JPS6332912A - 固体電解コンデンサ - Google Patents
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Landscapes
- Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、漏れ電流特性、特に、誘電体酸化皮膜の修復
効果を充分に右する、性能の良好な固体電解コンデンサ
に関する。
効果を充分に右する、性能の良好な固体電解コンデンサ
に関する。
一般に固体電解コンデンサの素子は、弁作用金属からな
る陽極基体に酸化皮膜層を形成し、この酸化皮膜層の表
面に対向電極として半導体層を積層し、さらに接触抵抗
を減するためにグラファイト層を介在させて銀ペースト
層、はんだ層を設けて導電体層を形成している。
る陽極基体に酸化皮膜層を形成し、この酸化皮膜層の表
面に対向電極として半導体層を積層し、さらに接触抵抗
を減するためにグラファイト層を介在させて銀ペースト
層、はんだ層を設けて導電体層を形成している。
ところで、固体電解コンデンサは電解液を用いた電解コ
ンデンサに比較して高周波数性能が良好なため、ある種
の電気機器の部品としで応用されているが、半導体層が
固体であるため誘電体酸化皮膜の欠損を修復する能力が
電解液を用いた電解コンデンサに比してとぼしく、その
結果加電時に漏れ電流が増大し、一旦増大すると前記酸
化皮膜が破壊してコンデン奢すとしての別面を失ってし
まう危険性がある。
ンデンサに比較して高周波数性能が良好なため、ある種
の電気機器の部品としで応用されているが、半導体層が
固体であるため誘電体酸化皮膜の欠損を修復する能力が
電解液を用いた電解コンデンサに比してとぼしく、その
結果加電時に漏れ電流が増大し、一旦増大すると前記酸
化皮膜が破壊してコンデン奢すとしての別面を失ってし
まう危険性がある。
本発明者等は前記問題点を解決すべく、鋭意研究した結
果、半導体層中に結晶水含有化合物を含有することによ
り、誘電体酸化皮膜の欠損部の修復を容易に行えること
を発見した。
果、半導体層中に結晶水含有化合物を含有することによ
り、誘電体酸化皮膜の欠損部の修復を容易に行えること
を発見した。
本発明は上記の発見に基づいてなされたもので、誘電体
酸化皮膜の修復効果を右する性能のよい固体電解コンデ
ンサを提供することを目的とする。
酸化皮膜の修復効果を右する性能のよい固体電解コンデ
ンサを提供することを目的とする。
本発明は、前記の目的を達成すべくなされたもので、そ
の要旨は、弁作用金属からなる陽極基体に順次、誘電体
酸化皮膜、半導体層、導電体層を形成して成る固体電解
コンデンサにおいて、前記半導体層中に結晶水含有化合
物を含有する固体電解コンデンサにある。
の要旨は、弁作用金属からなる陽極基体に順次、誘電体
酸化皮膜、半導体層、導電体層を形成して成る固体電解
コンデンサにおいて、前記半導体層中に結晶水含有化合
物を含有する固体電解コンデンサにある。
以下、本発明を説明する。
本発明の固体電解コンデンサの陽極として用いられる弁
金属基体としては、アルミニウム、タンタル、ニオブ、
チタン及びこれらを基質とする合金等、弁作用を有する
金属がいずれも使用出来る。
金属基体としては、アルミニウム、タンタル、ニオブ、
チタン及びこれらを基質とする合金等、弁作用を有する
金属がいずれも使用出来る。
陽極基体表面の酸化皮膜層は、陽穫S1体表層部分に設
けられた陽極基体自体の酸化物層であってもよく、ある
いは、陽極基体の表面上に設けられた他の誘電体酸化物
の層であってもよいが、特に陽極弁金属自体の酸化物か
