JPS6331482B2

JPS6331482B2 -

Info

Publication number: JPS6331482B2
Application number: JP53043793A
Authority: JP
Inventors: Kotaro Nagasawa; Kunio Morikubo; Tsutomu Sato
Original assignee: Somar Corp
Current assignee: Somar Corp
Priority date: 1978-04-15
Filing date: 1978-04-15
Publication date: 1988-06-24
Also published as: JPS54137085A

Description

【発明の詳細な説明】

この発明は、フオトレジストであつて、親水性
表面をもつシートないしフイルム状の支持体上に
成膜された感光層を有するPS版等印刷材料の作
製、着色剤を含有する感光層を平面状支持体にお
いた画像形成材料の作製等の目的に有効な光架橋
性材料に係る。既に、２種類の非官能性共重合体と架橋剤なら
びに光活性剤を含む感光材料について出願したが
（特願昭52―160431号〈特公昭62―4698号〉およ
び特願昭53―5503号〈特公昭61―61094号〉）、こ
の発明はこれを改良し高感度であつて、光架橋材
料の耐性が一層優れた感光材料の提供を目的とす
る。この発明について詳しく説明する。光架橋性材料は、下記一般式（）で表わされ
る反覆単位をもつ２元共重合物（以下便宜上共重
合体と称する）〔但し、式中Arは置換基を有してもよいフエニ
ル基、R₁は低級アルキル基を示し、数m₁、m₂は
正の整数でm₁≧m₂〕および、一般式（）で表わされる反覆単位をも
つ３元共重合物（以下便宜上共重合体と称す
る）〔但し、式中Arは置換基を有してもよいフエニ
ル基、R₂は低級アルキル基、Ｘは水素原子また
はメチル基を示し、数n₁、n₂、n₃は正の整数で
（n₁＋n₂）／n₃＝0.5〜20〕の２種類の共重合体を同時に含有することを特徴
とし、適量の架橋剤ならびに光活性剤を含むもの
であつて、その他使用目的に応じた各種の副次的
成分、たとえば熱重合禁止剤、着色剤、揺変剤、
あるいは界面活性剤を混合した系から成り立つて
いる。光架橋性材料を構成する各成分について説明す
る。官能性基を有する架橋剤、光活性剤および副
次的諸成分のバインダーならびに、活性光照射
時、架橋剤によつて架橋され現像液に対して不溶
化する機能をもつ高分子化合物として共重合体
およびが同時に使用される。共重合体ならび
に共重合体は弱アルカリ性現像液に可溶とする
ため遊離カルボキシル基を含有している。共重合体は、具体的にはスチレン、α―メチ
ルスチレン、ｍ―、またはｐ―ビニルトルエン、
ｏ―、またはｐ―クロルスチレン、ｏ―、または
ｐ―メトキシスチレン等のスチレンまたはその誘
導体と、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノ
エチル、マレイン酸モノｎ―プロピル、マレイン
酸モノiso―プロピル、マレイン酸モノｎ―ブチ
ル、マレイン酸モノiso―ブチル、マレイン酸モ
ノtert―ブチル等からそれぞれ１種類づつ選ばれ
たスチレンまたはスチレン誘導体とマレイン酸モ
ノアルキルの共重合高分子化合物である。しかし
ながら、この発明の目的に適合するには、スチレ
ンとマレイン酸モノiso―プロピル、マレイン酸
モノiso―ブチル、またはマレイン酸モノtert―
ブチルの組み合せが有利である。スチレンまたは
その誘導体とマレイン酸モノアルキルの共重合体
中の存在比はm₁／m₂＝５〜１のものが望まし
い。共重合体は当該技術分野で公知の方法で容
易に合成され、たとえばスチレンと無水マレイン
酸を常法のラジカル重合によりポリ（スチレン―
