JPS63317923A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPS63317923A JPS63317923A JP15341687A JP15341687A JPS63317923A JP S63317923 A JPS63317923 A JP S63317923A JP 15341687 A JP15341687 A JP 15341687A JP 15341687 A JP15341687 A JP 15341687A JP S63317923 A JPS63317923 A JP S63317923A
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体に係わり、さらに詳しくは強磁性
金属層とこの強磁性金属層上の保護膜の改良に関する。
金属層とこの強磁性金属層上の保護膜の改良に関する。
この種の磁気記録媒体は、薄形化および高記録密度特性
が期待できるが、強磁性金属層が表面に露出しているた
め、容易に腐食してしまうという問題があった。従来よ
りこの問題を解決するため、この強磁性金属層上にニッ
ケルまたはニッケル合金の保護膜を形成する（特開昭５
１７２０５号）ことが提案されている。しかし、ニッケ
ルまたはニッケル合金の保護膜を形成するだけでは高温
高温雰囲気に対する耐蝕性の向上は認められるが、亜硫
酸ガスなどの腐食性ガスに対する耐蝕性はまだ不十分で
あり、さらに耐摩耗性に欠けるという欠点があった。
が期待できるが、強磁性金属層が表面に露出しているた
め、容易に腐食してしまうという問題があった。従来よ
りこの問題を解決するため、この強磁性金属層上にニッ
ケルまたはニッケル合金の保護膜を形成する（特開昭５
１７２０５号）ことが提案されている。しかし、ニッケ
ルまたはニッケル合金の保護膜を形成するだけでは高温
高温雰囲気に対する耐蝕性の向上は認められるが、亜硫
酸ガスなどの腐食性ガスに対する耐蝕性はまだ不十分で
あり、さらに耐摩耗性に欠けるという欠点があった。
この発明は、上記従来技術が持っていた腐食という欠点
を解決し、耐蝕性に優れ、かつ耐摩耗性にも優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
を解決し、耐蝕性に優れ、かつ耐摩耗性にも優れた磁気
記録媒体を提供することを目的とする。
本発明者らが鋭意検討した結果、鉄が亜硫酸ガスなどの
腐食性ガスに対する耐蝕性に有効であることを見出した
。これはＦｅ０ＯＨ，あるいは鉄の酸化物などが生成す
るためと考えられる。また、ニッケルの酸化物が耐摩耗
性を向上させるのに有効であることを見出した。この原
因は明らかではないが、ニッケルの酸化物がＮａＣ１構
造を形成することによると考えられる。従ってＮｉ−Ｆ
ｅ−〇系とする保護膜は、亜硫酸ガスなどの腐食性ガス
に対する耐蝕性に優れ、かつｉ４摩耗性に優れる。
腐食性ガスに対する耐蝕性に有効であることを見出した
。これはＦｅ０ＯＨ，あるいは鉄の酸化物などが生成す
るためと考えられる。また、ニッケルの酸化物が耐摩耗
性を向上させるのに有効であることを見出した。この原
因は明らかではないが、ニッケルの酸化物がＮａＣ１構
造を形成することによると考えられる。従ってＮｉ−Ｆ
ｅ−〇系とする保護膜は、亜硫酸ガスなどの腐食性ガス
に対する耐蝕性に優れ、かつｉ４摩耗性に優れる。
０と（Ｎｉ＋Ｆｅ十〇）の原子数比は５：９５〜５０：
５０の範囲が望ましく、０が５より小さいと耐摩耗性に
劣り、５０より大きいと緻密な膜の形成が困難となり腐
食性ガスに対する耐蝕性に劣る。
５０の範囲が望ましく、０が５より小さいと耐摩耗性に
劣り、５０より大きいと緻密な膜の形成が困難となり腐
食性ガスに対する耐蝕性に劣る。
Ｎｉとｌ？ｅの原子数比は９５：５〜６０：４０の範囲
が望ましく、Ｆｅが５より小さいと腐食性ガスに対する
耐蝕性に劣り、４０より大きいと耐摩耗性に劣る。
が望ましく、Ｆｅが５より小さいと腐食性ガスに対する
耐蝕性に劣り、４０より大きいと耐摩耗性に劣る。
保護膜の膜厚は５０〜５００Ａの範囲が望ましく、５０
Ａより小さいと腐食性ガスに対する耐蝕性に劣り、５ｏ
ｏＸより大きいとスペーシングが大きくなりすぎ、電磁
変換特性が劣化する。さらに二層構造における電気化学
的腐食を防止するため強磁性金属層はＮｉを主成分とし
Ｎｉ−Ｃｏ−０系とすることにより強磁性金属層と保護
膜との二層間の化学ポテンシャルをできるだけ小さくし
た。Ｎ１とＣｏの原子数比は５５：４５〜９０：１０の
範囲が望ましく、Ｎｉが５５より小さいと耐蝕性に劣り