らなる層であることが望ましい。何れの場合にも酸化物
層を設ける方法としては、従来公知の方法を用いること
ができる。
けられた陽極基体自体の酸化物層であってもよく、ある
いは、陽極基体の表面上に設けられた他の誘電体酸化物
の層であってもよいが、特に陽極弁金属自体の酸化物か
らなる層であることが望ましい。何れの場合にも酸化物
層を設ける方法としては、従来公知の方法を用いること
ができる。
また、本発明において使用する半導体層の組成及び作製
方法に特に制限はないが、コンデンサの性能を高めるた
めには二酸化鉛もしくは、二酸化鉛と硫酸鉛を主成分と
して、例えば従来公知の化学的析出法、或いは電気化学
的析出法で作製するのが好ましい。
方法に特に制限はないが、コンデンサの性能を高めるた
めには二酸化鉛もしくは、二酸化鉛と硫酸鉛を主成分と
して、例えば従来公知の化学的析出法、或いは電気化学
的析出法で作製するのが好ましい。
化学的析出法としては、例えば、鉛含有化合物と酸化剤
を含んだ溶液から化学的に析出させる方法が挙げられる
。
を含んだ溶液から化学的に析出させる方法が挙げられる
。
鉛含有化合物としては、例えばオキシン、アセチルアセ
トン、ピロメコン酸、サリチル酸、アリザリン、ポリ酢
酸ビニル、ポルフィリン系化合物。
トン、ピロメコン酸、サリチル酸、アリザリン、ポリ酢
酸ビニル、ポルフィリン系化合物。
クラウン化合物、クリブテート化合物等のキレート形成
性化合物に鉛原子が配位結合もしくはイオン結合してい
る鉛含有化合物、クエン酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、
塩化鉛、臭化鉛、過塩素酸鉛。
性化合物に鉛原子が配位結合もしくはイオン結合してい
る鉛含有化合物、クエン酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、
塩化鉛、臭化鉛、過塩素酸鉛。
塩素酸鉛、リードサルファメイト、六弗化ケイ素鉛、臭
木酸鉛、ホウフッ化鉛、酢酸鉛水和物、硝酸鉛等があげ
られる。これらの鉛含有化合物は、反応母液に使用する
溶剤によって適宜選択される。
木酸鉛、ホウフッ化鉛、酢酸鉛水和物、硝酸鉛等があげ
られる。これらの鉛含有化合物は、反応母液に使用する
溶剤によって適宜選択される。
また、これらの鉛含有化合物は、2種以上混合して使用
しても良い。
しても良い。
反応母液中の鉛含有化合物の′a度は、飽和溶解度を与
える濃度から0.05モル/Jの範囲内であり、好まし
くは飽和溶解度を与える濃度から0.1モル/Jの範囲
内であり、より好ましくは飽和溶解度を与える濃度から
0.5モル/Jの範囲内である。反応母液中の鉛含有化
合物の濃度が0.05モル/J未満では、性能の良好な
固体電解コンデンサを得ることができない。また反応母
液中の鉛含有化合物の濃度が飽和溶解度を越える場合は
、増量添加によるメリットが認められない。
える濃度から0.05モル/Jの範囲内であり、好まし
くは飽和溶解度を与える濃度から0.1モル/Jの範囲
内であり、より好ましくは飽和溶解度を与える濃度から
0.5モル/Jの範囲内である。反応母液中の鉛含有化
合物の濃度が0.05モル/J未満では、性能の良好な
固体電解コンデンサを得ることができない。また反応母
液中の鉛含有化合物の濃度が飽和溶解度を越える場合は
、増量添加によるメリットが認められない。
酸化剤としては、例えばキノン、クロラニル。
ピリジン−N−オキサイド、ジメチルスルフォキサイド
、クロム酸、過マンガン酸カリ、セレンオキサイド、酢
酸水銀、酸化バナジウム、塩素酸ナトリウム、塩化第2
