ｒ，３’Ｓ、４’Ｒ，Ｓ’Ｒ）−４，４’−ジチオビ
ス−３−Ｃ１−（ｔ−ｙ”チルジメチルシリルオキシ）
エチル）−１−（メトキシカルボニル）−カルボニル−
２−アゼチジノン、４００ｍのエチルエーテルをとり、
ＩＬのフラスコ内に入れる。０℃（水浴）Ｋ冷却し、１
５０ｍの５％水酸化アンモニウム溶液を加え、激しく撹
拌する。３時間後、白色沈殿全戸去、固体′ｆｔ４００
−のエチルエーテルで洗浄し、集めた有機層を２Ｘ１０
０−の食塩水で洗浄、ＭｇＳＯ３で乾燥し、回転式エバ
ポレーターを用いて濃縮する。残渣をシリカゲル（５０
〜１００％エチルエーテル／石油エーテル）テフラッシ
ュクロマトグラフイーに付し、生成物を白色固体として
与える。 悔ｊ：１３０．５〜１３２℃（エチルエーテル／石油エ
ーテルより再結晶）。 ”ＨＮＭＲ：ＣＣＤＣ４＞、δ＝６．５２　（ｂｙ　ａ
　、２Ｈ）、４．７９　（ｄ　、　２Ｈ、Ｊ＝２．１　
Ｈｇ　）、４．２２　（ｓ、　２１１’）、３．２９　
（ｄｄ、　２＃　、　Ｊ＝２．０　、４．４Ｈｚ　）、
１．２４（ｄ　、　６Ｈ、Ｊ＝６．２Ｈｚ　）、０．８
６（ｓ、１８Ｈ）、０．０６４←ｓ、６ｆ）、０．０５
７（ｓ、６Ｈ）。 メチャー３−〔１−（ｔ−ブチルジメチルシリル２．２
６１ｒ（０，００４３モル）の（３Ｓ　、　４Ｒ。 ＳＲ，３’Ｓ　、　４’Ｒ，５’Ｒ）　−４、４’−ジ
チオビス−３−１：１−（ｔ−ブチルジメチルシリルオ
キシ）エチルツー２−アゼチジノン、２０Ｍｔの無水Ｔ
ＨＦ、３．９２９？（０，０１７４モル）のアリルヨー
ドアセテートをとり、窒素気流を通した２５０−のフラ
スコＶＣ入れる。溶液ｔ−−３０℃（ドライアイス−ア
セトン浴）に冷却し、ＣＬ４２Ｂ？（０，０１０７％ル
、６０％オイル分散物）の水素化ナトリウムを加え、−
３０℃で２４時間、次いで減圧下（２０ｔｏデｒ）１時
間撹拌する。２０〇−のエチルエーテルおよび５０−の
食塩水金加え、生成した沈殿全戸去、有機層を２Ｘ５０
−の食塩水で洗浄し、Ｍｇ５Ｏ，で乾燥、回転式エバポ
レーター１−用いて濃縮する。残渣をシリカゲル（Ｏ〜
５％酢酸エチル／塩化メチレン）で７ラツシユクロマト
グラフイーに付し、生成物を粘性オイルとして与える。 ”ＨＮＭＲ：　（ＣＤＣ１，）、δ＝５．８５（鶏、２
Ｈ）、５．０４　（ｄ　、２Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ”）、
４．ｔｏ２（ｄ。 ４Ｈ，Ｊ−６，０Ｈｚ　）、４．２８　（ｄ　、２Ｈ，
Ｊ＝１８．０＃ｇ）、３．７８（ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１８．
ＯＨｇ）、３．３４　（ｄｄ、２Ｈ，Ｊ＝１．９．５．
１Ｈ客）、１．２７（ｄ　、　６Ｈ、Ｊ＝６．４１１ｇ
　）、０．８６（ｓ、１８’７）、０．０８（ｓ、６Ｈ
）、０．０５（ｓ、６ｆｆ）。 ゼチジノン ０．１２５？（０，２５６溝Ｍ）の（３８，４Ｒ。 ５Ｒ）−１−（アリルオキシカルボニル）メチル−３−
［１−ヒドロキシエチル）−４−）ジフェニルメチルチ
オ−２−アゼチジノンの５１１を無水トルエン溶液に、
０℃で０．０３３ｒ（０，２５６ｍＭ）の１２を加える
。反応混合物音Ｏ℃で２時間撹拌し、ＣＭ、Ｃ１，で希
釈、少量のＮａｔｓｔｏｓを含有した、飽和水性ＮａＣ
ｔ／Ｈ，０（１：　１　）混合物、続いて蒸留水で洗浄
し、有機層を無水Ｎａ　１　Ｓ　０４で乾燥、減圧濃縮
して、白色固体として、標記化合物およびトリフェニル
メチルカルビノールの混合物ヲ与える。同、本混合物は
精製なしに、次の反応に用いられる。代わりに、アルコ
ール（例えばメタノール）を使用すると、副生成物とし
