JPS63303824A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はガラス管の内側に気相よりガラスを化学的に蒸
着させて被覆し、この内側被覆工程中に１つまたはそれ
以上の蒸着パラメータを変化させ、このガラス管を圧潰
させてロッドとし、ロッドの引抜きによりファイバを形
成して、屈折率プロフィルが特定の周縁部、あるいは半
径方向、あるいは軸方向の光学的変調構造を有する光フ
ァイバの製造方法に関する。

ここにおいていう屈折率プロフィルが、上述の如き変調
構造を示す光ファイバとは、とくに伝送帯域幅がファイ
バ長の平方根にほぼ対応する長さ従属性を有するマルチ
モード光ファイバ、並びに大なるファイバ長にわたって
偏光維持特性を有する単モード光ファイバの両者を意味
するものである。

マルチモード光ファイバを使用するときは、とくに回転
対称性の点で、その屈折率プロフィルがファイバの全長
にわたって理想的な予め計算しうる変化を示すものによ
り大なる伝送帯域幅が実現できる。現在既知の製造方法
によっては、これらの要求は限定された一部のものしか
満足されない。

方法によっては、システム的半径方向プロフィル誤差（
ディップ・層構造等）、回転非対称、軸方向変動等が生
じ、これらは実用上このようなインデックスが変化する
マルチモードファイバの伝送帯域幅を減少させ、典型的
には理論的に可能な値の１０分の１以下にもこれを減少
させる。

しかしながらこのような屈折率プロフィルに対し、半径
方向及び／または軸方向に正確に規定された変調振幅及
び変調周波数を有する周期的変調を印加することにより
、伝送特性に及ぼすこの種プロフィル誤差の影響を減少
させることができる。

これらの変調を加えると、伝送帯域幅が直線的に減少す
ることはなくなり、ファイバ長の平方根のみに応じて減
少する。（アプライド　オプティカル２０　（１９８１
）　２３１４〜２３１８　；　ＤＥ−ＡＳ　２７３３８
７２参照）このような特徴（ピヘエビアー）は、とくに
大なるトラック長にわたって伝送を行うときに好ましく
、これは次の如き実施例よりも明らかである。

１、２ＧＨｚ−ｋｍの帯域幅・長さ積を有するグレーテ
ッド　インデックス　マルチモードファイバを用い１８
ｋｍの長さを有するシステム内で伝送を行うとときの全
伝送帯域幅は、直線的分散特性の場合は、僅か約６５Ｍ
Ｈｚであるが、ファイバ長の平方根従属分散特性とする
とこの帯域幅は約２８０　ＬＩ　Ｈｚとなる。

また理想的な回転対称性を有し、かつ長さにわたって一
定な屈折率プロフィルを有するファイバは固有伝送特性
により、不利な、すなわち直線的パルス拡幅を行う。従
って特定なプロフィル変調を加えることは屈折率プロフ
ィルが理想的である場合にも望ましい。かくするとシス
テム的伝送特性を向上させる。

ＭＣＶＤ−、ＯＶＤ及びＶＡＤ法によって蒸着を行うと
、各方法に固有の理由によって一般にプロフィル変動が
生ずる。これらのプロフィル変動は、導光性（コンダク
ティビティ）特性に一部不利に影響し、例えば層数が少
ないときのプロフィル近似（アプロクシメーション）の
場合がこれであり、一部は所望の方向に影響し、例えば
ＶＡＤ法におけるらせんプロフィル変調がこれである。