CO―無水マレイン酸）とし、これを低級アルコ
ールと加熱反応すれば、ポリ（スチレン―CO―
マレイン酸モノアルキル）が得られる。ここでア
ルキル基は使用した低級アルコールのアルキル残
基である。共重合体は、具体的には、メタクリル酸（ま
たはアクリル酸）ベンジルあるいは、その誘導体
の１種類と、メタクリル酸（またはアクリル酸）
メチル、メタクリル酸（またはアクリル酸）エチ
ル、メタクリル酸（またはアクリル酸）ｎ―プロ
ピル、メタクリル酸（またはアクリル酸）iso―
プロピル、メタクリル酸（またはアクリル酸）ｎ
―ブチル、メタクリル酸（またはアクリル酸）
iso―ブチル、メタクリル酸（またはアクリル酸）
tert―ブチル等より選ばれた１種類、およびメタ
クリル酸（またはアクリル酸）の３種類の単量体
を共重合して得られ、この単量体の共重合体中
の存在比は（n₁＋n₂）／n₃＝0.5〜20の関係が望
ましい。既述したように共重合体は弱アルカリ現像可
能とするため、メタクリル酸、またはアクリル酸
を共重合させ、遊離のカルボキシル基を保持させ
てある。この遊離カルボキシル基の量、すなわ
ち、n₃が一定限度以上になると光架橋部もアルカ
リ現像液によつて膨潤する傾向になるので、n₃の
適正域が存在する。共重合体も常法により合成されるが、以下に
若干の例を挙げる。参考例１窒素導入口を備えた撹拌機つき反応器中に、窒
素雰囲気下で水535ｇ、メタクリル酸ベンジル
79.2ｇ、メタクリル酸メチル15ｇ、メタクリル酸
12.9ｇ（仕込みモル比６：２：２）過酸化ベンゾ
イル１ｇ、ｎ―ドデシルメルカプタン0.3ml、ポ
リエチレンオキシド（Polyox―WSR―Ｎ―80、
米国ユニオンカーバイド社製、分子量２×10⁵）
2.4ｇを加え、撹拌速度700〜800r.p.m.で5.5時間
重合させ、別、水洗、乾燥し、白色ビーズ状の
ポリ（メタクリル酸ベンジル―CO―メタクリル
酸メチル―CO―メタクリル酸）94ｇを得た。収
率88％、〔η〕25℃ MC＝0.231、酸価−40.8、含有メ
トキシ百分率＝3.23％（O.J.Sweeting.The
Science and Technology of Polymer Film、
Vol.I、John Wiley＆Sons Jnc.1968、p802の方
法を若干改変して測定）酸価、含有メトキシ百分
率より共重合体中の構成単量体組成比はメタク
リル酸ベンジル：メタクリル酸メチル：メタクリ
ル酸＝73：16：11となる。i.r.特性吸収（KBr錠
剤法）3400cm^-1（νOH、ω）、3100〜2800cm^-1に６
本（νCH ｍ）1730cm^-1（νC＝Ｏ、ｓ）1460cm^-1
（δas CH₃、ｍ）1390cm^-1（δs CH₃、ｍ）1370cm
^-1（δs CH₃、ｍ）1150cm^-1（ν CO、ｓ）1080
（ν CO、ｍ）750cm^-1（δ CH、ｓ）700cm^-1
（δ CH、ｓ）ただし括弧内のｓ、ｍ、ωはそ
れぞれ吸収の強、中、弱を示す。参考例２参考例１と同様の装置で窒素雰囲気下、水565
ｇ、メタクリル酸ベンジル79.2ｇ、メタクリル酸
tert―ブチル21.3ｇ、メタクリル酸12.9ｇ（仕込
みモル比６：２：２）、過酸化ベンゾイル1.0ｇ、
ｎ―ドデシルメルカプタン0.3ml、ポリエチレン
オキシド（前出）2.4ｇを加え撹拌速度700〜800r.
p.m.、75〜80℃で６時間重合させた。別、水
洗、乾燥後、白色ビーズ状のポリ（メタクリル酸
ベンジル―CO―メタクリル酸tert―ブチル―CO
―メタクリル酸）95ｇを得た。収率83.8％、〔η〕
25℃ MC＝0.293、酸価＝66.4、含有tert―ブトキシ百
分率＝11.0％（測定方法前出）であつた。酸価お
よび含有アルコキシ百分率より各単量体組成比は
メタクリル酸ベンジル：メタクリル酸tert―ブチ
ル：メタクリル酸＝59：23：18と推定される。i.
