JPS6330918B2 - - Google Patents
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
本発明は、平面構造として次式で表わされるア
ミノ配糖体の新規な製造法に関する。 この式中R1及びR2は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子又はメチル基、R3は水素原子
又はアシル基、R4は水素原子又は水酸基を示し、
アミノ基は保護されていてもよい。 本発明によれば、式の化合物は一般式 （式中R3′は水素原子又はアシル基を示し、
R1，R2及びR4は前記の意味を有する）で表わさ
れる化合物に鉱酸を作用させてメチルエーテルを
開裂し、得られるR3が水素原子である式の化
合物又はその保護された化合物を所望により更に
４位の基−NH−CH3をアシル化し、そして／又
は保護基を脱離することによつて製造される。 式の化合物のうち、R1がメチル基、R2が水
素原子、R4が水素原子である化合物は抗生物質
KA−6606類として知られており、サツカロポリ
スポラ属に属するKC−6606菌の培養液より単離
される（特開昭53−127401号、同54−66603号及
び同55−111497号各明細書参照）。 式の化合物のうち、R1がメチル基、R2が水
素原子、R4が水素基である化合物は抗生物質ホ
ーテイマイシン類として知られ、ミクロモノスポ
ラ・オリボアステロスポラに属する菌の培養液よ
り単離される（特開昭49−126892号、同50−
29789号及び同52−38513号各明細書参照）。 式の化合物のうち、R1が水素原子、R2が水
素原子又はメチル基、R4が水素原子である化合
物は抗生物質KA−7038類として知られており、
ストレプトミセス属に属するKC−7038菌の培養
液より単離される（特開昭54−141701号、同55−
11541号及び同55−162795号各明細書参照）。 上記３種の抗生物質群は何れも優れた抗菌活性
を有するが、そのメチルエーテル基を開裂した化
合物は更に優れた抗菌活性を示し、医薬として
有用である（特開昭55−55198号及び同53−95943
号各明細書参照）。 ホーテイマイシン類よりデー０−メチルホーテ
イマイシン類を製造する方法は、前記特開昭53−
95943号明細書に記載されている。すなわちホー
テイマイシンＢ（式においてR1がCH3、R2及び
R′3がＨ、R4がOHである化合物）に、エチルア
ミン又はエチレンジアミンのような溶媒中で過剰
の金属リチウムを反応させてデ−０−メチルホー
テイマイシンＢ（式においてR1がCH3、R2及び
R3がＨ、R4がOHである化合物）を製造し、次い
でこれをアシル化すると式においてR3が例え
ばグリシル基である化合物（デ−０−メチルホー
テイマイシンＡ）が得られる。更にこれを還元す
ると、R3がβ−アミノエチル基である化合物、
すなわちデ−０−メチル−４−Ｎ−（β−アミノ
エチル）−ホーテイマイシンＢが得られる。 しかしこの方法はその第１工程、すなわちメチ
ルエーテルの開裂工程の収率がわずかに1.3％程
度で、工業的に不利である。そこで本発明者ら
は、ホーテイマイシン類及びこれらと構造類似の
KA−6606物質及びKA−7038物質よりデ−０−
メチル体を工業的に利用可能な収率で製造すべく
種々検討したところ、これらに各種酸性試薬を反
応させることにより、公知方法の10倍以上の高収
率で式の化合物が得られることを見出して本発
明を完成した。 本発明を実施するに際しては、まず式の化合
物又はその保護された化合物に溶媒の存在もしく
は不存在下に酸に作用させる。これによつてメチ
ルエーテルの開裂及びメチルアミノ基に結合した
グリシル基などのアシル基の脱離が起こり、R3
が水素原子である式の化合物が生成する。 鉱酸としては、臭化水素酸、塩酸、沃化水素
酸、弗化水素酸、硫酸、燐酸などが用いられる。
反応は水溶液中で行うことが好ましい。 反応は室温ないし200℃の温度で通常は１〜30
時間で終了する。生成物は通常のカラムクロマト
グラフ法により、例えば陽イオン交換樹脂などを
用いて分離精製することができる。 こうして得られるR3が水素原子である式の
化合物の４位のメチルアミノ基をアシル化するこ
とにより、R3がアシル基である式の化合物が
得られる。アシル基としては、例えばグリシル
基、アラニル基、バリル基等のアミノ酸から誘導
されるものが好ましい。これらのアミノ基は、例
えば低級アルキル基、カルバモイル基、ホルミル
基などで置換されていてもよい。 アシル化を実施するに際しては、化合物
（R3＝Ｈ）に存在する１位、2′位及び6′位の３個
のアミノ基を保護したのち、所望のアシル基を形
成する置換カルボン酸又はその反応性誘導体を作
用させ、次いで必要に応じ他のアミノ基の保護基
を脱離して遊離化することが好ましい。 アミノ基の保護基としては、通常のペプチド合
成に用いられるものを使用できる。例えば炭酸モ
ノベンジルエステルの置換フエニルエステル、Ｎ
−オキシスクシンイミドエステル、Ｎ−オキシフ
タルイミドエステルなどの活性エステルを用いる
と、１位、2′位及び6′位のアミノ基のみがベンジ
ルオキシカルボニル基で保護される。この際金属
化合物例えば酢酸ニツケル、酢酸コバルト、酢酸
銅などを存在させることが好ましい。置換ベンジ
ルオキシカルボニル基、三級ブトキシカルボニル
基等の保護基を用いることもできる。４位のメチ
ルアミノ基が同時に保護された場合は、例えばこ
の生成物にアルカリを作用させて４位のメチルア
ミノ基に隣接する水酸基との間で環状カルバメー
トを形成させ、次いでこれを加水分解することに
より、４位のメチルアミノ基のみを遊離させるこ
とができる。 こうして得られた１位、2′位及び6′位のアミノ
基が保護された式の化合物（R3＝Ｈ）のメチ
ルアミノ基にアシル基を導入するには、通常のペ
プチド合成法を適用することができ、例えばアミ
ノ基の保護されたアミノ酸又は他の置換カルボン
酸又はその反応性酸誘導体を用いてアシル化す
る。反応性酸誘導体としては、酸ハロゲン化物、
活性エステル、例えばフエニルエステル、シアノ
メチルエステル、Ｎ−オキシスクシンイミドエス
テル、Ｎ−オキシフタルイミドエステルなど、酸
アジド、酸無水物、混合酸無水物及びその他のペ
プチド合成において用いられるものを利用でき
る。アミノ酸のアミノ保護基としては前記の保護
基と同様のものが用いられ、同一のものを用いる
ことが好ましい。 こうして得られたアミノ基が保護された式の
化合物から所望によりアミノ基の保護基を脱離す
るには、例えば接触還元法を用いることが好まし
い。触媒としては、例えばパラジウム、白金、ラ
ネーニツケル、ロジウム、ルテニウム、ニツケル
などが用いられる。 更に希望ならば、上記方法で得られたR3がア
シル基である化合物のアシル基を還元することに
よつて、R3が置換アルキル基である化合物を製
造することもできる。還元反応はアミノ基の保護
基の脱離反応を行う前に行うことが好ましく、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリ
ウム、ジボランなどの還元剤を用いる還元方法を