鉄、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、次亜m木酸カルシ
ウム、亜塩素酸カルシウム、塩素酸カルシウム、過塩素
酸カルシウム等があげられる。これらの酸化剤は、使用
する溶剤によっC適宜に選択され、2種以上混合して使
用してもよい。
、クロム酸、過マンガン酸カリ、セレンオキサイド、酢
酸水銀、酸化バナジウム、塩素酸ナトリウム、塩化第2
鉄、過酸化水素、過酸化ベンゾイル、次亜m木酸カルシ
ウム、亜塩素酸カルシウム、塩素酸カルシウム、過塩素
酸カルシウム等があげられる。これらの酸化剤は、使用
する溶剤によっC適宜に選択され、2種以上混合して使
用してもよい。
酸化剤の使用割合は、鉛含有化合物の使用モル量の5〜
0.1倍モルの範囲内であることが好ましい。酸化剤の
使用割合が鉛化合物の使用モルMの5倍モルより多い場
合は、コス]へ的にメリットはなく、また0、1倍モル
より少ない場合は、性能の良好な固体電解コンデンサが
得られない。
0.1倍モルの範囲内であることが好ましい。酸化剤の
使用割合が鉛化合物の使用モルMの5倍モルより多い場
合は、コス]へ的にメリットはなく、また0、1倍モル
より少ない場合は、性能の良好な固体電解コンデンサが
得られない。
二酸化鉛を主成分とする半導体層を形成する方法として
は例えば鉛含有化合物を溶がした溶液と酸化剤を溶かし
た溶液を混合して反応母液を調整した後、反応St液に
前述した酸化皮膜を設けた陽極基体を浸漬して化学的に
析出させる方法があげられる。
は例えば鉛含有化合物を溶がした溶液と酸化剤を溶かし
た溶液を混合して反応母液を調整した後、反応St液に
前述した酸化皮膜を設けた陽極基体を浸漬して化学的に
析出させる方法があげられる。
一方、電気化学的析出法としては、例えば本発明者否が
先に提案した高濃度の鉛イオンを含んだ電解液中で電解
酸化により二酸化鉛を析出させる方法等が挙げられる(
特願昭6l−26952)。
先に提案した高濃度の鉛イオンを含んだ電解液中で電解
酸化により二酸化鉛を析出させる方法等が挙げられる(
特願昭6l−26952)。
また、半導体層を本来半導体の役割を果たす二酸化鉛と
絶縁物質である硫酸鉛を主成分とする五イで構成すると
硫酸鉛の配合により、コンデンサの漏れ電流値を低減せ
しめることができる。一方、硫酸鉛の配合により半導体
層の電気伝導度が低くなるため損失係数値が大きくなる
が、従来の固体電解コンデンサと比較しても高水準の性
能を維持発現することが本発明名等により見出されてい
る。
絶縁物質である硫酸鉛を主成分とする五イで構成すると
硫酸鉛の配合により、コンデンサの漏れ電流値を低減せ
しめることができる。一方、硫酸鉛の配合により半導体
層の電気伝導度が低くなるため損失係数値が大きくなる
が、従来の固体電解コンデンサと比較しても高水準の性
能を維持発現することが本発明名等により見出されてい
る。
従って、半導体層を二酸化鉛と硫酸鉛の混合物で構成す
る場合、二酸化鉛を10重聞部以上100重量部未満に
対して硫酸鉛を90重缶部以下という広範囲の組成で良
好なコンデンサ性能を維持発現することができるが、好
ましくは、二酸化鉛20〜50徂m部に対して硫酸鉛8
0〜50重■部、より好ましくは二酸化鉛25〜35市
債部に対して硫酸鉛75〜65重凝部の範囲で漏れ電流
値と損失係数値のバランスがとりわけ良好である。
る場合、二酸化鉛を10重聞部以上100重量部未満に
対して硫酸鉛を90重缶部以下という広範囲の組成で良
好なコンデンサ性能を維持発現することができるが、好
ましくは、二酸化鉛20〜50徂m部に対して硫酸鉛8
0〜50重■部、より好ましくは二酸化鉛25〜35市