てエーテル（例えば、トリフェニルメチルエーテル）を
与えることになる。アルコールは、エーテル副生成物が
望ましいものである場合に使用されることがある。 ＮＭＲ（ＣＤＣＬｚ　）　：　ａ　１．３８　（ｄ　、
　６Ｈ、Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．８４（ｂｒ、２Ｂ）、
３．４　（ｄｄ　、　２Ｈ、Ｊ＝３．５Ｂｇ　。 ７Ｂｇ）、３．８および４．３（２ｄ、４Ｍ、Ｊ＝１８
＃ｇ）、４２５（ｍ、２Ｈ）、４−６５　（ｄ　、　４
Ｈ，！＝７．５Ｈｚ　）、５．０５　（ｄ　、　２Ｈ、
Ｊ−３Ｈｚ　）、５．３　（ｓ　、　４Ｈ）、５．８７
（惰、２Ｂ）。 実施例９゜ ０．８’ｌ（０，８８嘱Ｍ）の（３Ｒ，４Ｂ、５Ｂ。 ３’Ｓ、４’Ｒ，５’Ｒ）−４、４’−ジチオビス−１
−（アリルオキシカルボニル）メチ＃−３−（１−ヒド
ロキシエチル）−２−アゼチジノンおよびトリフェニル
カルビノールの１０ｔｔｒＨｐｍ合ｆｉＫ（１１１ｔ濃
ＨＣ１含有）に、０℃、窒素雰囲気下亜鉛の細かい粉末
をゆつくやと１時間に渡って、ジスルフィドの還元が完
了するまで加える。反応混合物をさらに０．５時間撹拌
し、６０−のジエチルエーテルで希釈、蒸留水により洗
液が中性になるまで洗浄する。エーテル層を無水Ｎａｖ
Ｓ０４で乾燥し、減圧濃縮すると標記化合物およびトリ
フェニルカルビノールの混合物として、白色固体を得る
。同、本混合物は精製なしに次の反応に用いられる。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１，）：δ１．３５　（ｄ　、　３Ｈ、
！＝７Ｈｚ）、２．１５　（ｄ　、Ｉｆｆ、／＝１０Ｈ
ｇ）、２．６（６デ、ＩＨ）、３．１７　Ｃｄｄ、　ｌ
Ｈ，Ｊ＝２Ｈｇおよび６ｊｈ）、３．７７および４．２
（２ｄ、２Ｈ，Ｊ＝１８Ｈ震）、４．３（惰。 ＩＨ）、４．６（４，２Ｈ，Ｊ＝７Ｈｚ）、５．０５（
ｄｄ。 ＩＨ，Ｊ＝２Ｈｚおよび１０Ｊｆ）、５．３５（ｍ、２
Ｊｆ）、５．９５（鶴、ＩＢ）。 実施例１０゜ ０．４３　ｆ　（０，６ｍＭ　）の（３８，４Ｒ，５Ｒ
。 ３’Ｓ　、　４’Ｒ、５’Ｒ）　−４、４’−ジチオビ
ス−】−（アリルオキシカルボニル）メチル−３−［１
−（１−ブチルジメチルシリルオキシ）エチルツー２−
アゼチジノンの１０ｗｔＴＨＦ溶液に、室温下１．５−
の１ＯＮ水性ＨＣｔを加え、脱シリル化が完了（２〜４
時間、ｔｉｅで判断する。）するまで、反応混合物を撹
拌する。脱シリル化されたジスルフィドの本撹拌溶液に
、細かい粉末の亜鉛をゆっくりと少量ずつ４時間に渡っ
て、ジスルフィドの還元が完了しｔｉｅにより判断する
。）するまで加える。本反応混合物を１００−の酢酸エ
チルで希釈し、電相水性ＮａＣＬ浴液で、洗液が中性に
なるまで洗浄する。有機層を無水Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し
、減圧または室温で濃縮すると、標記化合物およびｔ−
ブチルジメチルシリル副生成物から成るオイルを得る。 同、本オイルは精製なしで、次の反応に用いられる。 ＮＭＥ：　実施例９において生成した化合物のＮＭＲと
一致。 一アゼチジノン ０．６５Ｐ（１，３４愼Ｍ）の（３３，４Ｒ、５Ｒ＞−
１−（アリルオキシカルボニル）メチル−３−（１−ヒ
ドロキシエチル）−４−スル７ヒドリルー２−アゼチジ
ノンおよびトリフェニルメタンの１８　ａｄ　ＣＨ，Ｃ
Ｌ、混合溶液に、０℃Ｎ、雰囲気下、０．３２ｔ（１，
４４惰Ｍ）の０−２−ナフタレニルカルポックロリドチ
オエート（０−２−５ａｐｈｔｈ−ａｌａ＊ｙｌｃａｒ
ｂｏｓｏｅｈｌｏｒｉｄｏｔｈｉｃｌｓａｔａ　、ＮＣ