、９０より大きいと磁気特性に劣る。
Ａより小さいと腐食性ガスに対する耐蝕性に劣り、５ｏ
ｏＸより大きいとスペーシングが大きくなりすぎ、電磁
変換特性が劣化する。さらに二層構造における電気化学
的腐食を防止するため強磁性金属層はＮｉを主成分とし
Ｎｉ−Ｃｏ−０系とすることにより強磁性金属層と保護
膜との二層間の化学ポテンシャルをできるだけ小さくし
た。Ｎ１とＣｏの原子数比は５５：４５〜９０：１０の
範囲が望ましく、Ｎｉが５５より小さいと耐蝕性に劣り
、９０より大きいと磁気特性に劣る。
強磁性金属層ならびに保護膜の形成方法は、真空蒸着、
スパッタリング、イオンブレーティング。
スパッタリング、イオンブレーティング。
メッキ等の手段によって基体上に被着形成される。
また、基体としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリ
アミド、ポリビニノ耽 ポリヵーボネー１−などのプラ
スチックフィルム、またこれらのプラスチックフィルム
中にＣｕ、Ｚｎ、Ｓｉ、ＡＩ。
アミド、ポリビニノ耽 ポリヵーボネー１−などのプラ
スチックフィルム、またこれらのプラスチックフィルム
中にＣｕ、Ｚｎ、Ｓｉ、ＡＩ。
炭素繊維などを混入した複合フィルム、Ｃｕ、Ｚｎなど
の非磁性フィルム、ＡＩ板、ガラス板など、従来から使
用されているものがいずれも好適に使用される。
の非磁性フィルム、ＡＩ板、ガラス板など、従来から使
用されているものがいずれも好適に使用される。
次に、この説明の具体的な実施例について説明する。
実施例１゜
厚さ９μｍのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に装
着し、５Ｘ１０−’）−ルの真空下でＮｉ−３Ｑａｔ％
Ｃｏを加熱蒸発させ、同時に酸素ガスを２００ ｖａ
Ｉ ／ｍｉｎの割合でＮｉ−Ｃｏの蒸気流に差し向け、
５００ Ａ／ｓｅｃの析出速度で斜め蒸着し、ポリエス
テルフィルム上にＮｉ−Ｃｏ−０から成る厚さ１５００
Ａの強磁性金属層を形成した。
着し、５Ｘ１０−’）−ルの真空下でＮｉ−３Ｑａｔ％
Ｃｏを加熱蒸発させ、同時に酸素ガスを２００ ｖａ
Ｉ ／ｍｉｎの割合でＮｉ−Ｃｏの蒸気流に差し向け、
５００ Ａ／ｓｅｃの析出速度で斜め蒸着し、ポリエス
テルフィルム上にＮｉ−Ｃｏ−０から成る厚さ１５００
Ａの強磁性金属層を形成した。
次いで、再び５Ｘ１０−５）−ルの真空下でＮｉ−２Ｑ
ａ ｔ％Ｆｅを加熱蒸発させ、同時に酸素ガスを３００
ｍｍ ］ ／ｍｉｎの割合でＮｉ−Ｃｏの蒸気流に差
し向け、１００ Ａ／ｓｅｃの析出速度で斜め蒸着し、
Ｎｉ−Ｃｏ−〇から成る強磁性金属層上にＮｉ−Ｆｅ−
０から成る厚さ２００Ａの保護膜を形成した。しかる後
、所定のｌ】に裁断して図に示すようなポリエステルフ
ィルム１上に強磁性金属層２．保護膜３を順次積層形成
した磁気テープＡを作った。
ａ ｔ％Ｆｅを加熱蒸発させ、同時に酸素ガスを３００
ｍｍ ］ ／ｍｉｎの割合でＮｉ−Ｃｏの蒸気流に差
し向け、１００ Ａ／ｓｅｃの析出速度で斜め蒸着し、
Ｎｉ−Ｃｏ−〇から成る強磁性金属層上にＮｉ−Ｆｅ−
０から成る厚さ２００Ａの保護膜を形成した。しかる後
、所定のｌ】に裁断して図に示すようなポリエステルフ
ィルム１上に強磁性金属層２．保護膜３を順次積層形成
した磁気テープＡを作った。
実施例２゜
実施例１と同様にしてポリエステルフィルム上に強磁性
金属層を形成した後、次いで、高周波スパッタリング装
置に装着し、５Ｘ１０−”）−ルの酸素ガス雰囲気下で
３００Ｗの電圧を加え、Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを５Ａ／
ｓｅｃの析出速度でスパッタリングし、Ｎｉ−Ｃｏ−０
から成る強磁性金属層上にＮｉ−Ｆｅ−０から成る厚さ
２ｏｏＸの保護膜を形成し、磁気テープＡを作った。
金属層を形成した後、次いで、高周波スパッタリング装
置に装着し、５Ｘ１０−”）−ルの酸素ガス雰囲気下で
３００Ｗの電圧を加え、Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆｅを５Ａ／
ｓｅｃの析出速度でスパッタリングし、Ｎｉ−Ｃｏ−０
から成る強磁性金属層上にＮｉ−Ｆｅ−０から成る厚さ
２ｏｏＸの保護膜を形成し、磁気テープＡを作った。
比較例１゜
実施例１の強磁性金属層の形成において、Ｎｉ−３０ａ
ｔ％Ｃｏに代えてＮｉ−８０ａｔ％Ｃ。
ｔ％Ｃｏに代えてＮｉ−８０ａｔ％Ｃ。
を使用した以外は、実施例１と同様にして磁気テープを
作った。
作った。
比較例２゜
