JPS6332902A - 接合型電圧依存性抵抗器 - Google Patents

接合型電圧依存性抵抗器

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Publication number
JPS6332902A
JPS6332902A JP61175083A JP17508386A JPS6332902A JP S6332902 A JPS6332902 A JP S6332902A JP 61175083 A JP61175083 A JP 61175083A JP 17508386 A JP17508386 A JP 17508386A JP S6332902 A JPS6332902 A JP S6332902A
Authority
JP
Japan
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voltage
dependent resistor
layer
type voltage
film
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Pending
Application number
JP61175083A
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English (en)
Inventor
久雄 師岡
淀川 正忠
睦子 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、サージ吸収用など、一般に広く知られてい
る電圧依存性抵抗器(バリスタ)として利用されるもの
であり、特に、薄膜または厚膜を多層に接合した接合型
電圧依存性抵抗器に関するものである。
〔従来技術〕
従来、ZnOなどの半導体薄膜または厚膜上に、Bi2
O3などの薄膜または厚膜を形成することにより電圧依
存性抵抗器(バリスタ)を作成することは、知られてい
る。その1例として、例えば、「電子通信学会技部」、
昭和61年2月22日発行、CPM85−126、(P
、81〜86)、大木 明、鈴置保雄、水谷照吉、家田
正之著「Zno  BizO:+薄膜バリスタの電気特
性」に記載されている。
このような従来の電圧依存性抵抗器(バリスタ)の断面
は、第5図に示すような構造となっている。
第5図において、5はガラスまたはセラミックの基板、
4は、Au電極、1は、ZnO層、2は、Bi2O3層
であり、これは、あらかじめ、Au電極を真空蒸着した
基板上に、ZnOをターゲットとしてスパッタ膜を形成
した後、BizOzをターゲットとしてスパッタを行い
2層膜を作製し、この上に、再びAu電極を蒸着したも
のである。
第6図は、第5図に示した電圧依存性素子に順方向の電
圧を印加した場合を示したものである。
ここで電圧依存性素子に正電圧を印加するときを順方向
、負電圧を印加するときを逆方向という。
順方向に電圧を印加した場合には、BizOa層2に正
電圧が印加され、Zn0層1に負電圧が印加された状態
となる。
また、この逆、すなわち、Bi、03層2に負電圧を印
加し、Zn0層1に正電圧を印加した場合は逆方向とな
る。
第7図、第8図は、第5図に示した従来の電圧依存性抵
抗器の電圧−電流特性を示したものであり、第7図は、
順方向特性を示し、第8図は、逆方向特性を示したもの
である。
このように、電圧依存性抵抗器は、電圧非直線性を有す
るものであり、上記第5図に示したZnO層及びBi2
O3層等が薄膜で形成された場合だけでなく、厚膜で形
成された場合にも、上記第7図、第8図のような特性と
なるものである。
この電圧非直線性は、Zn0Nのような半導体薄膜また
は厚膜と、Bi2O,のような薄膜または厚膜の接合部
界面に形成される電位障壁によって発現するが、電圧を
印加する方向(順方向または逆方向)により、電流に対
する電圧の立上り方の急峻度を表す非直線性の大きさが
異なると共に、課電劣化特性も異なる。
このため、ZnO層のような半導体薄膜または厚膜に正
電圧を印加(逆方向)した方が、負電圧を印加(順方向
)した時よりも非直線性が太き(、課電劣化特性も向上
することが明らかになっている。すなわち、第7図に示
した順方向特性よりも、第8図に示した逆方向特性の方
が良好な特性であることがわかる。
第9図は、従来知られていた多層膜から成る接合型電圧
依存性抵抗器の1例を示すものであり、両側のAu電極
膜4の間に、Zn0層1と13i2o3JW2とを交互