利用できる。 目的物質である式の化合物の単離精製は常法
により行われるが、カラムクロマトグラフイーを
利用することが好ましい。吸着剤としては、例え
ばCM−セフアデツクス、アンバーライトIRC−
50、アンバーライトIRC−84、アンバーライト
CG−50、アルボキシメチルセルロースなどの陽
イオン交換樹脂を用いることが好ましい。展開
は、アルカリ性水溶液、例えばアンモニア水溶
液、義酸アンモニウム水溶液などを展開溶媒とし
て用い、濃度勾配法又は濃度段階法により行うこ
とができる。溶出液より活性画分を集め、凍結乾
燥すると、化合物の純品を得ることができる。 目的化合物は精製操作により酸付加塩の形で
も得られるが、遊離塩基型の化合物を常法に従
つて酸付加塩に導くことができる。そのための酸
としては、例えば硫酸、塩酸、臭化水素酸、沃化
水素酸、燐酸、炭酸、硝酸等の無機酸又は酢酸、
フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル酸、コ
ハク酸等の有機酸が用いられる。 本発明の方法によれば、ホーテイマイシン類又
はこれと類似構造のKA−6606物質及びKA−
7038物質から、抗菌作用を有する目的物質が容
易にかつ好収率で得られる。 式の目的物質のうち、次式で表わされる化合
物は新規化合物である。 この式中Z1及びZ2は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子又はメチル基、Z3は水素原子又
はアシル基を示し、ただしZ1，Z2及びZ3がそれぞ
れ水素原子の場合は、４位のメチルアミノ基が３
位及び５位の水酸基に対してトランス配位である
場合を除き、そしてアミノ基は保護されていても
よい。 式ａの新規化合物は特に、KA−6606V、同
、KA7038、同、同及び同のデ−０−
メチル化合物ならびにそれらの４−Ｎ−アシル化
物である。 本発明方法により得られる式の化合物はいず
れも優れた抗菌活性を示し、抗菌性物質として医
薬、動物薬などとして有用であり、また種々の誘
導体を合成するための出発物質としても有用であ
る。その代表例として、５−デ−０−メチル４−
Ｎ−グリシル−KA−6606（化合物Ａ）及び５
−デ−０−メチル−KA−7038（化合物Ｂ）の
抗菌スペクトルを次表に示す。
ミノ配糖体の新規な製造法に関する。 この式中R1及びR2は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子又はメチル基、R3は水素原子
又はアシル基、R4は水素原子又は水酸基を示し、
アミノ基は保護されていてもよい。 本発明によれば、式の化合物は一般式 （式中R3′は水素原子又はアシル基を示し、
R1，R2及びR4は前記の意味を有する）で表わさ
れる化合物に鉱酸を作用させてメチルエーテルを
開裂し、得られるR3が水素原子である式の化
合物又はその保護された化合物を所望により更に
４位の基−NH−CH3をアシル化し、そして／又
は保護基を脱離することによつて製造される。 式の化合物のうち、R1がメチル基、R2が水
素原子、R4が水素原子である化合物は抗生物質
KA−6606類として知られており、サツカロポリ
スポラ属に属するKC−6606菌の培養液より単離
される（特開昭53−127401号、同54−66603号及
び同55−111497号各明細書参照）。 式の化合物のうち、R1がメチル基、R2が水
素原子、R4が水素基である化合物は抗生物質ホ
ーテイマイシン類として知られ、ミクロモノスポ
ラ・オリボアステロスポラに属する菌の培養液よ
り単離される（特開昭49−126892号、同50−
29789号及び同52−38513号各明細書参照）。 式の化合物のうち、R1が水素原子、R2が水
素原子又はメチル基、R4が水素原子である化合
物は抗生物質KA−7038類として知られており、
ストレプトミセス属に属するKC−7038菌の培養
液より単離される（特開昭54−141701号、同55−
11541号及び同55−162795号各明細書参照）。 上記３種の抗生物質群は何れも優れた抗菌活性
を有するが、そのメチルエーテル基を開裂した化
合物は更に優れた抗菌活性を示し、医薬として
有用である（特開昭55−55198号及び同53−95943
号各明細書参照）。 ホーテイマイシン類よりデー０−メチルホーテ
イマイシン類を製造する方法は、前記特開昭53−
95943号明細書に記載されている。すなわちホー
テイマイシンＢ（式においてR1がCH3、R2及び
R′3がＨ、R4がOHである化合物）に、エチルア
ミン又はエチレンジアミンのような溶媒中で過剰
の金属リチウムを反応させてデ−０−メチルホー
テイマイシンＢ（式においてR1がCH3、R2及び
R3がＨ、R4がOHである化合物）を製造し、次い
でこれをアシル化すると式においてR3が例え
ばグリシル基である化合物（デ−０−メチルホー
テイマイシンＡ）が得られる。更にこれを還元す
ると、R3がβ−アミノエチル基である化合物、
すなわちデ−０−メチル−４−Ｎ−（β−アミノ
エチル）−ホーテイマイシンＢが得られる。 しかしこの方法はその第１工程、すなわちメチ
ルエーテルの開裂工程の収率がわずかに1.3％程
度で、工業的に不利である。そこで本発明者ら
は、ホーテイマイシン類及びこれらと構造類似の
KA−6606物質及びKA−7038物質よりデ−０−
メチル体を工業的に利用可能な収率で製造すべく
種々検討したところ、これらに各種酸性試薬を反
応させることにより、公知方法の10倍以上の高収
率で式の化合物が得られることを見出して本発
明を完成した。 本発明を実施するに際しては、まず式の化合
物又はその保護された化合物に溶媒の存在もしく
は不存在下に酸に作用させる。これによつてメチ
ルエーテルの開裂及びメチルアミノ基に結合した
グリシル基などのアシル基の脱離が起こり、R3
が水素原子である式の化合物が生成する。 鉱酸としては、臭化水素酸、塩酸、沃化水素
酸、弗化水素酸、硫酸、燐酸などが用いられる。
反応は水溶液中で行うことが好ましい。 反応は室温ないし200℃の温度で通常は１〜30
時間で終了する。生成物は通常のカラムクロマト
グラフ法により、例えば陽イオン交換樹脂などを
用いて分離精製することができる。 こうして得られるR3が水素原子である式の
化合物の４位のメチルアミノ基をアシル化するこ
とにより、R3がアシル基である式の化合物が
得られる。アシル基としては、例えばグリシル
基、アラニル基、バリル基等のアミノ酸から誘導
されるものが好ましい。これらのアミノ基は、例
えば低級アルキル基、カルバモイル基、ホルミル
基などで置換されていてもよい。 アシル化を実施するに際しては、化合物
（R3＝Ｈ）に存在する１位、2′位及び6′位の３個
のアミノ基を保護したのち、所望のアシル基を形
成する置換カルボン酸又はその反応性誘導体を作
用させ、次いで必要に応じ他のアミノ基の保護基
を脱離して遊離化することが好ましい。 アミノ基の保護基としては、通常のペプチド合
成に用いられるものを使用できる。例えば炭酸モ
ノベンジルエステルの置換フエニルエステル、Ｎ
−オキシスクシンイミドエステル、Ｎ−オキシフ
タルイミドエステルなどの活性エステルを用いる