ＣＴ　）、続いて０．２　ｄ　（１，４４ｓＭ）の無水
トリエチルアミンを加える。反応混合物を５０分間、０
℃で撹拌し、ＣＨ，ＣＬ、で希釈、蒸留水、続いて飽和
水性ＮａＣＬと蒸留水の１：１混合物で洗浄する。有機
層を分離し、無水ＭＱＳＯ，で乾燥、減圧濃縮してやや
白色の固体を与える。本固体をクロマトグラフ（シリカ
ゲル；　ＣＭ、ＣＬ、続いてＥ　ｔ　ＯＡ　６　／　Ｃ
Ｈ，Ｃｌ４（ｌ：１９）、標記化合物を白色固体として
得る、駕９７６−７８℃）に付す。 ＮＭＲ（ＣＤＣ１，’）：δｌ−４２Ｃｄ、３Ｈ，Ｊ＝
’ＩＨｚ）、　２．２５　　（ｂテ、　　ＩＨ）、３．
４　　（ｄｄ、ＩＨ，Ｊ＝３Ｈｓおよび６Ｈｓ）、３．
８５および４．３７（Ｊ＝１８Ｈｇ）、４．２−４．６
　（％　、　３ｆｆ　）、５．１７（ｍ。 ２ｆｆ）、５．７５（情、ＩＨ）、５．９（ｄ、ＩＨ，
Ｊ＝２　Ｈｚ　）、７−１〜７．９（ｍ、７Ｈ）。 トリフェニルカルビノール、トリフェニルメチルエーテ
ルまたは客−ブチルジメチルシリルという副生成物がト
リフェニルメタンの代わりに存在することによって、生
成物の質に変化は生じない。 （外４名）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、式 I ： ▲数式、化学式、表等があります▼　 I 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基であり、Ｐ
   ｒ＾１はカルボキシ保護基である。〕を有する化合物の
   製造方法において、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｒは先に定義した通りである。〕を有する化
   合物と、式　Ｐｒ＾１−ＯＨ 〔式中、Ｐｒ＾１は先に定義した通りである。〕および
   、鉱酸または有機塩基の銀塩を反応させて、生成物を式
   ： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｌは脱離基である。〕 を有する化合物と反応させる、 ことからなる前記方法。 ２、化合物５が、式　Ｐｒ＾１−ＯＨ〔式中、Ｐｒ＾１
   は先に定義した通りである。〕を有する化合物および鉱
   酸と反応され、生成される式 I を有する化合物におい
   てＰｒが水素である、特許請求の範囲第１項記載の方法
   。 ３、化合物５においてＰｒがヒドロキシ保護基であり、
   化合物５が、式　Ｐｒ＾１−ＯＨ〔式中、Ｐｒ＾１は先
   に定義した通りである。〕を有する化合物および有機塩
   基の銀塩と反応され、生成される式 I を有する化合物
   においてＰｒがヒドロキシ保護基である、特許請求の範
   囲第１項記載の方法。 ４、次工程： （ａ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基である。〕
   を有する化合物をオゾンと反応させる、および （ｂ）工程（ａ）の生成物を式Ｐ（ＯＲ＾１）＿５〔式
   中、Ｒ＾１は低級アルキル、アリール低級アルキルまた
   はベンジルである。〕と反応させ、反応混合物に水を加
   えて、式５を有する化合物を製造する、 により行われる、 特許請求の範囲第１項〜第３項のいずれか１項に記載の
   方法。 ５、Ｐｒ＾１がアリル、Ｌが塩素である、特許請求の範
   囲第１項〜第４項のいずれか１項に記載の方法。 ６、Ｒ＾１がエチルである、特許請求の範囲第４項記載
   の方法。 ７、有機塩基の銀塩が銀イミダゾレートである、特許請
   求の範囲第３項記載の方法。 ８、生成される化合物が３Ｓ、４Ｒ、５Ｒの立体化学を