実施例１の保護膜の形成において、Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆ
ｅに代えてＮｉ−５Ｑａｔ％Ｆｅを使用した以外は、実
施例１と同様にして磁気テープを作った。
ｅに代えてＮｉ−５Ｑａｔ％Ｆｅを使用した以外は、実
施例１と同様にして磁気テープを作った。
比較例３゜
実施例１の保護膜の形成において、Ｎｉ−２０ａｔ％Ｆ
ｅに代えてＮｉ１００％を使用した以外は、実施例１と
同様にして磁気テープを作った。
ｅに代えてＮｉ１００％を使用した以外は、実施例１と
同様にして磁気テープを作った。
比較例４゜
実施例１の保護膜の形成において、酸素ガスの導入を省
いた以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作った
。
いた以外は、実施例１と同様にして磁気テープを作った
。
各実施例および比較例で得られた磁気テープについて耐
蝕性および耐摩耗性を試験した。耐蝕性試験は得られた
磁気テープを亜硫酸ガス（ＳＯ７）１、ｐｐｍ、３５°
Ｃ１７５％ＲＨの条件下に２４ｈｒ放置してＶ、Ｓ、Ｍ
、で飽和磁化量を測定し放置前の磁気テープの飽和磁化
量を１００％とし、これと比較した値でその劣化率を調
べて行なった。
蝕性および耐摩耗性を試験した。耐蝕性試験は得られた
磁気テープを亜硫酸ガス（ＳＯ７）１、ｐｐｍ、３５°
Ｃ１７５％ＲＨの条件下に２４ｈｒ放置してＶ、Ｓ、Ｍ
、で飽和磁化量を測定し放置前の磁気テープの飽和磁化
量を１００％とし、これと比較した値でその劣化率を調
べて行なった。
耐摩耗性試験は市販のＶＴＲテープデツキを用いて磁気
テープに５ Ｍ Ｈｚの信号を記録し、再生時のスチル
寿命を測定して行なった。下表はその結果である。
テープに５ Ｍ Ｈｚの信号を記録し、再生時のスチル
寿命を測定して行なった。下表はその結果である。
上表から明らかなように、実施例１．および２゜で得ら
れた磁気テープは、比較例１．ないし４゜で得られた磁
気テープより飽和磁化量の劣化率が小さく、スチル再生
寿命が長く、このことからこの発明によって得られる磁
気記録媒体は、耐蝕性および耐摩耗性が一段と向上され
ていることがわかる。
れた磁気テープは、比較例１．ないし４゜で得られた磁
気テープより飽和磁化量の劣化率が小さく、スチル再生
寿命が長く、このことからこの発明によって得られる磁
気記録媒体は、耐蝕性および耐摩耗性が一段と向上され
ていることがわかる。
図はこの発明によって得られた磁気テープの部分拡大断
面図である。 １−−−−−−ポリエステルフィルム（基体）、２−−
−強磁性金属層、３−−−−−保護膜、Ａ−＝ 磁気テ
ープ（磁気記録媒体）。
面図である。 １−−−−−−ポリエステルフィルム（基体）、２−−
−強磁性金属層、３−−−−−保護膜、Ａ−＝ 磁気テ
ープ（磁気記録媒体）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、非磁性基体上に強磁性金属層を形成し、更にこの強
磁性金属層上に保護膜を形成して成る磁気記録媒体にお
いて、前記強磁性金属層がＮｉ−Ｃｏ−Ｏ系より成り、
前記保護膜がＮｉ−Ｆｅ−Ｏ系より成ることを特徴とす
る磁気記録媒体。 ２、前記強磁性金属層が斜めに傾斜した柱状粒子の集合
体から成ることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15341687A JPS63317923A (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15341687A JPS63317923A (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63317923A true JPS63317923A (ja) | 1988-12-26 |
Family
ID=15562020
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15341687A Pending JPS63317923A (ja) | 1987-06-22 | 1987-06-22 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63317923A (ja) |
-
1987
- 1987-06-22 JP JP15341687A patent/JPS63317923A/ja active Pending
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