（Ａｐｐｌ、　０ｐｔ（１９８１）２３１４−２３１８
）　Ｌかしながら上述の各方法では、何れも同じく変調
が自動的に発生し、理論上要求される最適変調構造とな
るような特定な蒸着パラメータを経過したものとはなし
得ない。その理由は、これらの各方法に固有のものであ
り、とくに気相中に均一に発生するすす（スート）の粒
子を溶融させる必要があることによる。この現象は、原
理的に大きな蒸着領域、高度の熱イナーシャ（慣性）、
及び蒸着中に基体を連続的に回転させる必要性に導かれ
る。このような不利益はＰＣＶＤ法蒸着によっては生じ
ない。（例えば米国特許Ｒｅ３０６３５、及び４．３１
４．８３３参照）特にガラス層の基体温度を低くして、
局部的な遅延のない（ディレィフリー）蒸着が、基体管
を回転させず、また別個の焼結工程を用いずに可能とな
る。この方法のみによって高度の回転対称性を有し、は
ぼ理想的な半径方向プロフィル変化を有する屈折率プロ
フィルが製造でき、プロフィル変動をほぼ回避すること
ができる。　（ＢＰ−Ｏ３１３２０１１）光学的センサ
及び広帯域幅通信伝送等の特定な用途においては、伝送
する光の偏光状態を維持するプロフィル構造を有する単
モード光ファイバを製造することが望ましい。このよう
なプロフィル構造においてはコアの幾何学的特性または
屈折率プロフィルが顕著な楕円特性を示し、全ファイバ
長にわたって非回転形態であり、他の場合に生じうる偏
光分散を理論的に抑制する結果をもたらす。

しかしながら従来知られている方法によってこのような
構造を得るには、弾性的光学非対称を経るか、蒸着材料
の幾何学的構造を変化させるを要し、（例えばεＰ−Ｏ
３６７０１７参照）これらは長時間を必要とし、高価に
つくので極めて特定された用途にしか使用できない。

本発明の目的は、マルチモードグレード付インデンクス
の所望の光学的及び／または幾何学的プロフィル変調を
有する光ファイバ、及び単（モノ）モードファイバ構造
の光学的及び／または幾何学的非対称を有する光ファイ
バの特に容易な製造方法を得るにある。

本発明は上述の目的を達成するため、内側被覆をＰＣＶ
Ｄ法によって行い、このｐｃｖｏ法では管の内壁に移行
する材料の均一性に影響するパラメータ、あるいはガラ
ス蒸着率（イールド）に影響するパラメータを管の周縁
にわたって変化させることを特徴とする。

本発明の変形実施例においては、内側被覆をＰＣＶＤ法
によって行い、このＰＣＶＤ法では、プラズマ形成装置
に対するローカル蒸着ゾーンの軸位置に影響する各バラ
メークを変化させることを特徴とする。

本明細書の特許請求の範囲の実施態様項は有利かつ効果
的な方法を規定している。例えば上記第１実施例では、
温度分布の特定の外部回転非対称を調整するか、あるい
はプラズマリアクタ内に基体管を非中心配置するか、こ
れらの両者の手段を講することによって管の周縁にわた
り、すなわち所定角度で５ｉＯ７とドープ材料の指定さ
れた蒸着非対称が達成される。こｐ非対称蒸着は、さら
に蒸着中蒸着材料の層毎の基体管の回転移動によってデ
ィスクリートにあるいは連続的に変化させることができ
、最終的には幾何学的及び／または屈折率プロフィルの
所望の変調を得ることができる。

半径方向内の変調数は、回転周波数対ストローク周波数
の比によりほぼ調整でき、変調振幅は外部温度非対称の
印加または管の中心外しくデセンタリング）により、ま
た変調構造は回転移動の佐賀（ディスクリートまたは連
続）により調整しろる。

基体管をストローク当たり角セグメントＡψだけディス
クリートに回転させることにより、被覆長にわたり一定
な半径方向プロフィル変調が得られ、また一般に管の連
続回転により振幅が被覆長にわたって変化する半径方向
変調が得られる。この場合、ＰＣＶＤ法による蒸着を行
うときは、基体管を必ずしも回転させる必要がなく、か
つ他の方法と比較してコア材料の個別（ディスクリート
）の層をより多数蒸着しろる利点がある。またこれに関
し、回転の種類を自由に選択でき、またコア領域内の半
径方向及び軸方向プロフィル変調の数を自由に選択でき
る。