r.特殊吸収3400cm^-1（ν OH、ω）、3100〜2800
cm^-1に６本（ν CH、ｍ）1730cm^-1（νC＝ｏ、
ｓ）1460cm^-1（δas CH₃、ｍ）1390cm^-1（δs CH₃、
ｍ）1370cm^-1（δs CH₃、ｍ）1260cm^-1、1220cm^-1
（ter―ブチル骨格、ｍ）1150cm^-1（ν co、ｓ）
1080cm^-1（ν co、ω）750cm^-1（δ CH、ｍ）
700cm^-1（δ CH、ｍ）。共重合体単独で、後述する架橋剤ならびに光
活性剤を加えて調製した感光材料による感光層は
感光速度が低くまた光架橋部も微細片となつて剥
離しやすいという実用性の乏しいものであつた。
同様にして共重合体で調製した感光材料による
感光層は、添加した架橋剤によつてかなりの粘着
性を示し、密着露光時に難点があつた。共重合体
、を同時に使用することによつてはじめて実
用的に問題のない材料を調製し得ることが認めら
れた。共重合体は、メタクリル酸のベンジルまたは
ｐ―メトキシベンジル、ｐ―メチルベンジル等の
エステルを有する。これを前出の発明特願昭53―
5503号に記載のポリ（メタクリル酸tert―ブチル
―CO―メタクリル酸メチル―CO―メタクリル
酸）共重合体を使用した感光材料と比較した場
合、共重合体を使用した材料にあつては、感光
速度が一層高いという特徴がある。その根拠とし
て、たとえば、tert―ブチル基とベンジル基の非
局在化エネルギーは、それぞれ12および
24.5Kcal／molであり、このためベンジル基の方
が光化学的に活性化された不飽和基を有する架橋
剤の攻撃をうけやすく、光硬化速度が速くなるも
のと考えられる。また（CH₃）₃CH→・Ｃ（CH₃）₃
＋・Ｈ，C₆H₅CH₃→・CH₂C₆H₅＋・Ｈに解離す
るに要するエネルギー（結合解離エネルギー）も
それぞれ90、77.5Kcal／molとなつており、ベン
ジル基の方が低い。（C.Wa―lling、Free
Radicalsin Solution、J.Wiley刊、1967、ｐ―
50）なお、前記は説明を意図したものであり、こ
の発明の内容を制限するものではない。感光材料の共重合体と共重合体の重量比は
通常／＝５〜0.2の範囲で設定されるが／
の値が小さいほど、一般に感光速度が大きく硬
化膜も強くなる。また基本表面に対する接着性は
／の値が大きいほど大きくなる傾向がある。
したがつて／の値は感光材料の使用目的によ
り選定されなければならない。感光材料に含有される架橋剤は、沸点が150℃
以上であつて、２個以上のエチレン性不飽和結合
を有する化合物が使用され、さらに２個以上のア
ジド基を有する化合物もまた利用することが可能
である。２個以上のエチレン性不飽和結合をもつ
化合物の具体例をあげれば、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、トリエチレングリコールジア
クリレート、テトラエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート
類、トリメチロールプロパンジアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、テトラ
メチロールメタンテトラアクリレート、フルフリ
ルアクリレート、レゾルシノールジアクリレー
ト、ｐ，p′―ジヒドロキシジフエニルジアクリレ
ート、ビスフエノールＡジグリシジルジアクリレ
ートおよび上記のメタクリレート同構体、すなわ
ち、ジエチレングリコールジメタクリレート、ト
リエチレングリコールジメタクリレート、テトラ
エチレングリコールジメタクリレート、ポリエチ
レングリコールジメタクリレート類、トリメチロ
ールプロパンジメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、テトラメチロール
メタンテトラメタクリレート、フルフリルメタク
リレート、レゾルシノールジメタクリレート、
ｐ，p′―ジヒドロキシジフエニルメタクリレー
ト、ビスフエノールＡジグリシジルメタクリレー
ト等あるいはアリルフタレート、ジアリルアクリ
ルアミド、メチレンビスアクリルアミド、バルビ
ツール酸５，５―ジアリル等が典型的なものであ
る。２個以上のアジド基を有する化合物として
は、ｐ，p′―ジフエニルビス（アジド）メタン、
ｐ，p′―ビス（アジド）ベンゾフエノン、ｐ，
p′―ビス（アジド）アゾベンゼンあるいは、ｐ―
ジアゾジフエニルアミンとホルムアルデヒドの共
縮合物のジアゾ基をアジド基に変換した化合物等