に接合して、多層膜構造の接合型電圧依存性抵抗器を構
成している。
これは、Zn0層1とB i zCh N2とを一組の
単位素子A、B、C−−−−−・・として表せば、単位
素子A、B、C・−一−−−−が多層に接合された構造
となっている。
(発明が解決しようとする問題点〕 第9図に示したような従来の接合型電圧依存性抵抗器に
、図示極性の電圧を印加した場合、それぞれ、単位素子
A、BSCについては逆方向特性となって、前記したよ
うに良好な特性が得られるものである。
しかし、単位素子AのBi201層2と単位素子BOZ
nO層1、単位素子BのBi2O3層2と単位素子C0
ZnO層1のように、異なった単位素子間の接合部にお
いてもまた別の単位素子を形成しており、この別の単位
素子については、順方向電圧が印加されていることにな
る。
したがって、この別の単位素子については、前記逆方向
特性と比較して、悪い特性となる。
また、第9図の図示極性と逆掘性の電圧とを印加した場
合でも前記同様な状態となることは明らかである。
したがって、第9図に示したような従来の積層構造では
、どのような極性の電圧を印加しても、逆方向電圧が印
加される単位素子と、順方向電圧が印加される単位素子
とができる。
このため、全体としての電圧−電流特性は、良好な特性
である逆方向特性と悪い特性である順方向特性との混合
した特性となり、逆方向特性だけの場合に(らべて悪く
なると共に、課電劣化特性が低下する等の欠点があまた
この発明は、上記のような従来の欠点を解決するために
なされたものであり、接合型電圧依存性抵抗器を構成す
る上記のような単位素子全部に対して、常に逆方向電圧
が印加するようにして電圧非直線性を改善すると共に、
課電特性をも改善することを目的とする。
C問題点を解決するための手段〕 この発明は、前記の目的を達成するために、ZnOなど
の半導体層と、該半導体層と電位障壁を形成するBi2
O3などの層とを接合して電圧依存性抵抗器の単位素子
となし、この単位素子を、該単位素子を構成する上記膜
にたいして中間層を介して多層となるように接合して積
層体を形成し、この積層体の両側に電極を設けたことを
特徴とするものである。
この中間層の存在によりこの積層体に逆方向電圧を印加
したとき特性良好な逆方向特性のみで使用することが可
能となる。つまりバリスタ素子を積層化したときの外部
印加電圧の極性を揃えることができるのみならず、面内
での電界の不均一性をなくし電界集中を防止することが
可能となる。
なお、この中間層は理想的なバリスタ素子を得るために
はオーミック電極がよいが、面内の電界集中を防ぐため
には導電性の電極でよい。
〔実施例〕
第1図は、この発明の1実施例である接合型電圧依存性
抵抗器の断面図を示し、4は、Au電極であり、外部リ
ードを接続するものであり、オーミック接続を行−)。
■は、ZnOなどの半導体薄膜または厚膜であって、従
来のものと同様に形成される。
2は、Bi20ffやプラセオジム(Pr)の酸化物な
ど前記ZnOのような膜1と電位障壁を形成する薄膜ま
たは厚膜である。そして、従来のものと同様に、前記膜
1と膜2とで単位素子A、 B−・・を形成し、このよ
うな単位素子を多層に接合する。
しかし、この発明では、前記単位素子を多層に接合する
場合、全ての単位素子A、B−・−・−・間にAUやI
 nQaのような前記膜1.2に対してオーミンク接触
を形成する薄膜または厚膜の中間層3を形成するように
したものである。なおJ実施例としては中間層としてA
uを使用した。
なお、上記薄膜の形成法としては、スパッタリング法な
どがあり、また、厚膜の形成法としては、印刷法やドク
ターブレード法など公知の技術が適用できるものである
第3図、第4図は、この発明の接合型電圧依存性抵抗器
の具体例を示すものであり、第3図は、薄膜によるもの
を示し、第4図は、厚膜によるものを示す。
第3図において、5は、ガラスまたはセラミックなどの
基板であり、その上には、Au電極4が形成され、この
Au電極4上には、ZnO層のような半導体薄膜とBi
2O3のような薄膜とからなる単位素子を核層とオーミ
ンク接触を形成する、Auの中間層を介して多層に接合
した積層体6が形成されると共に、最上層には、Au電
極4が形成されている。ここでAu電極4.4はオーミ
ック電極として使用するものである。
また、第4図において、7は、第3図の積層体6と同じ
構成のものを厚膜によって形成した積層体であり、この
積層体7の両端部には、縁面放電が発生するのを防止す