本発明の上述の変形実施例により、軸方向プロフィル変
調及び／または幾何学的な周期的変動をもつものが製造
できる。これにふいては蒸着中にマイクロ波発生器の電
力及び／または蒸着サイト（個所）の圧力を周期的に変
化させる。ここにおいて、位置、すなわち瞬間的蒸着領
域のサイト、及び蒸着材料と３１０２キヤリヤ材料の蒸
着イールド（ｙｉｅｌｄ　　Ｈ率）の双方は、プラズマ
電力と圧力に応じて定まるという事実を利用する。軸方
向の変調数は変調周波数対ストローク周波数の比により
ほぼ調整でき、変調振幅はマイクロ波電力及び／または
圧力の変調強度で調整できる。純粋に軸方向のプロフィ
ル変調を設けるには、外部温度界（フィールド）または
回転移動を選択して付加的な半径方向変調が生じないよ
うにすると有利である。変調周波数を選択して、これが
ストローク周波数の整数倍になるようにすると、純粋軸
方向プロフィル変調及び／または固定周期長の幾何学的
変動が生じる。プラズマ電力または圧力の変調周波数を
選択し、これがストローク周波数の整数倍より僅かだけ
偏移するようにすると、長さ全体にわたり幾何学的変調
が平均化される。しかしこの場合、半径方向の光学的屈
折率プロフィルの軸方向可変変調が生じる。

本発明方法によるときは、最大の蒸着非対称を印加しな
がら蒸着中に基体管を全回転の整数分の１の角だけ各層
毎にディスクリートに回転させることによって、コア領
域に強力な光学的及び／または幾何学的楕円特性を有す
る所望の偏光維持単モードパワー構造が得られる。とく
にこの方法で層当たりπだけのディスクリート角回転に
より、蒸着領域の全長にわたって一定な所望の光学的及
び／または幾何学的なコアの楕円特性が得られる。

このような楕円構造を得る他の可能性は、本発明により
回転移動を行わず、その代わりに外側より印加する温度
プロフィルを適当に選定し蒸着し、基体管の反対に位置
する側に、例えば局部冷却によって改良された蒸着イー
ルドが生ずるようにすることである。かくする場合にも
、長さ全体にわたって一定な楕円のプロフィル構造が得
られる。

以上を要約すると次のことが言い得る。本発明による製
造方法は蒸着パラメータの特定の予め調整した種々の変
調と必要により行う回転移動の組合せのいくつかの群に
分割することができ、これらの種々の組合せによって特
性のプロフィルの変調の種々の組合せを製造することが
できる。詳細には次の如くの組合せ、及びこれによるプ
ロフィル変調（モジュレイション）が可能である。

Ａ、基体（サブストレイト）管の回転移動を行わない場
合 （ａ）　　固定の軸方向の一定の温度非対称Ｔ（ψ）を
外側から加え、次の結果を得る。

（１）　　プレフォームの長さＺにわたり、回転非対称
プロフィル及び／またはコアの幾何学的構造が一定 （２〕　　ψ／ψ＋πにおいてＴ（ψ）に対するダブル
非対称の隼（モノ）モード用楕円プロフィル（ｂ）　　
周期的圧力変化ｐ＝ｆ（ｔ）及び／またはプラズマ電力
変調ｐ　ｘｗ　＝　ｆ　（ｔ）により次を得る。

（１）長さＺにわたり周期的な光学的及び／または幾何
学的変調が生じ、半径方向には変調を生じない（νＤ−
Ｎ、νＨ・に対し適用される。ただし、 シｘ−ｐ及びＰエ　に対する変調周波数ν８・−Ｎを整
数とするとき個別の層の蒸着に対するストローク周波数
） （２）回転対称として軸方向及び半径方向に周期的にプ
ロフィルを変調を生じさせる（シ９≠Ｎ、シ□・但しＮ
は整数）。