と、１位、2′位及び6′位のアミノ基のみがベンジ
ルオキシカルボニル基で保護される。この際金属
化合物例えば酢酸ニツケル、酢酸コバルト、酢酸
銅などを存在させることが好ましい。置換ベンジ
ルオキシカルボニル基、三級ブトキシカルボニル
基等の保護基を用いることもできる。４位のメチ
ルアミノ基が同時に保護された場合は、例えばこ
の生成物にアルカリを作用させて４位のメチルア
ミノ基に隣接する水酸基との間で環状カルバメー
トを形成させ、次いでこれを加水分解することに
より、４位のメチルアミノ基のみを遊離させるこ
とができる。 こうして得られた１位、2′位及び6′位のアミノ
基が保護された式の化合物（R3＝Ｈ）のメチ
ルアミノ基にアシル基を導入するには、通常のペ
プチド合成法を適用することができ、例えばアミ
ノ基の保護されたアミノ酸又は他の置換カルボン
酸又はその反応性酸誘導体を用いてアシル化す
る。反応性酸誘導体としては、酸ハロゲン化物、
活性エステル、例えばフエニルエステル、シアノ
メチルエステル、Ｎ−オキシスクシンイミドエス
テル、Ｎ−オキシフタルイミドエステルなど、酸
アジド、酸無水物、混合酸無水物及びその他のペ
プチド合成において用いられるものを利用でき
る。アミノ酸のアミノ保護基としては前記の保護
基と同様のものが用いられ、同一のものを用いる
ことが好ましい。 こうして得られたアミノ基が保護された式の
化合物から所望によりアミノ基の保護基を脱離す
るには、例えば接触還元法を用いることが好まし
い。触媒としては、例えばパラジウム、白金、ラ
ネーニツケル、ロジウム、ルテニウム、ニツケル
などが用いられる。 更に希望ならば、上記方法で得られたR3がア
シル基である化合物のアシル基を還元することに
よつて、R3が置換アルキル基である化合物を製
造することもできる。還元反応はアミノ基の保護
基の脱離反応を行う前に行うことが好ましく、水
素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリ
ウム、ジボランなどの還元剤を用いる還元方法を
利用できる。 目的物質である式の化合物の単離精製は常法
により行われるが、カラムクロマトグラフイーを
利用することが好ましい。吸着剤としては、例え
ばCM−セフアデツクス、アンバーライトIRC−
50、アンバーライトIRC−84、アンバーライト
CG−50、アルボキシメチルセルロースなどの陽
イオン交換樹脂を用いることが好ましい。展開
は、アルカリ性水溶液、例えばアンモニア水溶
液、義酸アンモニウム水溶液などを展開溶媒とし
て用い、濃度勾配法又は濃度段階法により行うこ
とができる。溶出液より活性画分を集め、凍結乾
燥すると、化合物の純品を得ることができる。 目的化合物は精製操作により酸付加塩の形で
も得られるが、遊離塩基型の化合物を常法に従
つて酸付加塩に導くことができる。そのための酸
としては、例えば硫酸、塩酸、臭化水素酸、沃化
水素酸、燐酸、炭酸、硝酸等の無機酸又は酢酸、
フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル酸、コ
ハク酸等の有機酸が用いられる。 本発明の方法によれば、ホーテイマイシン類又
はこれと類似構造のKA−6606物質及びKA−
7038物質から、抗菌作用を有する目的物質が容
易にかつ好収率で得られる。 式の目的物質のうち、次式で表わされる化合
物は新規化合物である。 この式中Z1及びZ2は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子又はメチル基、Z3は水素原子又
はアシル基を示し、ただしZ1，Z2及びZ3がそれぞ
れ水素原子の場合は、４位のメチルアミノ基が３
位及び５位の水酸基に対してトランス配位である
場合を除き、そしてアミノ基は保護されていても
よい。 式ａの新規化合物は特に、KA−6606V、同
、KA7038、同、同及び同のデ−０−
メチル化合物ならびにそれらの４−Ｎ−アシル化
物である。 本発明方法により得られる式の化合物はいず
れも優れた抗菌活性を示し、抗菌性物質として医
薬、動物薬などとして有用であり、また種々の誘
導体を合成するための出発物質としても有用であ
る。その代表例として、５−デ−０−メチル４−
Ｎ−グリシル−KA−6606（化合物Ａ）及び５
−デ−０−メチル−KA−7038（化合物Ｂ）の
抗菌スペクトルを次表に示す。
【表】
実施例 １
(a) デ−０−メチル−KA−6606：
KA−6606の遊離塩基1.1gを48％臭化水素酸
100mlに溶解し、封管中で90℃において４時間加
熱する。反応液を減圧下で濃縮乾固し、残査を水
に溶解し、濃アンモニア水で中和する。この溶液
をCM−セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）400ml
を充填したカラムに吸着させ、0.05Nから0.5Nま
でのアンモニア水で溶出する。デ−０−メチル−
KA−6606を含む画分を集めて常法により仕上
げ処理すると、無色物質としてデ−０−メチル−
KA−6606620mgが得られる。 比旋光度：〔α〕25 D＋140゜（C2、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.53（3H、ｄ、Ｊ＝6.3Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.88（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.46（1H、ｄ、Ｊ＝3.4Hz、アノメリツクＨ） 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.69 9.73 16.48 (b) テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−6606の遊離塩基60mg
をメタノール５mlに溶解し、−10℃でＮ−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシ−スクシンイミド75mg
を加えて撹拌する。１時間後及び２時間後に前記
の活性エステル試薬30mg及び20mgをそれぞれ追加
し、更に２時間同温度で撹拌する。次いで反応液
を減圧下に濃縮し、残査をクロロホルム10mlに溶
解し、水洗して乾燥したのち溶媒を留去する。 残査をジオキサン3.5mlに溶解し、トリエチル
アミン0.2ml及びＮ−ヒドロキシスクシンイミジ
ル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシン100
mgを加え、60℃で１夜加温する。反応液を濃縮乾
固し、残査をクロロホルム10mlに溶解し、水洗及
び乾燥したのち溶媒を留去する。残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーによりクロロホルム
−メタノール（50：１）で溶出したのち、常法に
より仕上げ処理すると、無色固体としてテトラキ
ス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−デ−０−メ