債部に対して硫酸鉛75〜65重凝部の範囲で漏れ電流
値と損失係数値のバランスがとりわけ良好である。
二酸化鉛が101ff1部未満であると導電性が悪くな
るため損失係数が大きくなり、また容Mが充分出現しな
い。
るため損失係数が大きくなり、また容Mが充分出現しな
い。
二酸化鉛と硫酸鉛を主成分とする半導体層は、例えば、
鉛イオン及び過硫酸イオンを含んだ水溶液を反応母液と
して化学的析出によって形成することができる。又、過
硫酸イオンを含まない適当な酸化剤を加えてもよい。
鉛イオン及び過硫酸イオンを含んだ水溶液を反応母液と
して化学的析出によって形成することができる。又、過
硫酸イオンを含まない適当な酸化剤を加えてもよい。
母液中の鉛イオン濃度は、飽和溶解度を与える濃度から
0.05モル/J、好ましくは飽和溶解度を与える濃度
から0.1モル/ノ、より好ましくは、飽和溶解度を与
える濃度から0.5モル/Jの範囲内である。鉛イオン
の濃度が飽和溶解度より高い場合には、増聞添加による
メリットがない。また鉛イオンの濃度が0.05モル/
Jより低い場合には、母液中の鉛イオン瀧■が薄すぎる
ため塗布回数や浸漬回数を多くしなければならないとい
う難点がある。
0.05モル/J、好ましくは飽和溶解度を与える濃度
から0.1モル/ノ、より好ましくは、飽和溶解度を与
える濃度から0.5モル/Jの範囲内である。鉛イオン
の濃度が飽和溶解度より高い場合には、増聞添加による
メリットがない。また鉛イオンの濃度が0.05モル/
Jより低い場合には、母液中の鉛イオン瀧■が薄すぎる
ため塗布回数や浸漬回数を多くしなければならないとい
う難点がある。
一方、母液中の過硫酸イオン濃度は、鉛イオンに対して
モル比で5から0.05の範囲内である。
モル比で5から0.05の範囲内である。
過硫酸イオンの濃度が鉛イオンに対してモル比で5より
多いと、未反応の過硫酸イオンが残るためコスト高とな
り、また過硫酸イオンの濃度が鉛イオンに対してモル比
で0.05より少ないと、未反応の鉛イオンが残り電導
性が悪くなるので好ましくない。
多いと、未反応の過硫酸イオンが残るためコスト高とな
り、また過硫酸イオンの濃度が鉛イオンに対してモル比
で0.05より少ないと、未反応の鉛イオンが残り電導
性が悪くなるので好ましくない。
鉛イオン種を与える化合物としては、例えばクエン酸鉛
、過塩素l!鉛、硫酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、塩素
酸鉛、リードザルファイト、六弗化ケイ素鉛、Q木酸鉛
、塩化鉛、臭化鉛等があげられる。これらの鉛イオン種
を与える化合物は、2種以上混合して使用しても良い。
、過塩素l!鉛、硫酸鉛、酢酸鉛、塩基性酢酸鉛、塩素
酸鉛、リードザルファイト、六弗化ケイ素鉛、Q木酸鉛
、塩化鉛、臭化鉛等があげられる。これらの鉛イオン種
を与える化合物は、2種以上混合して使用しても良い。
一方、過硫酸イオン種を与える化合物としては、例えば
過硫酸力り、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等
が挙げられる。これらの過硫酸イオン種を与える化合物
は、2種以上混合して使用しても良い。
過硫酸力り、過硫酸ナトリウム、過硫酸アンモニウム等
が挙げられる。これらの過硫酸イオン種を与える化合物
は、2種以上混合して使用しても良い。
また、酸化剤としては、過酸化水素1次亜塩素酸カルシ
ウム、亜塩素酸カルシウム、塩素酸カルシウム、過塩素
酸カルシウム等が挙げられる。
ウム、亜塩素酸カルシウム、塩素酸カルシウム、過塩素
酸カルシウム等が挙げられる。