（３）回転対称がＺにわたり一定であって半径方向に周
期的変化を生じさせる（ν８くくνＨに対し）。

（Ｃ）　　ストローク周波数νＨ＝ｆ（ｔ）を周期的に
変調させ、（ｂ）　１−３と同じ変調を得る。

（ｄ）　　ドーピングガス流δ、。ｐｅ”ｆ（ｔ）を周
期的に変調させることによりら）１−３の様な変調を得
るが、しかし１の幾何学的変調を伴わないもの（ａ）　
　回転移動をディスクリートに行う（各層あたり一定角
度約Δψ、個別の層の蒸着中管位置を固定する）ことに
より次を得る。

（１）長さＺにわたり一定で半径方向において非回転対
称周期的プロフィル変調（これはＮ、　ｌψ＝２πに対
し；但しＮは整数〉３）。

（２）Ｚにわたり非回転対称楕円プロフィル（Δψ＝π
に対し）。

ら）連続的回転移動（ψ＝ｆ（νＤ・ｔ）ニジ８は回転
周波数）により次を得る。

（１）Ｚにわたり一定な非回転対称半径方向プロフィル
変調（νＤ＜＜ν）Ｉ　ニジ□は個別層の蒸着のストロ
ーク周波数）。

（２）回転対称をもたずして半径方向及び軸方向内に周
期的なプロフィル変化（νＤ＝Ｎ、νＨ・に対し：但し
Ｎは整数） （３）Ｚにわたり一定でない半径方向内の周期的非回転
対称プロフィル変調（シ２≠Ｎ、シ８・に対し：但しＮ
は整数） 以下図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図〜第３図は光ファイバの光学的屈折率のプロフィ
ルを示す図であり、第４図は光ファイバの長さによる伝
送帯域幅をプロットした図表である。

実施例Ｉ ＰＣＶＤ法により数個のプレフォームを製造し、管の回
転移動ψ（１）及び温度フィールドＴ（ψ）に加える非
対称の条件を各個別のプレフォームに対しそれぞれ特定
に変化させ、その他の蒸着条件を一定に維持し、特に塩
素ガス流に対するプログラム処理手順、圧力、温度、及
びマイクロウェーブ並びにプラズマ電力をそれぞれ一定
に維持した。

この基体管は外径が１８［［１１Ｄであり内径を１５ｍ
ｍとした。

蒸着条件は次の如くである。

ストローク長　　　　　　　　　ＡＺＨ＝４０ｃｚレゾ
ネータのスフローフ速度　　Ｖ　Ｉ（＝　８　ｍ　／閉
基体管温度　　　　　　　　　　Ｔ　＝　１２２０℃圧
力　　　　　　　　　　　　　ｐ＝１５ｈＰａプラズマ
電力　　　　　　　　　　ｐｘｗ−５００ｗ塩累ガ大流
（ＳＩＣＩ、＋ＧｅＣ１，）　　　　ａ、。、＝１２０
ｃｍ”　／分関連標準条件　　　　　　　　　（０℃、
　１０００ｈＰａ　）全体の蒸着時間　　　　　　　　
ｔａ−ｐ　＝９０分蒸着ドープ層の数　　　　　　　Ｎ
、。、＝１０００第１図〜第３図に示した光学的屈折率
プロフィルはそれぞれ次の如くの条件で求められたもの
である。

（ａ）　　第１図；外部的に簡単な温度非対称ＡＴ＜ψ
）さ１０℃ （Ｔ　（ψ、、ｈ−１２２５℃、Ｔ（ψｍｉｈ＋π）　
＝１２１５℃） これに各層あたりディスクリートの回転移動７１ψ−１
８°を加え、 全体の蒸着コア数を１０００とした。