が例としてあげられる。感光材料に添加される架橋剤は、上掲の例示に
みられる化合物、あるいはその類縁化合物中より
感光速度、共重合体およびとの相容性光架橋
層の耐食性等の面を考慮して単独あるいは２種類
以上の架橋剤を同時に添加使用される。感光材料
中の架橋剤の量は、共重合体およびに対して
５〜150重量％の範囲にある。架橋剤が５％未満
であると実用的感光速度が得られず、150％をこ
えると粘着性を帯びて、特殊用途以外には使用で
きない。光活性剤としては、ケトンとその各種誘導体た
とえば、ベンゾフエノン、ベンジル、ｐ，p′―ビ
ス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノン、ｐ，p′―
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノン、ベンゾ
インメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイ
ンブチルエーテル等、キノイド化合物たとえばア
ントラキノン、アセナフテンキノン、β―tert―
ブチルアントラキノン、フエナントレンキノン
等、また若干の複素環化合物たとえばプリムリ
ン、カルバゾール、キサントン、チオキサントン
等、さらに四臭化炭素、ω，ω，ω―トリブロム
メチルフエニルスルホン等のポリハロアルカン、
その他種々の既知光活性剤が使用可能である。光
活性剤の添加量は、共重合体、および架橋剤
に対して0.01〜20重量％、好ましくは0.1〜10重
量％の範囲で選択される。その他感光材料中に含まれる副次的成分の主な
ものとしては、貯蔵中の暗反応を抑制するために
通常の熱重合禁止剤の使用が望ましい。この目的
には、ヒドロキノン、ｐ―メトキシフエノール、
ピロガロール、２，６―ジtertブチル―ｐ―クレ
ゾールあるいはキユフエロン等が利用できる。熱
重合禁止剤の添加量は、共重合体およびなら
びに架橋剤に対して0.001〜１重量％の範囲内で
決められる。また感光材料を刷版作製あるいはプリント配線
基板の作製、ケミカルミリング加工用その他の平
面状基体の微細加工に利用する際、感光層ならび
に光硬化像の識別を容易にするために着色剤とし
て公知の油溶性染料等、または、微細化された顔
料粒子を添加することができる。その他感光材料
を基体へ塗布する際、塗膜のレベリング性や基体
表面への濡れを向上させるため界面活性剤を添加
することもできる。着色剤ならびに界面活性剤の
具体的な例は実施例中に記述する。本感光材料を使用して高コントラスト画像を作
製したり、装飾・マーキング用の図柄パターンを
作製する場合には、高濃度に染料、好ましくは顔
料を添加する。ことに高コントラスト画像作製に
は、カーボンブラツクあるいは鉄黒の如き黒色顔
料が望ましく、この場合の顔料添加量は、共重合
体およびならびに架橋剤に対して10〜300重
量％の範囲で使用される。図柄パターン作製の場
合も黄、橙、赤、青、緑あるいは黒、白等を主調
とする種々の調色された染料あるいは顔料が同程
度に使用される。この種の画像形成に本感光材料
を使用する場合には、着色剤は必須成分の一つと
なることはいうまでもなく、市販の各種染料・顔
料から選定使用できる。本感光材料の使用法ならびにそれに付随した感
光材料の特徴について記述する。本感光材料は、熱溶融して射出し、シート状な
いしは、フイルム状に形成することが可能であつ
て、特に100μあるいはそれ以上の厚さを要する
場合に利用できるが、通常は有機溶媒に溶解ある
いは分散させ基体表面に流延、有機溶媒を蒸発さ
せて感光層を形成させる。この目的に使用できる
有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケト
ン、シクロヘサキサノン等のケトン系溶媒、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソ
ルブ等のセロソルブ類（エチレングリコールモノ
アルキルエーテル）、メチルセロソルブアセテー
ト、エチルセロソルブアセテート等のセロソルブ
類の低級脂肪酸エステル、メチルアルコール、エ
チルアルコール、イソプロピルアルコール等アル
コール類、テトラヒドロフラン、ジオキサン等の
環状エーテル類、その他Ｎ―メチルピロリドン、
DMF等の極性溶媒、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロルベンゼン等芳香族溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル等のエステル