チル−KA−660662mgが得られる。 比旋光度：〔α〕25 D＋37゜（C2、CHCI3） NMR値：δCDCI3ppm 1.01（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.91（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） IR値：νCHCl 3naxcm-1 1640（アミド） 元素分析値：C48H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.28 6.35 7.55 (c) デ−０−メチル−KA−6606： テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
デ−０−メチル−KA−6606 60mgを酢酸1.2ml
に溶解し、パラジウム黒30mgの存在下に常温及び
常圧で水添分解を行う。触媒を去し、液を水
100mlで希釈したのち濃アンモニア水で中和する。
この溶液をCM−セフアデツクスＣ−25（NH4 +
型）10mlを充填したカラムに吸着させ、0.05N及
び0.5Nのアンモニア水の間で濃度勾配法により
溶出する。目的物質を含む画分を集めて凍結乾燥
すると、融点172〜175℃（分解）の無色固体とし
てデ−０−メチル−KA−6606 21mgが得られ
る。 元素分析値：C16H33N5O5・H2CO3・H2Oとし
て Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 44.83 8.19 15.38 実測値(%) 44.47 8.38 15.05 常法により得られるこの生成物の塩酸塩は次の
性質を有する。 比旋光度：〔α〕25 D＋110゜（C2、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.83（3H、ｄ、Ｊ＝6.6Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.63（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 6.03（1H、ｄ、Ｊ＝3.6Hz、アノメリツクＨ 実施例 ２ (a) デ−０−メチルホーテイマイシンＢ： ホーテイマイシンＢの遊離塩基100mgを52％沃
化水素酸５mlに溶解し、封管中37℃で10日間反応
させる。反応終了後、減圧下に沃化水素酸を留去
し、残査を水で希釈したのちアンモニア水で中和
する。この溶液をCM−セフアデツクスＣ−25
（NH4 +型）のカラムに付し、0.05N及び0.5Nのア
ンモニア水の間で濃度勾配法により溶出する。目
的物質を含む画分を集めて濃縮乾固すると、デ−
０−メチルホーテイマイシンＢの遊離塩基16mgが
得られる。 比旋光度：〔α〕23 D＋43゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.50（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、CH−ＣH3 ） 2.83（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.54（1H、ｄ、Ｊ＝3.5Hz、アノメリツクＨ） (b) デ−０−メチルホーテイマイシンＡ： デ−０−メチルホーテイマイシンＢの遊離塩基
30mgを用い、実施例1bと同様に処理すると、無
色固体としてテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−デ−０−メチルホーテイマイシンA34
mgが得られる。 このものを酢酸1.0mlに溶解し、実施例1cと同
様にして水添分解及び精製を行うと、無色固体と
してデ−０−メチルホーテイマイシンA10mgが得
られる。 元素分析値：C16H33N5O6・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 46.93 8.62 17.10 実測値(%) 46.66 8.47 16.81 この遊離塩基より常法に従つて製造される塩酸
塩は下記の性質を有する。 比旋光度：〔α〕23 D＋82゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.80（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.60（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.78（1H、ｄ、Ｊ＝3.5Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ３ (a) デ−０−メチル−KA−6606： KA−6606の遊離塩基350mgを56％沃化水素
酸3.5mlに溶解し、封管中60℃で４時間加温する。
反応液を減圧下に濃縮乾固し、残査を水に溶解し
て濃アンモニア水で中和する。この溶液をCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）30mlを充填し
たカラムに吸着させ、0.25Nから0.35Nまでのア
ンモニア水で溶出する。目的物質を含む画分を集
めて濃縮乾固すると、デ−０−メチル−KA−
6606265mgが得られる。 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.65 9.44 16.61 比旋光度：〔α〕23 D＋87゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.54（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.85（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.56（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） (b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−6606163mgをメタノ
ール５mlに溶解し、酢酸ニツケル273mgを加えて
室温で30分間撹拌したのち、Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルオキシスクシンイミド454mgを加え、
同温度で２時間撹拌する。反応混合物に濃アンモ
ニア水2.5mlを加え、更に２時間撹拌する。反応
液を減圧下に濃縮乾固し、残査をクロロホルム20
mlと3N−アンモニア水に溶解して振盪する。ク
ロロホルム層を分取し、3N−アンモニア水で２
回、水で２回洗浄したのち乾燥して溶媒を留去す
る。 残査をジオキサン９mlに溶解し、Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルグリシンの２，４−ジニトロフ
エニルエステル330mg及びトリエチルアミン0.3ml