半導体層中に含有される結晶水含有化合物としては、例
えば、シュ酸2水和物、ジアセヂレンカルボンM2水和
物、酒石酸カリウム塩4水和物。
えば、シュ酸2水和物、ジアセヂレンカルボンM2水和
物、酒石酸カリウム塩4水和物。
酒石酸ナトリウム4水和物、酒石酸4水和物、酒石酸1
水和物、システィン酸1水和物、フェノール1/2水和
物、サリチル酸水素アンモニウム1水和物、バラアミノ
ベンゼンスルフォンアミド1水和物、メルカプトプリン
1水和物、チミン1水和物、1・5−ナフチリジン2水
和物、アニリンスルフォン酸1水和物、安息香酸カルシ
ウム1水和物、安息香前胴2水和物、安息香酸ナトリウ
ム2水和物、安血香酸3水和物、ナフタレンスルフォン
酸銅6水和物、ケイ皮酸バリウム2水和物。
水和物、システィン酸1水和物、フェノール1/2水和
物、サリチル酸水素アンモニウム1水和物、バラアミノ
ベンゼンスルフォンアミド1水和物、メルカプトプリン
1水和物、チミン1水和物、1・5−ナフチリジン2水
和物、アニリンスルフォン酸1水和物、安息香酸カルシ
ウム1水和物、安息香前胴2水和物、安息香酸ナトリウ
ム2水和物、安血香酸3水和物、ナフタレンスルフォン
酸銅6水和物、ケイ皮酸バリウム2水和物。
酢酸鉛3水和物、硫酸ナトリウム10水和物、硫酸亜鉛
7水和物、塩化ナトリウム2水和物、塩化スズ2水和物
、炭酸ナトリウム1水和物、硫酸銅5水和物、硫酸ニッ
ケル6水和物、塩化コバルト6水和物、硫酸コバルト7
水和物、硫酸クロム7水和物、塩化クロム4水和物、硫
酸セシウムマンガン12水和物、硝酸銅3水和物、塩化
鉄6水和物、硝酸鉄9水和物、硫酸カリクロム12水和
物。
7水和物、塩化ナトリウム2水和物、塩化スズ2水和物
、炭酸ナトリウム1水和物、硫酸銅5水和物、硫酸ニッ
ケル6水和物、塩化コバルト6水和物、硫酸コバルト7
水和物、硫酸クロム7水和物、塩化クロム4水和物、硫
酸セシウムマンガン12水和物、硝酸銅3水和物、塩化
鉄6水和物、硝酸鉄9水和物、硫酸カリクロム12水和
物。
リン酸マンガン1水和物、硝酸マンガン5水和物。
硫酸アンモニウムコバルト6水和物、セレン酸クロムア
ンモニウム12水和物、硫酸ニッケルアンモニウム6水
和物、ヨウ酸ニッケル2水和物。
ンモニウム12水和物、硫酸ニッケルアンモニウム6水
和物、ヨウ酸ニッケル2水和物。
K3(Cr(Cz○4)3)・3水和物。
K4 (−(CN)6 )・3水和物。
K4 〔賜(NC8)s )・3水和物。
(N、(ビピリジル)3)(Jz ・6水和物。
(Pt (NH3)4 )(Jz ・1水和物。
(Nt−14>2 VO(NC8)a ・5水和物。
K4 t’b (CN)s ・2水和物、Na2Fe(
CN)s (No) ・2水和物、Na2 S30s
・3水和物、NaHPHO3@ 5/2水和物。
CN)s (No) ・2水和物、Na2 S30s
・3水和物、NaHPHO3@ 5/2水和物。
−出○4 ・715水和物、Nd (SeO4)s ・
6水和物、シクロデキストリンのような包接化合物に包
接された包接化合水和物等が挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定されるものではない。これらの結晶水含有化
合物は2種以上使用してもよい。
6水和物、シクロデキストリンのような包接化合物に包
接された包接化合水和物等が挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定されるものではない。これらの結晶水含有化
合物は2種以上使用してもよい。
また、これらの結晶水含有化合物の半導体層中に占める
