JPS63318216A - ワイヤ放電加工装置 - Google Patents

ワイヤ放電加工装置

Info

Publication number
JPS63318216A
JPS63318216A JP15325487A JP15325487A JPS63318216A JP S63318216 A JPS63318216 A JP S63318216A JP 15325487 A JP15325487 A JP 15325487A JP 15325487 A JP15325487 A JP 15325487A JP S63318216 A JPS63318216 A JP S63318216A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
machining
liquid
cooling
fluid
wire electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15325487A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshio Suzuki
俊雄 鈴木
Takeshi Iwasaki
岩崎 健史
Takuji Magara
卓司 真柄
Masahiro Yamamoto
政博 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP15325487A priority Critical patent/JPS63318216A/ja
Publication of JPS63318216A publication Critical patent/JPS63318216A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、ワイヤ放電加工装置の、特にワイヤ電極に
通電する通電子の冷却方法の改良に関するものである。
[従来の技術] 従来用いられているワイヤ放電加工装置を図に基づいて
説明する。
第3図は従来のワイヤ放電加工装置の上部加工液ノズル
周辺の、ワイヤ電極進行方向終了側から見た説明図であ
る。
第3図において、(1)はワイヤ電極、(2)は被加工
物、(3)は加工液、(4)は上部ワイヤ電極ガイド、
(5)は上部ダイヤモンドダイス、(6)は下部ワイヤ
電極ガイド、(7)は下部ダイヤモンドダイス、(8)
は上部加工液ノズル、(9)は下部加工液ノズル、(1
0)は通電子、(11)はワイヤ電極(1)を通電子(
10)に接触させるよう偏心させる偏心ダイス、(12
)は偏心を元に戻す中心ダイス、(13)は冷却液流入
穴、(14)は冷却液排出穴、(15)は上部加工液ノ
ズル(8)の支持部材、(16)はバッキングである。
次にこれら従来のワイヤ放電加工装置の動作について説
明する。
ワイヤ放電加工装置は第3図に示すように、ワイヤ電極
(1)と被加工物(2)を加工液(3)を介して微少間
隙で対向させ、図示しない電源装置からワイヤ電極(1
)と被加工物(2)の間に印加した高周波パルス状の電
圧で放電を発生させ、そのエネルギーで被加工物(2)
を加工するものである。
ワイヤ電極(1)は使い捨てで、図示しない供給リール
から回収部まである張力を与えられ進行する。
この間に被加工物(2)を貫通し、貫通部分(極間)で
加工が行われるが、被加工物(2)の上下付近で上部ワ
イヤ電極ガイド(4)の上部ダイヤモンドダイス(5)
と下部ワイヤ電極ガイド(6)の下部ダイヤモンドダイ
ス(7)がワイヤ電極(1)を支持し、冷却と加工スラ
ッジ排出のため加工液(3)が、加工部分に上部加工液
ノズル(8)及び下部加工液ノズル(9)からワイヤ電
極(1)とほぼ同軸方向に噴出される。
ワイヤ電極(1)への通電は、上部側の場合、上部ワイ
ヤ電極ガイド(4)を経由して通電子(10)に電圧を
かけ、偏心ダイス(11)と中心ダイス(12)でワイ
ヤ電極(1)をしごき通電子(10)に接触させて行う
。このとき通電子(10)を冷却するため、上部ワイヤ
電極ガイド(4)に冷却液流入穴(13)、冷却液排出
穴(14)を設け、加工液(3)を冷却液流入穴(13
)から入れて通電子(10)を通過させ、冷却液排出穴
(14)から排出している。これには上部加工液ノズル
(8)内の加工液(3)の圧力を利用する。下部側も前
記と同様に行なやれる。
尚(15)は上部加工液ノズル(8)の支持部材、(1
6)はバッキングである。
[発明が解決しようとする問題点] 従来のワイヤ放電加工装置は、叙上の如く構成されてい
るので、通電子(10)の冷却には上部加工液ノズル(
8)及び下部加工液ノズル(9)内の圧力が高いことが
必要である。
下部側は被加工物(2)の下面と下部加工液ノズル(9
)の位置関係は変わらないので、同じポンプ圧で加工液
(3)を供給すれば通電子(10)は常に同様の冷却が
なされ、加工液(3)の流量を減らしても加工液(3)
の自重により成る程度冷却される。
しかし、上部側は被加工物(2)の高さに応じて上部ワ
イヤ電極ガイド(4)及び上部加工液ノズル(8)を上
下させるので、被加工物(2)の上面と上部加工液ノ°
ズル(8)との距離は注意を払わないと常に一定になる
とは限らず、又段差のある被加工物(2)の場合には距
離が相当大きくなってしまうこともある。
距離が小さくなった場合には上部加工液ノズル(8)内
の圧力が高くなり、通電子(10)を冷却する加工液(
3)の流速が上がり乱流となって異常なワイヤ振動を引
き起こし、距離が大きくなった場合や加工液(3)の流
量を減らした場合には、上部加工液ノズル(8)内の圧
力が低くなって通電子(10)を冷却する加工液(3)
の循環が悪くなり、いずれの場合も通電子(10)が異
常消耗するという問題点があった。
本発明は上記のような問題点を解消するためになされた
もので、上部加工液ノズル(8)と被加工物(2)間の
距離が変化したり、加工液(3)流量を少なくしても常
に通電子(10)が一定の冷却がなされ、異常消耗しな
いワイヤ放電加工装置を得ることを目的とする。
[問題点を解消するための手段] 本発明に係るワイヤ放電加工装置は、通電子を加工用の
加工液の状態とは独立に常に一定に冷却出来るように構
成したものである。
即ち、ワイヤ電極と被加工物を、加工液を介して、微少
間隙で対向させ、該ワイヤ電極と該被加工物間に電圧を
印加して発生した放電のエネルギーで加工を行うワイヤ
放電加工装置において、加工時に1極間に加工液を供給
する液系と、通電子に冷却液を供給する液系と、2つの
液系を独立に調整制御する手段と該通電子と該加工液と
を隔離する部材を設け、該通電子に前記加工液とは無関
係に冷却液を供給する手段を設けていることを特徴とす
るワイヤ放電加工装置である。
[作用〕 本発明のワイヤ放電加工装置は、上記の如く通電子冷却
用の液系を持ち、極間への流量、圧力の等の加工液の流