るため絶縁体でカバーリング8を形成しており、さらに
、このカバーリングの外側には、電極9が積層体7上ま
で延びるように形成されており、チップ形素子として用
いられるものである。
なお、ZnOの役割は粒内が低抵抗でかつ粒界層近傍に
おいて、添加物との間でバリスタ特性を発現する電化障
壁を形成するとこであり、ZnO以外にT i O2,
5nOz 、F e2O3、、S rTiQ3等を使用
してもよい。そして粒界生成物としてBi2O,Iを使
用した例について説明したが、これ以外にもpbo、ア
ルカリ土類酸化物、希土類酸化物その他のガラス層が考
えられる。
また中間層としてAu電極のようなオーミック電極を使
用した例について説明したが、中間層としては他の電極
を使用してもよい。
〔発明の効果〕
この発明は、電極4間に図示極性の電圧を印加すれば、
全ての単位素子A、B、・−・−に印加する電圧の極性
を揃えることができ、また面内の電圧のバラツキを軽減
し、電界集中をさけることができる。
これは、単位素子Aの膜2と、単位素子Bの膜1とが、
該膜1及び2に対してAuの如き中間層。
3を介して接合されているために、互いに分離されたも
のとなって、全ての単位素子A、、B、−・・−・が独
立した素子として機能する構造となっているためである
したがって、この発明の接合型電圧依存性抵抗器は、す
べての単位素子に特性の良好な逆方向電圧を印加するこ
とが可能となり、電圧−電流特性、すなわち、電圧非直
線性が改善できると共に、課電劣化特性をも改善できる
効果がある。
しかも中間層としてオーミック電極を使用すれば理想的
なものを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第4図はこの発明の実施例を示す図であり、第
1図は接合型電圧依存性抵抗器の断面図、第2図は電圧
を印加した図、第3図は薄膜で形成した具体例の断面図
、第4図は厚膜で形成した具体例の断面図である。 また、第5図〜第9図は従来例を示す図であり、第5図
は従来の電圧依存性抵抗器の1例を断面図として示した
ものであり、第6図は電圧を印加した図、第7図、第8
図は特性曲線を示す図、第9図は積層構造にした電圧依
存性抵抗器の断面図である。 1−・−・・・−ZnO層などの半導体薄膜または厚膜
2−・・・−BizO1+層などの薄膜または厚膜3 
・−一−−−−・中間層     4−−−−−−− 
A u電極5−・−・・基板 特許出願人  ティーデイ−ケイ株式会社代理人弁理士
    山 谷 晧 榮 第1図 第2図 第9図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ZnOなどの半導体層と、該半導体層と電位障壁
    を形成するBi_2O_3などの層とを接合して電圧依
    存性抵抗器の単位素子となし、この単位素子を、導電性
    の中間層を介して多層となるように接合して積層体を形
    成し、この積層体の両側に電極を設けたことを特徴とす
    る接合型電圧依存性抵抗器。
  2. (2)前記導電性の中間層としてオーミック接触をなす
    ものを使用したことを特徴とする特許請求の範囲第1項
    記載の接合型電圧依存性抵抗器。
  3. (3)前記電極としてオーミック電極を使用したことを
    特徴とする特許請求の範囲第1項記載の接合型電圧依存
    性抵抗器。
JP61175083A 1986-07-25 1986-07-25 接合型電圧依存性抵抗器 Pending JPS6332902A (ja)

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JP61175083A JPS6332902A (ja) 1986-07-25 1986-07-25 接合型電圧依存性抵抗器

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5090452A (en) * 1989-03-21 1992-02-25 Ergotron S.A.S. Di Dondi Benelli Dore & C. Prevention of weft streaks after loom start up

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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