を加え、60℃で１時間加温する。反応液に濃アン
モニア水１mlを加えて１時間放置したのち、溶媒
を留去する。残査をクロロホルム20mlに溶解し、
0.5Nの水酸化ナトリウムで３回、水で２回洗浄
したのち乾燥して溶媒を留去する。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、クロロホ
ルム−メタノール（50：１）で溶出する。目的物
質を含む画分を集めて濃縮すると、無色固体の
１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシ
ル−デ−０−メチル−KA−6606288mgが得ら
れる。 元素分析値：C4H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.43 6.21 7.44 比旋光度：〔α〕23 D＋32゜（C1、CHCl3） NMR値：δCDCl3ppm 2.92（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 1.21（3H、ｄ、ｊ＝６Hz、CH−ＣH3 ） (c) デ−０−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606： １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−０−メチル−KA−6606288mgを酢
酸４mlに溶解し、パラジウム黒50mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水400
mlで希釈した後、アンモニア水で中和し、CM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.35Nのアンモニア水の間で濃度勾
配法により展開する。目的物質質を含む画分を集
めて凍結乾燥すると、無色固体のデ−０−メチル
−４−Ｎ−グリシル−KA−6606105mgが得ら
れる。 元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 48.84 8.97 17.80 実測値(%) 48.55 8.83 17.48 比旋光度：〔α〕23 D＋115゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.52（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.62（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.40（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ４ (a) デ−０−メチル−KA−6606： KA−6606100mgを48％臭化水素酸５mlに溶
解し、37℃で10日間静置する。反応液を37℃以下
で濃縮乾固し、残査を水50mlに溶解してアンモニ
ア水で中和後、CM−セフアデツクスＣ−25
（NH4 +型）のカラムに付し、0.05N及び0.5Nのア
ンモニア水で濃度勾配法によつて展開する。目的
物質を含む部分を濃縮すると、デ−０−メチル−
KA−660619mgが得られる。 この生成物の性質は、実施例3aで得られたデ
−０−メチル−KA−6606の性質とすべて一致
した。 (b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−660619mgをメタノー
ル0.8mlに溶解し、ベンジルｐ−ニトロフエニル
カルボネート90mgを加えて室温で一夜撹拌する。
反応混合物に30％メチルアミン−エタノール溶液
0.1mlを加え、更に１時間撹拌したのち反応液を
濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解し、水洗
して乾燥する。これをジオキサン１mlに溶解し、
トリエチルアミン0.05ml及びＮ−ヒドロキシスク
シンイミジル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグ
リシン35mgを加えて80℃で５時間加温する。反応
液を濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解して
不溶物を過したのちクロロホルム層を水洗乾燥
し、溶媒を留去する。残査をシリカゲルプレパラ
テイブ・クロマトグラフイー（クロロホルム−メ
タノール15：１）により分離精製すると、無色固
体として１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ルグリシル−デ−０−メチル−KA−660623mg
が得られる。 この生成物の性質は実施例3bで得られた化合
物の性質と一致した。 (c) デ−０−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606： １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−０−メチル−KA−660623mgを酢酸
0.5mlに溶解し、パラジウム黒10mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水50ml
で希釈したのち、アンモニア水で中和してCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.4Nのアンモニア水の間で濃度勾配
法により展開する。目的物質を含む画分を集めて
凍結乾燥すると、無色固体としてデ−０−メチル
−４−Ｎ−グリシル−KA−6606７mgが得られ
る。 この生成物の性質は実施例3cで得られた化合物
のそれと一致した。 実施例 ５ デ−０−メチル−KA−7038： KA−7038の遊離塩基302mgを用い、実施例
4aと同様にして反応させ、精製すると、無色粉
末のデ−０−メチル−KA−7038220mgが得ら
れる。 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.71 9.73 16.33 比旋光度：〔α〕25 D＋40゜（C0.5、H2O） NMR値：δD2Oppm 2.80（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 2.84（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.53（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ６ (a) テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−デ−０−メチル−KA−7038： デ−０−メチル−KA−7038190mgを用い、
実施例3bと同様にして反応させ、精製すると、
無色固体の１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニルグリシル−デ−０−メチル−KA−7038、
すなわちテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−デ−０−メチル−KA−7038350mgが得
られる。 元素分析値：C48H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.01 6.49 7.42 比旋光度：〔α〕25 D＋55゜（C1、CHCl3） NMR値：δCDCl3ppm 2.92（6H、ｓ、２×Ｎ−ＣH3 ） (b) デ−０−メチル−KA−7038： テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
デ−０−メチル−KA−7038320mgを用い、実
施例5cと同様に処理すると、無色固体のデ−０−
メチル−KA−7038112mgが得られる。 元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 48.84 8.97 17.80 実測値(%) 48.54 8.69 17.98 比旋光度：〔α〕25 D＋126゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 2.83（3H、ｓ、6′−Ｎ−ＣH3 ） 3.63（3H、ｓ、４−Ｎ−ＣH3 ） 5.42（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、アノメリツクＨ）。
100mlに溶解し、封管中で90℃において４時間加
熱する。反応液を減圧下で濃縮乾固し、残査を水
に溶解し、濃アンモニア水で中和する。この溶液
をCM−セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）400ml
を充填したカラムに吸着させ、0.05Nから0.5Nま
でのアンモニア水で溶出する。デ−０−メチル−
KA−6606を含む画分を集めて常法により仕上
げ処理すると、無色物質としてデ−０−メチル−
KA−6606620mgが得られる。 比旋光度：〔α〕25 D＋140゜（C2、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.53（3H、ｄ、Ｊ＝6.3Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.88（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.46（1H、ｄ、Ｊ＝3.4Hz、アノメリツクＨ） 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.69 9.73 16.48 (b) テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−6606の遊離塩基60mg
をメタノール５mlに溶解し、−10℃でＮ−ベンジ
ルオキシカルボニルオキシ−スクシンイミド75mg
を加えて撹拌する。１時間後及び２時間後に前記
の活性エステル試薬30mg及び20mgをそれぞれ追加
し、更に２時間同温度で撹拌する。次いで反応液
を減圧下に濃縮し、残査をクロロホルム10mlに溶
解し、水洗して乾燥したのち溶媒を留去する。 残査をジオキサン3.5mlに溶解し、トリエチル
アミン0.2ml及びＮ−ヒドロキシスクシンイミジ
ル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシン100
mgを加え、60℃で１夜加温する。反応液を濃縮乾
固し、残査をクロロホルム10mlに溶解し、水洗及
び乾燥したのち溶媒を留去する。残査をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフイーによりクロロホルム
−メタノール（50：１）で溶出したのち、常法に
より仕上げ処理すると、無色固体としてテトラキ
ス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−デ−０−メ
チル−KA−660662mgが得られる。 比旋光度：〔α〕25 D＋37゜（C2、CHCI3） NMR値：δCDCI3ppm 1.01（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.91（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） IR値：νCHCl 3naxcm-1 1640（アミド） 元素分析値：C48H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.28 6.35 7.55 (c) デ−０−メチル−KA−6606： テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
デ−０−メチル−KA−6606 60mgを酢酸1.2ml
に溶解し、パラジウム黒30mgの存在下に常温及び
常圧で水添分解を行う。触媒を去し、液を水
100mlで希釈したのち濃アンモニア水で中和する。
この溶液をCM−セフアデツクスＣ−25（NH4 +
型）10mlを充填したカラムに吸着させ、0.05N及
び0.5Nのアンモニア水の間で濃度勾配法により
溶出する。目的物質を含む画分を集めて凍結乾燥
すると、融点172〜175℃（分解）の無色固体とし
てデ−０−メチル−KA−6606 21mgが得られ
る。 元素分析値：C16H33N5O5・H2CO3・H2Oとし
て Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 44.83 8.19 15.38 実測値(%) 44.47 8.38 15.05 常法により得られるこの生成物の塩酸塩は次の
性質を有する。 比旋光度：〔α〕25 D＋110゜（C2、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.83（3H、ｄ、Ｊ＝6.6Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.63（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 6.03（1H、ｄ、Ｊ＝3.6Hz、アノメリツクＨ 実施例 ２ (a) デ−０−メチルホーテイマイシンＢ： ホーテイマイシンＢの遊離塩基100mgを52％沃
化水素酸５mlに溶解し、封管中37℃で10日間反応
させる。反応終了後、減圧下に沃化水素酸を留去
し、残査を水で希釈したのちアンモニア水で中和
する。この溶液をCM−セフアデツクスＣ−25
（NH4 +型）のカラムに付し、0.05N及び0.5Nのア
ンモニア水の間で濃度勾配法により溶出する。目
的物質を含む画分を集めて濃縮乾固すると、デ−
０−メチルホーテイマイシンＢの遊離塩基16mgが