類、ジクロルエタン等のハロアルカン類等の溶媒
を単独あるいは混合して使用することができる。感光材料の溶媒溶液、すなわち感光液の濃度
は、使用目的や感光層形成に利用される塗布方
式、感光層の厚さ等によつて決められるが、通常
感光液の粘度は10〜500cps程度に調整される。感光液は、ロールコーター、スピナーあるいは
ホエラ等の回転塗布機、スプレーコート、デイツ
プコート、ワイヤーバーコート、グラビアコー
ト、キスコート等、当該技術分野で公知の方法を
利用して塗布、溶媒を加熱除去して基体表面上に
感光層を形成させる。上記感光層には、酸素の影響による光架橋の阻
害を防止する目的をもつて保護層または保護フイ
ルムを設ける実用上の必要性はなく、透明フイル
ムベースの原図を密着またはプロキシミテイ（近
接）露光し得ることもこの発明の特徴の一つとす
るものである。感光層を光架橋させる光源としては、紫外部、
近紫外部の活性光にとむ低圧、中圧、高圧または
超高圧水銀灯、メタルハライド入り水銀灯、カー
ボンアーク等、キセノン灯等が有利に使用され
る。露光後、基体上の感光層を炭酸ナトリウム、ケ
イ酸ナトリウム等の無機塩基あるいは、アンモニ
ア、エタノールアミン等の有機塩基の数％程度の
水溶液に浸漬すれば、非光架橋部は容易に除去さ
れ、原図のネガ像が基体表面上に形成される。使用目的によつては、基体表面上に光架橋部を
残したまま腐食またはメツキ等の工程にかけたの
ち、光架橋を剥離する必要がある。この場合剥離
には５％程度の苛性アルカリ水溶液に浸漬するこ
とにより容易に行うことができる。以下、感光材料を実施例について、より具体的
に説明する。実施例１（共重合体）ポリ（スチレン―CO―マレイン酸モノイソプ
ロピル）（モル比１：１） 50部（共重合体）参考例１のポリ（メタクリル酸ベンジル―CO
―メタクリル酸メチル―CO―メタクリル酸）
（モル比 73：16：11） 50部（架橋剤）トリエチレングリコールジアクリレート 40部エチレングリコールジアクリレート 30部（光活性剤）ベンゾインエチルエーテル８部ｐ，p′―ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフエノ
ン２部（熱重合禁止剤）Ｐ―メトキシフエノール 0.01部（着色剤） C.I.ソルベントブルー73 １部（界面活性剤）ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.5部上記をエチルセロソルブ500部に溶解させ48cps
（25℃）の感光液を調製した。この感光液をロールコーターでボール研磨後陽
極酸化により表面を粗面化処理したアルミ板に、
乾燥膜厚3μの感光層を塗布し、平版印刷板を作
製した。印刷版の感光層にネガの印刷原稿およびステツ
プタブレツト（米国Kodak社製Kodak Step
Tablet No.２）を真空密着し、超高圧水銀灯
（3kW）、距離1m（強度4.7mW／cm²）で30秒間露
光した。露光済み印刷版を３％ケイ酸ナトリウム水溶液
に20℃で１分間浸漬後、水洗、３％リン酸水溶液
でリンス、再水洗して、アラビアゴム液を塗布、
乾燥してポジ刷版を得た。この刷版は、ステツプタブレツトの１〜６段が
硬化しており、オフセツト印刷機にかけて印刷し
たところ、良好な印刷物が20万枚以上得られた。なお、比較として共重合体の代りにポリ（メ
タクリル酸tert―ブチル―CO―メタクリル酸メ
チル―CO―メタクリル酸）（モル比58：20：22）
を50部使用し、他の成分は同じにしてロールコー
ターで乾燥膜厚3μの感光層を有する平版印刷板
を作製し、同様の操作で露光、現像すると、ステ
ツプタブレツト１〜５段が硬化し、１〜６段硬化
に要する露光時間は40秒であつた。実施例２（共重合体）ポリ（スチレン―CO―マレイン酸モノイソプ
ロピル）（モル比１：１） 60部（共重合体）参考例２のポリ（メタクリル酸ベンジル―CO
―メタクリル酸tert―ブチル―CO―メタクリ
ル酸）（モル比 59：23：18） 40部（架橋剤）トリメチロールプロパントリアクリレート 50部エチレングリコールジアクリレート 10部（光活性剤）ベンゾインiso―ブチルエーテル８部ｐ，p′―ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノ
ン１部（熱重合禁止剤）Ｐ―メトキシフエノール 0.01部（着色剤） C.I.ソルベントブルー73 １部（界面活性剤）ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.5部上記をエチルセロソルブ700部に溶解させ26cps