割合は、予め作製した固体電解コンテン1ノの漏れ電流
値を考慮しながら決定されるが、本発明においては、半
導体の10モル%以下、好ましくは半導体の6モル%以
下で使用される。10モル%を越えると半導体層の電導
度を下げるために望ましくない。
割合は、予め作製した固体電解コンテン1ノの漏れ電流
値を考慮しながら決定されるが、本発明においては、半
導体の10モル%以下、好ましくは半導体の6モル%以
下で使用される。10モル%を越えると半導体層の電導
度を下げるために望ましくない。
結晶水含有化合物を半導体中に含有させる方法は、たと
えば、適当な溶剤に溶かし、半導体層上に塗布した後乾
燥する方法、或いは半導体層を形成するざいに、結晶水
含有化合物を半導体層と共に形成する方法等が挙げられ
る。
えば、適当な溶剤に溶かし、半導体層上に塗布した後乾
燥する方法、或いは半導体層を形成するざいに、結晶水
含有化合物を半導体層と共に形成する方法等が挙げられ
る。
本発明において設層される導電体層としては、例えば、
導電ペーストの固化、メツキ、金属蒸着。
導電ペーストの固化、メツキ、金属蒸着。
耐熱性の導電樹脂フィルムの形成等により設層すること
ができる。
ができる。
上記導電ペーストとしては、銀ペースト、銅ベースト、
アルミペースト、カーボンペースト、ニッケルペースト
、!!コート銅粉よりなるペースト。
アルミペースト、カーボンペースト、ニッケルペースト
、!!コート銅粉よりなるペースト。
銀コートニッケル粉よりなるペースト等が好ましいが、
これらは1種を用いても、2種以上を用いてもよい。2
種以上を用いる場合、混合して設層してもよく、または
別々の層として重ねてもよい。
これらは1種を用いても、2種以上を用いてもよい。2
種以上を用いる場合、混合して設層してもよく、または
別々の層として重ねてもよい。
導電ペーストを適用した後、空気中に放置するか、また
は加熱して固化せしめる。
は加熱して固化せしめる。
メツキとしては、ニッケルメッキ、銅メツキ。
銀メツキ、アルミニウムメツキ等が挙げられる。
また蒸着金属としては、アルミニウム、ニッケル。
銅、銀等があげられる。
このように構成される本発明の固体?llE Nコンデ
ンサは、例えば樹脂モールド、樹脂ケース、金属製の外
装ケース、樹脂のディッピング、ラミネートフィルムに
よる外装により各種用途の汎用コンデンサ製品とするこ
とができる。
ンサは、例えば樹脂モールド、樹脂ケース、金属製の外
装ケース、樹脂のディッピング、ラミネートフィルムに
よる外装により各種用途の汎用コンデンサ製品とするこ
とができる。
以下、実滴例、比較例を示して本発明を説明する。なお
、実施例、比較例の固体電解コンデンサの特性は一括し
て第1表に示した。
、実施例、比較例の固体電解コンデンサの特性は一括し
て第1表に示した。
実施例1
長さ2 cm 、幅1αのアルミニウム箔を陽極とし、
交流により箔の表面を電気化学的にエツチング処理し、
このエツヂングアルミニウム箔に陽極端子をかしめ付し
プし、陽極リード線を接続した。これを、ホウ酸とホウ
酸アンモニウムの水溶液中で電気化学的に処理してアル
ミナの酸化皮膜を形成し、低圧用エツチングアルミニウ
ム化成箔(約1.0μF / ci )を得た。次いで
、陽極端子部分以外の化成箔を酢酸鉛三水和物1.0モ
ル/ノ水溶液に浸漬し、酢酸鉛三水和物に対して0.5
倍モルの過酸化水素の希釈水溶液を加え18!¥間放置
して誘電体皮g!層上に二酸化鉛層からなる半導体層を
形成し、さらに安息香g銅2水和物を溶解した酢酸溶液
に化成箔を浸漬した後、化成箔を引き上げ減圧乾燥した
。この半導体層中に安息占前胴2水和物がおおよそ1.