得られる。 比旋光度：〔α〕23 D＋43゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.50（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、CH−ＣH3 ） 2.83（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.54（1H、ｄ、Ｊ＝3.5Hz、アノメリツクＨ） (b) デ−０−メチルホーテイマイシンＡ： デ−０−メチルホーテイマイシンＢの遊離塩基
30mgを用い、実施例1bと同様に処理すると、無
色固体としてテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−デ−０−メチルホーテイマイシンA34
mgが得られる。 このものを酢酸1.0mlに溶解し、実施例1cと同
様にして水添分解及び精製を行うと、無色固体と
してデ−０−メチルホーテイマイシンA10mgが得
られる。 元素分析値：C16H33N5O6・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 46.93 8.62 17.10 実測値(%) 46.66 8.47 16.81 この遊離塩基より常法に従つて製造される塩酸
塩は下記の性質を有する。 比旋光度：〔α〕23 D＋82゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.80（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.60（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.78（1H、ｄ、Ｊ＝3.5Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ３ (a) デ−０−メチル−KA−6606： KA−6606の遊離塩基350mgを56％沃化水素
酸3.5mlに溶解し、封管中60℃で４時間加温する。
反応液を減圧下に濃縮乾固し、残査を水に溶解し
て濃アンモニア水で中和する。この溶液をCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）30mlを充填し
たカラムに吸着させ、0.25Nから0.35Nまでのア
ンモニア水で溶出する。目的物質を含む画分を集
めて濃縮乾固すると、デ−０−メチル−KA−
6606265mgが得られる。 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.65 9.44 16.61 比旋光度：〔α〕23 D＋87゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.54（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 2.85（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.56（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） (b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−6606163mgをメタノ
ール５mlに溶解し、酢酸ニツケル273mgを加えて
室温で30分間撹拌したのち、Ｎ−ベンジルオキシ
カルボニルオキシスクシンイミド454mgを加え、
同温度で２時間撹拌する。反応混合物に濃アンモ
ニア水2.5mlを加え、更に２時間撹拌する。反応
液を減圧下に濃縮乾固し、残査をクロロホルム20
mlと3N−アンモニア水に溶解して振盪する。ク
ロロホルム層を分取し、3N−アンモニア水で２
回、水で２回洗浄したのち乾燥して溶媒を留去す
る。 残査をジオキサン９mlに溶解し、Ｎ−ベンジル
オキシカルボニルグリシンの２，４−ジニトロフ
エニルエステル330mg及びトリエチルアミン0.3ml
を加え、60℃で１時間加温する。反応液に濃アン
モニア水１mlを加えて１時間放置したのち、溶媒
を留去する。残査をクロロホルム20mlに溶解し、
0.5Nの水酸化ナトリウムで３回、水で２回洗浄
したのち乾燥して溶媒を留去する。残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフイーに付し、クロロホ
ルム−メタノール（50：１）で溶出する。目的物
質を含む画分を集めて濃縮すると、無色固体の
１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリシ
ル−デ−０−メチル−KA−6606288mgが得ら
れる。 元素分析値：C4H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.43 6.21 7.44 比旋光度：〔α〕23 D＋32゜（C1、CHCl3） NMR値：δCDCl3ppm 2.92（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 1.21（3H、ｄ、ｊ＝６Hz、CH−ＣH3 ） (c) デ−０−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606： １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−０−メチル−KA−6606288mgを酢
酸４mlに溶解し、パラジウム黒50mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水400
mlで希釈した後、アンモニア水で中和し、CM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.35Nのアンモニア水の間で濃度勾
配法により展開する。目的物質質を含む画分を集
めて凍結乾燥すると、無色固体のデ−０−メチル
−４−Ｎ−グリシル−KA−6606105mgが得ら
れる。 元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 48.84 8.97 17.80 実測値(%) 48.55 8.83 17.48 比旋光度：〔α〕23 D＋115゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 1.52（3H、ｄ、Ｊ＝6.5Hz、Ｃ−ＣH3 ） 3.62（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.40（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ４ (a) デ−０−メチル−KA−6606： KA−6606100mgを48％臭化水素酸５mlに溶
解し、37℃で10日間静置する。反応液を37℃以下
で濃縮乾固し、残査を水50mlに溶解してアンモニ
ア水で中和後、CM−セフアデツクスＣ−25
（NH4 +型）のカラムに付し、0.05N及び0.5Nのア
ンモニア水で濃度勾配法によつて展開する。目的
物質を含む部分を濃縮すると、デ−０−メチル−
KA−660619mgが得られる。 この生成物の性質は、実施例3aで得られたデ
−０−メチル−KA−6606の性質とすべて一致