れ方法の変化に拘らず、常に通電子を一定に冷却を行う
ものである。
次に本発明の実施例について述べる。
[実施例] 第1図は本発明の一実施例の説明図である。
第1図において、(17)は隔離部材、(18)はシー
ル部材、(19)は通電子冷却液である。
尚同符号は同−又は相当部分を示すのでその説明を省略
する。
次に本発明のワイヤ放電加工装置の動作について説明す
る。
第1図に示すように上部ワイヤ電極ガイド(4)を取囲
むように隔離部材(17)を配置し、その底部と上部ワ
イヤ電極ガイド(4)先端との間にシール部材(18)
を入れる。シール部材(18)は隔離部材(17)底部
に固定してあってもよいし、上部ワイヤ電極ガイド(4
)先端に固定してあってもよい。
加工液(3)の供給ポンプ(図示なし)とは別ポンプ(
図示なし)で通電子冷却液(19)を流せば、隔離部材
(17)の内部は通電子冷却液(9)で満たされ、冷却
液流入穴(13)から上部ワイヤ電極ガイド(4)内部
に入り、通電子(10)を冷却した後、冷却液排出穴(
14)から排出される。
この通電子冷却液(19)は極間に供給される加工液(
3)とは別系統となっているので加工液(3)の流量が
減ったり、上部加工液ノズル(8)と被加工物(2)上
面との距離が小さくなって上部加工液ノズル(8)内部
の圧力が上がっても、又距離が大きくなって上部加工液
ノズル(8)内部の圧力が下がっても、そのいずれに拘
らず通電子(10)を一定に冷却することが出来る。
下部側は従来の方式でも加工液の自重により上部より冷
却されやすいが、この発明による上部の構造と同様にす
れば更に良くなるのは勿論である。
上記実施例では、通電子冷却液(19)を加工液(3)
と別ポンプで供給するものを示したが、ポンプは一つで
液経路を二つ設け、一つは定流量を流すようにして通電
子冷却液(19)の経路とし、他の一つを流量調整可能
として加工液(3)の経路としてもよい。
又、上記実施例では、隔離部材(17)底部と上部ワイ
ヤ電極ガイド(4)先端の間にシール部材(18)を入
れたが、第2図のようにシール部材なしで直接隔離部材
(17)底部と上部ワイヤ電極ガイド(4)先端を接触
させても、あるいはラビリンス溝や凹凸を設けても同様
な効果が得られる。
[発明の効果] 叙上のように、本発明のワイヤ放電加工装置によれば、
通電子の冷却を行う冷却液を、極間に供給する加工液と
独立に通電子に供給するように構成したので、通電子の
冷却状態を加工液の状態に関わりなく常に一定に保こと
が出来、通電子の異常消耗を防ぐという効果が得られる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による上部加工液ノズルの断面説明図、
第2図は本発明の他の実施例を示す説明図、第3図は従
来の上部加工液ノズル周辺の断面説明図である。 図において、(1)はワイヤ電極、(2)は被加工物、
(3)は加工液、(4)は上部ワイヤ電極ガイド、(5
)は上部ダイヤモンドダイス、(6)は下部ワイヤ電極
ガイド、(7)は下部ダイヤモンドダイス、(8)は上
部加工液ノズル、(9)は下部加工液ノズル、(10)
は通電子、(11)は偏心ダイス、(12)は中心ダイ
ス、(13)は冷却液流入穴、(14)は冷却液排出穴
、(15)は支持部材、(16)はバッキング、(17
)は隔離部材、(18)はシール部材、(19)は通電
子冷却液である。 尚、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ワイヤ電極と被加工物を、加工液を介して、微少
    間隙で対向させ、該ワイヤ電極と該被加工物間に電圧を
    印加して発生した放電のエネルギーで加工を行うワイヤ
    放電加工装置において、加工時に、極間に加工液を供給
    する液系と、通電子に冷却液を供給する液系と、2つの
    液系を独立に調整制御する手段と、該通電子と該加工液
    とを隔離する部材を設け、該通電子に前記加工液とは無
    関係に冷却液を供給することを特徴とするワイヤ放電加
    工装置。
  2. (2)前記加工液及び通電子冷却液を供給するに当たり
    、夫々別々のポンプで供給することを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のワイヤ放電加工装置。
  3. (3)前記加工液及び通電子冷却液を夫々別々に供給す
    るに当たり、供給ポンプは1つで、液経路を流量調整可
    能な加工液経路と、定流量の通電子冷却液経路の2経路
    系を設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    のワイヤ放電加工装置。
  4. (4)前記ワイヤ放電加工装置において、加工時に、極
    間に加工液を供給する液経路と、通電子に冷却液を供給
    する液経路と、2つの液経路を独立に調整制御する手段
    と、該通電子と該加工液とを隔離する部材をワイヤ電極
    の上部ワイヤ電極ガイドを取り囲むようにして設け、該
    隔離部材の底部と前記上部ワイヤ電極ガイド先端との間
    にシール部材を挿入固定し、該通電子に前記加工液とは
    無関係に冷却液を供給することを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のワイヤ放電加工装置。
  5. (5)前記隔離部材の底部と前記上部ワイヤ電極ガイド
    の先端とを直接接触させて設けることをことを特徴とす
    る特許請求の範囲第4項記載のワイヤ放電加工装置。
  6. (6)前記隔離部材の底部と前記上部ワイヤ電極ガイド
    の先端との間にラビリンス溝を設けたことをことを特徴
    とする特許請求の範囲第4項記載のワイヤ放電加工装置
  7. (7)前記隔離部材の底部と前記上部ワイヤ電極ガイド
    の先端との間に凹凸溝を設けたことをことを特徴とする
    特許請求の範囲第4項記載のワイヤ放電加工装置。
JP15325487A 1987-06-22 1987-06-22 ワイヤ放電加工装置 Pending JPS63318216A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15325487A JPS63318216A (ja) 1987-06-22 1987-06-22 ワイヤ放電加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15325487A JPS63318216A (ja) 1987-06-22 1987-06-22 ワイヤ放電加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS63318216A true JPS63318216A (ja) 1988-12-27