7モル%含まれることを赤外吸光分析、質帛分析1元素
分析等より確認した。ひきつづいて、銀ペーストを導電
体層として、ハンダにて陰極端子を取付け、樹脂封口し
て固体電解コンデンサを作製した。
交流により箔の表面を電気化学的にエツチング処理し、
このエツヂングアルミニウム箔に陽極端子をかしめ付し
プし、陽極リード線を接続した。これを、ホウ酸とホウ
酸アンモニウムの水溶液中で電気化学的に処理してアル
ミナの酸化皮膜を形成し、低圧用エツチングアルミニウ
ム化成箔(約1.0μF / ci )を得た。次いで
、陽極端子部分以外の化成箔を酢酸鉛三水和物1.0モ
ル/ノ水溶液に浸漬し、酢酸鉛三水和物に対して0.5
倍モルの過酸化水素の希釈水溶液を加え18!¥間放置
して誘電体皮g!層上に二酸化鉛層からなる半導体層を
形成し、さらに安息香g銅2水和物を溶解した酢酸溶液
に化成箔を浸漬した後、化成箔を引き上げ減圧乾燥した
。この半導体層中に安息占前胴2水和物がおおよそ1.
7モル%含まれることを赤外吸光分析、質帛分析1元素
分析等より確認した。ひきつづいて、銀ペーストを導電
体層として、ハンダにて陰極端子を取付け、樹脂封口し
て固体電解コンデンサを作製した。
実施例2
実施例1と同様な化成箔について陽極端子部分以外を、
酢酸鉛三水和物2.4モル/ノの水溶液と過硫酸アンモ
ニウム4モル/Jの水溶液の混合液(反応母液)に浸漬
し、80 ’C−(” 40分反応させた。誘電体酸化
皮膜層上に生じた二酸化鉛と硫酸鉛からなる半導体層を
水で充分洗浄した後120℃で減圧乾燥した。生成した
半導体層は二酸化鉛と硫酸鉛から成り、二酸化鉛が約2
5重量%含まれることを質量分析、X線分析、赤外分光
分析より確認した。さらに、酢酸鉛3水和物のエチルア
ルコール溶液に化成箔を浸漬した後、化成箔を引ぎ上げ
減圧乾燥した。半導体層には酢酸鉛3水和物が約4モル
%含まれていた。ひきつづき実施例1と同様にして固体
電解コンデンサを作製した。
酢酸鉛三水和物2.4モル/ノの水溶液と過硫酸アンモ
ニウム4モル/Jの水溶液の混合液(反応母液)に浸漬
し、80 ’C−(” 40分反応させた。誘電体酸化
皮膜層上に生じた二酸化鉛と硫酸鉛からなる半導体層を
水で充分洗浄した後120℃で減圧乾燥した。生成した
半導体層は二酸化鉛と硫酸鉛から成り、二酸化鉛が約2
5重量%含まれることを質量分析、X線分析、赤外分光
分析より確認した。さらに、酢酸鉛3水和物のエチルア
ルコール溶液に化成箔を浸漬した後、化成箔を引ぎ上げ
減圧乾燥した。半導体層には酢酸鉛3水和物が約4モル
%含まれていた。ひきつづき実施例1と同様にして固体
電解コンデンサを作製した。
実施例3
実施例2で半導体形成の際の反応母液に、さらに過酸化
水素水を0.05モル/j加えた以外は、実施例1と同
様にして半導体層を作製した。このときの半導体層は、
二酸化鉛と硫酸鉛からなる組成物であって、二酸化鉛が
約50重a1%含まれることを確認した。ざらに炭酸ナ
トリウム1水和物の水溶液に化成箔を浸漬した後、化成
箔を引き上げ減Ji乾燥した。半導体層には炭酸ナトリ
ウム1水和物がおおよそ0.8モル%含まれていた。ひ
きつづき実施例1と同様にして固体電解コンデンサを作
製した。
水素水を0.05モル/j加えた以外は、実施例1と同
様にして半導体層を作製した。このときの半導体層は、
二酸化鉛と硫酸鉛からなる組成物であって、二酸化鉛が
約50重a1%含まれることを確認した。ざらに炭酸ナ
トリウム1水和物の水溶液に化成箔を浸漬した後、化成
箔を引き上げ減Ji乾燥した。半導体層には炭酸ナトリ
ウム1水和物がおおよそ0.8モル%含まれていた。ひ
きつづき実施例1と同様にして固体電解コンデンサを作
製した。
実施例4
タンタル粉末の焼結体をリン酸水溶液中で陽極酸化して
誘電体酸化皮膜を形成した。次いで実施例2と同様な操
作で半導体層を形成し、さらに実施例2と同様な方法で
半導体層中に酢酸鉛三水和物的0.2モル%を含有させ
固体電解コンデンサを作製した。
誘電体酸化皮膜を形成した。次いで実施例2と同様な操
作で半導体層を形成し、さらに実施例2と同様な方法で
半導体層中に酢酸鉛三水和物的0.2モル%を含有させ
固体電解コンデンサを作製した。
比較例1
実施例1で半導体層中に結晶水含有化合物(安患香前胴
2水和物)を含有させなかった以外は実施例1と同様に