（25℃）の感光液を得た。この感光液をスピー（回転塗布機）を使用し、
900r.p.m.でポリアミドフイルムベースの35μ銅箔
張りフレキシブル基板に塗布し70℃で乾燥して厚
さ5μの感光層を形成させた。なお銅箔は常法に
より、１，１，１―トリクロルエチレンで脱脂
後、３％塩酸で処理、水洗したものを使用した。
感光層にテストパターン（凸版印刷社製TOPAN
RESOLUTION TEST TARGET）を密着さ
せ、マスクアライメント装置（共和理研製；光源
超高圧水銀灯100V、250W、露光面積60mmφ）を
使用して２秒間露光した。露光済みのフレキシブ
ル基板を20℃で0.5％炭酸ナトリウム水溶液に２
分間浸漬して現像した。水洗、３％リン酸水溶液
でリンス、再水洗して銅箔上にテストパターンの
ネガ像を得た。 40゜B′e塩化第二鉄水溶液で銅箔を腐食したの
ち、25℃で５分間、５％苛性ソーダ水溶液に浸漬
して光架橋部を剥離、水洗した。得られた銅パタ
ーンは線幅7μを充分に解像し、エツジの切れも
良好であつた。なお、この感光液組成中、共重合体の代り
に、ポリ（メタクリル酸tert―ブチル―CO―メ
タクリル酸メチル―CO―メタクリル酸）（モル
比、60：23：17）を同量使用し、他の組成を同一
に保ち、同様の銅パターンを作製するためには、
露光時間を４秒間にする必要があつた。実施例３（共重合体）ポリ（スチレン―CO―マレイン酸モノtert―
ブチル）（モル比２：１） 70部（共重合体）ポリ（メタクリル酸ベンジル―CO―メタクリ
ル酸メチル―CO―メタクリル酸）（モル比
69：20：11） 30部上記共重合体、を酢酸ブチル350部に溶解
し、をカーボンブラツク250部とともに３本をロ
ールで練り合せて顔料分散液を作製した。前記顔料分散液 70部（架橋剤）トリメチロールプロパントリアクリレート６部テトラエチレングリコールジアクリレート４部（光活性剤）ベンゾフエノン４部ｐ，p′―ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフエノ
ン 0.5部（熱重合禁止剤）ｐ―メトキシフエノール 0.01部（界面活性剤）ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート
0.6部上記混合物をメチルセロソルブ35部、メチルセ
ロソルブアセテート５部の混合液中に加え200cps
（25℃）の均一な顔料分散液を得た。この顔料分散液を表面を粗面化した２軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフイルムにφ0.4mmのワ
イヤーバーコーターで塗布、70℃で乾燥して、乾
燥膜厚5μの黒色感光性フイルムを作製した。黒色感光性フイルムにをテストパターンを密着
し、超高圧水銀灯（3kW）、距離80cm（強度
6.5mW／cm²）で40秒間露光した。露光済み感光
性フイルムを0.5％モノエタノールアミン水溶液
に20℃で30秒間浸漬して現像後、水圧1.5Kg／cm²
のスプレーで洗浄して残渣を除き、乾燥して黒色
のネガ像を得た。この画像は地図製版、スクリー
ン印刷用の原図等として使用され、非画像部は、
ベースフイルムのマツト加工面であり、表面筆記
性を有している。画像はφ50μの円および線幅50μの直線画像を解
像し、その濃度は下記の値で十分原図として使用
されうるものであつた。

【表】（米国マクベス社製濃度計使用）
なお、実施例中の部は重量部を表わす。また共
重合体、の構成単量体のモル比は、共重合体
中の存在比を示している。本発明において２種の共重合体を同時に含有さ
せることによる併用効果は下表の結果から確認す
ることができる。これによれば、本発明の場合、各単用の場合に
比し、硬化所要時間、耐刷性、解像性等、露光時
間、各フイルター濃度、直線画像解像性、表面筆
記性において優れていることがわかる。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１一般式（）で表わされる反覆単位をもつ共
重合体、〔但し、式中Arは置換基を有してもよいフエニ
ル基、R₁は低級アルキル基を示し、数m₁、m₂は
正の整数でm₁≧m₂〕および、一般式（）で表わされる反覆単位をも
つ共重合体、〔但し、式中Arは置換基を有してもよいフエニ
ル基、R₂は低級アルキル基、Ｘは水素原子また
はメチル基を示し、数n₁、n₂n₃は正の整数で（n₁
＋n₂）／n₃＝0.5〜20〕の２種類の共重合体を同時に含有することを特徴
とし、適量の架橋剤ならびに光活性剤を含む光架
橋性材料。