した。 (b) １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカ
ルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
グリシル−デ−０−メチル−KA−6606： デ−０−メチル−KA−660619mgをメタノー
ル0.8mlに溶解し、ベンジルｐ−ニトロフエニル
カルボネート90mgを加えて室温で一夜撹拌する。
反応混合物に30％メチルアミン−エタノール溶液
0.1mlを加え、更に１時間撹拌したのち反応液を
濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解し、水洗
して乾燥する。これをジオキサン１mlに溶解し、
トリエチルアミン0.05ml及びＮ−ヒドロキシスク
シンイミジル−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグ
リシン35mgを加えて80℃で５時間加温する。反応
液を濃縮乾固し、残査をクロロホルムに溶解して
不溶物を過したのちクロロホルム層を水洗乾燥
し、溶媒を留去する。残査をシリカゲルプレパラ
テイブ・クロマトグラフイー（クロロホルム−メ
タノール15：１）により分離精製すると、無色固
体として１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキ
シカルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニ
ルグリシル−デ−０−メチル−KA−660623mg
が得られる。 この生成物の性質は実施例3bで得られた化合
物の性質と一致した。 (c) デ−０−メチル−４−Ｎ−グリシル−KA−
6606： １，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボニルグリ
シル−デ−０−メチル−KA−660623mgを酢酸
0.5mlに溶解し、パラジウム黒10mgを加えて室温
で接触還元する。反応液を過し、液を水50ml
で希釈したのち、アンモニア水で中和してCM−
セフアデツクスＣ−25（NH4 +型）のカラムに付
し、0.05Nと0.4Nのアンモニア水の間で濃度勾配
法により展開する。目的物質を含む画分を集めて
凍結乾燥すると、無色固体としてデ−０−メチル
−４−Ｎ−グリシル−KA−6606７mgが得られ
る。 この生成物の性質は実施例3cで得られた化合物
のそれと一致した。 実施例 ５ デ−０−メチル−KA−7038： KA−7038の遊離塩基302mgを用い、実施例
4aと同様にして反応させ、精製すると、無色粉
末のデ−０−メチル−KA−7038220mgが得ら
れる。 元素分析値：C14H30N4O4・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 49.98 9.59 16.65 実測値(%) 49.71 9.73 16.33 比旋光度：〔α〕25 D＋40゜（C0.5、H2O） NMR値：δD2Oppm 2.80（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 2.84（3H、ｓ、Ｎ−ＣH3 ） 5.53（1H、ｄ、Ｊ＝3.3Hz、アノメリツクＨ） 実施例 ６ (a) テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル
−デ−０−メチル−KA−7038： デ−０−メチル−KA−7038190mgを用い、
実施例3bと同様にして反応させ、精製すると、
無色固体の１，2′，6′−トリス−Ｎ−ベンジルオ
キシカルボニル−４−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニルグリシル−デ−０−メチル−KA−7038、
すなわちテトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボ
ニル−デ−０−メチル−KA−7038350mgが得
られる。 元素分析値：C48H57N5O13として Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 63.22 6.30 7.68 実測値(%) 63.01 6.49 7.42 比旋光度：〔α〕25 D＋55゜（C1、CHCl3） NMR値：δCDCl3ppm 2.92（6H、ｓ、２×Ｎ−ＣH3 ） (b) デ−０−メチル−KA−7038： テトラキス−Ｎ−ベンジルオキシカルボニル−
デ−０−メチル−KA−7038320mgを用い、実
施例5cと同様に処理すると、無色固体のデ−０−
メチル−KA−7038112mgが得られる。 元素分析値：C16H33N5O5・H2Oとして Ｃ Ｈ Ｎ 計算値(%) 48.84 8.97 17.80 実測値(%) 48.54 8.69 17.98 比旋光度：〔α〕25 D＋126゜（C1、H2O） NMR値：δD2Oppm 2.83（3H、ｓ、6′−Ｎ−ＣH3 ） 3.63（3H、ｓ、４−Ｎ−ＣH3 ） 5.42（1H、ｄ、Ｊ＝３Hz、アノメリツクＨ）。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 平面構造として一般式 （式中R1及びR2は同一でも異なつてもよく、
それぞれ水素原子又はメチル基、R3′は水素原子
又はアシル基、R4は水素原子又は水酸基を示し、
アミノ基は保護されていてもよい）で表わされる
化合物に鉱酸を作用させてメチルエーテルを開裂
し、R3が水素原子の場合は所望により基−NH−
CH3をアシル化し、そして／又は保護基を脱離す
ることを特徴とする、平面構造として一般式 （式中R3は水素原子又はアシル基、R1，R2及
びR4は前記の意味を有する）で表わされる化合
物又はその酸付加塩の製造法。
Priority Applications (12)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7676879A JPS562997A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Preparation of aminoglycoside, and novel aminoglycoside |
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1979
- 1979-06-20 JP JP7676879A patent/JPS562997A/ja active Granted
Patent Citations (1)
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| JPS5555198A (en) * | 1978-10-18 | 1980-04-22 | Kowa Co | Novel antibiotic substance |
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