して固体電解コンデンサを作製した。
2水和物)を含有させなかった以外は実施例1と同様に
して固体電解コンデンサを作製した。
比較例2
実施例3で半導体層作製時に炭酸ナトリウム1水和物を
1モル/J加えた以外は実施例3と同様にして固体電解
コンデンサを作製した。尚、このときの半導体層中に含
まれる炭酸ナトリウム1水和物の含有量は12モル%で
あった。
1モル/J加えた以外は実施例3と同様にして固体電解
コンデンサを作製した。尚、このときの半導体層中に含
まれる炭酸ナトリウム1水和物の含有量は12モル%で
あった。
(qられたコンデンサの特性値を第1表に示す。
第 1 表
但し、−δは12011zでの測定値
漏れ電流は25Vでの値
である。
なお、第1表の漏れ電流測定時、測定電圧を上昇中に火
花数′眉を生ずるものらあったが、最終的に電圧印加が
15分後の漏れ電流値は第1表に示すとおりであり、本
発明のコンデンサのll1ii電流特性が良好であるこ
とがわかる。
花数′眉を生ずるものらあったが、最終的に電圧印加が
15分後の漏れ電流値は第1表に示すとおりであり、本
発明のコンデンサのll1ii電流特性が良好であるこ
とがわかる。
以上述べたように本発明の固体電解コンデンサは、漏れ
電流特性及びその修復特性が良好である。
電流特性及びその修復特性が良好である。
Claims (4)
- (1)、弁作用金属からなる陽極基体に順次、誘電体酸
化皮膜、半導体層、導電体層を形成して成る固体電解コ
ンデンサにおいて、前記半導体層中に結晶水含有化合物
を含有することを特徴とする固体電解コンデンサ。 - (2)、半導体層中の結晶水含有化合物の割合が10モ
ル%以下である特許請求の範囲第1項記載の固体電解コ
ンデンサ。 - (3)、半導体層が二酸化鉛を主成分とする層である特
許請求の範囲第1項または第2項記載の固体電解コンデ
ンサ。 - (4)、半導体層が二酸化鉛と硫酸鉛を主成分とする層
である特許請求の範囲第1項または第2項記載の固体電
解コンデンサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17651386A JPS6332912A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 固体電解コンデンサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17651386A JPS6332912A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 固体電解コンデンサ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6332912A true JPS6332912A (ja) | 1988-02-12 |
Family
ID=16014935
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17651386A Pending JPS6332912A (ja) | 1986-07-26 | 1986-07-26 | 固体電解コンデンサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6332912A (ja) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5457160A (en) * | 1977-10-17 | 1979-05-08 | Hitachi Condenser | Preparation of solid electrolytic condenser |
-
1986
- 1986-07-26 JP JP17651386A patent/JPS6332912A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5457160A (en) * | 1977-10-17 | 1979-05-08 | Hitachi Condenser | Preparation of solid electrolytic condenser |
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