   有する、特許請求の範囲第１項〜第７項のいずれか１項
   に記載の方法。 ９、式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基である。〕
   を有する化合物。 １０、Ｐｒがｔ−ブチルジメチルシリルである、特許請
   求の範囲第９項記載の化合物。 １１、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基であり、Ｐ
   ｒ＾１はカルボキシ保護基である。〕を有する化合物の
   製造方法において、 （ａ）式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、ＰｒおよびＰｒ＾１は先に定義した通りである
   。〕を有する化合物を金属および、鉱酸または有機酸と
   反応させるか、あるいは金属との反応混合物を電気分解
   に付す、 および （ｂ）工程（ａ）の生成物を式▲数式、化学式、表等が
   あります▼ 〔式中、Ｌは脱離基である。〕を有する化合物と反応さ
   せる、 ことからなる前記方法。 １２、次工程： （ａ）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｐｒは水素またはヒドロキシ保護基である。〕
   を有する化合物を、酸素、銅塩および低級アルコールと
   反応させる、 （ｂ）工程（ａ）の生成物をオゾンと反応させる、 （ｃ）工程（ｂ）の生成物を水酸化アンモニウムまたは
   有機アミンと反応させる、 （ｄ）工程（ｃ）の生成物を式▲数式、化学式、表等が
   あります▼ 〔式中、Ｌ＾２は脱離基であり、Ｐｒ＾１はカルボキシ
   保護基である。〕を有する化合物と反応させて、式１１
   を有する化合物を製造する、 ことにより行われる特許請求の範囲第１１項記載の方法
   。 １３、次工程： 式１３： ▲数式、化学式、表等があります▼　１３ 〔式中、Ｐｒはヒドロキシ保護基、Ｐｒ＾１はカルボキ
   シ保護基、Ｌ＾３は脱離基である。〕 を有する化合物をヨウ素と反応させて、式１１を有する
   化合物を製造する、 ことにより行われる特許請求の範囲第１１項記載の方法
   。 １４、Ｐｒ＾１がアリル、Ｌが塩素であり、化合物１１
   を亜鉛および鉱酸と反応させる、特許請求の範囲第１１
   項〜第１３項のいずれか１項に記載の方法。 １５、工程（ａ）において、銅塩が塩化第一銅であり、
   工程（ｃ）において、工程（ｂ）の生成物を水酸化アン
   モニウムと反応させ、 工程（ｄ）において、Ｌ＾２がヨウ素、Ｐｒ＾２がアリ
   ルである、 特許請求の範囲第１２項記載の方法。 １６、Ｌ＾３がトリフエニルメチルである、特許請求の
   範囲第１３項記載の方法。 １７、生成される化合物が３Ｓ、４Ｒ、５Ｒの立体化学
   を有する、特許請求の範囲第１１項〜第１６項のいずれ
   か１項に記載の方法。 １８、式： ▲数式、化学式、表等があります▼　２０ 〔式中、両方のＰｒ基は、水素またはヒドロキシ保護基
   であり、各Ｒ＾２は同一であつて、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
   表等があります▼または▲数式、化学式、表等がありま
   す▼ （式中、Ｒ＾３は低数アルキルであり、Ｐｒ＾１はカル
   ボキシ保護基である。）である。〕 を有する化合物。 １９、Ｒ＾３がメチルであり、Ｐｒ＾１がアリルである
   、特許請求の範囲第１８項記載の化合物。 ２０、Ｐｒがｔ−ブチルジメチルシリルである、特許請
   求の範囲第１８項または第１９項記載の化合物。