Family

ID=15558436

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15325487A Pending JPS63318216A (ja) 1987-06-22 1987-06-22 ワイヤ放電加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63318216A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6294748B1 (en) * 1998-05-28 2001-09-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wire electrical discharge machine
JP2008036809A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Ogura Jewel Ind Co Ltd ワイヤガイド装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6294748B1 (en) * 1998-05-28 2001-09-25 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Wire electrical discharge machine
JP2008036809A (ja) * 2006-08-10 2008-02-21 Ogura Jewel Ind Co Ltd ワイヤガイド装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102394132B1 (ko) 활성 가스 생성 장치
KR930001351A (ko) 전자기 rf 연결부를 사용하는 플라즈마 처리기 및 방법
MY147719A (en) Method and apparatus for plating semiconductor wafers
CN108206143A (zh) 一种等离子处理器、刻蚀均匀性调节系统及方法
KR20130035206A (ko) 연속 도금 장치
KR20220104228A (ko) 활성 가스 생성 장치
JPS63318216A (ja) ワイヤ放電加工装置
JPS63318218A (ja) ワイヤ放電加工装置
KR20190139061A (ko) 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US3658682A (en) Electrolyte supply system
JP6072718B2 (ja) ワイヤ放電加工装置、薄板の製造方法および半導体ウエハの製造方法
JPS63120025A (ja) ワイヤ放電加工装置
US6103094A (en) Method for controlling electrochemical drilling
JPS6094221A (ja) ワイヤカツト放電加工機におけるワイヤ電極冷却装置
KR100720964B1 (ko) 급전 장치와 이를 포함하는 플라즈마 처리 장치
JPS6399128A (ja) ワイヤカツト放電加工装置の加工液供給装置
JP2012210664A (ja) ワイヤ放電加工装置、ワイヤ放電加工方法、薄板製造方法および半導体ウエハ製造方法
JPH0610185A (ja) 金属ストリップの電気メッキ装置
TWI233156B (en) Electropolishing apparatus, electropolishing method, and method for manufacturing semiconductor device
JPH0441126A (ja) ワイヤカット放電加工装置
JP3282137B2 (ja) 電解加工装置
JP6807261B2 (ja) プラズマ切断装置及びプラズマ切断方法
JPH05154716A (ja) ワイヤ放電加工装置
JPH0553566B2 (ja)
JPS63111196A (ja) 鋼板の水平連続電気メツキ方法