得られたプロフィル変化中Ｂ　（ａ）　によるものが明
らかに認められた。プロフィルの縁部に向かって変調振
幅が減衰するのはコラプス（圧潰）工程による拡散機構
の結果、及びコア内の半径方向マス（質量）被着がｒ”
（ｒは半径）に応じて増加することよるもので、従って
隣接する変調最大間のスペースは工だけ減少する。プロ
フィル変化は非回転対称性である。これは同じ半径にお
いて最大点がプロフィルの縁部に生じ、しかし他の縁部
では最小点が生じ、半径方向サイクル長は予期されたも
のとなるからである。即ち１０００個の層及びΔψ＝１
８°、Ｎ＝２０であり、全体のコア半径にわたって５０
の変調が現れるからである。

わ〕　第２図；（ａ）と同じ回転条件であるが、外部的
温度非対称をＡＴ（ψ）さ５℃に減少させた。

同じ半径的変化構造であるが、変化振幅は明らかに減少
している。

（Ｃ）　　第３図；このプロフィルはプロフィル変調を
加えないものであり、このプロフィルは長さに光学的パ
ルスの伝搬時間幅の直線的従属性を加えたものとなるは
ずであり、第１図及び第２図に対応するプロフィル変調
は長さの２乗平方根に対応するものとなるはずである（
実施例２と比較）。

実施例２ 実施例１と同じ蒸着条件でＰＣＶＤ法によりプレフォー
ムを製造した。この場合、１つのケースは、非回転対称
、長さ一是プロフィル変調を得るため、ストロークあた
りΔψ＝３０°のディスクリート回転による本発明方法
を加え、かつ外部的温度非対称を加えた。第４図はこの
ような変調特性を有する（タイプ１）ファイバーの特性
を示す。その伝送帯域幅はファイバ長の平方根（ルート
）に応じて減少する。しかし、このような変調を与えな
いものは、伝送帯域幅がファイバ長ＸＦに応じ直線的に
減少するものである（タイプ２）。この特性はファイバ
長ＸＦに対し選択された帯域幅ＢＷ（Ｘｐ）の対数座標
のプロットに対応し、これをｒ　−０，５（タイプ１）
及びＴ〜１．０（タイプ２）のスロープに対応するもの
となる。約２５０ｍの伝送路長にわたり、同じ帯域幅２
．５６）Ｉｚに対しタイプ１のファイバの帯域幅は、本
発明方法により製造したプロフィルによると、３ｋｍの
伝送路長としてもファイバ内で係数３だけ大となり上述
のようなプロフィル変調ヲ伴ワないものとなる（ＢＷ　
（３ｋｍ）　＝９００ＭＨｚタイプ１に対し二また≧３
００λｌＨｚタイプ２に対し）。

【図面の簡単な説明】

第１図〜第３図は光ファイバの光学的屈折率のプロフィ
ルを示す図、 第４図は光ファイバの長さによる伝送帯域幅をプロット
した図表である。 特許出願人　　　エヌ・ベー・フィリップス・フルーイ
ランペンファブリケン

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ガラス管の内側に気相よりガラスを化学的に蒸着さ
   せて被覆し、この内側被覆工程中に１つまたはそれ以上
   の蒸着パラメータを変化させ、このガラス管を圧潰させ
   てロッドとし、ロッドの引抜きによりファイバを形成し
   て、屈折率プロフィルが特定の周縁部、あるいは半径方
   向、あるいは軸方向の光学的変調構造を有する光ファイ
   バの製造方法において、 前記内側被覆をＰＣＶＤ法によって行い、このＰＣＶＤ
   法では管の内壁に移行する材料の均一性に影響するパラ
   メータ、あるいはガラス蒸着率に影響するパラメータを
   管の周縁にわたって変化させることを特徴とする光ファ
   イバの製造方法。 ２、ガラス管の内側に気相よりガラスを化学的に蒸着さ
   せて被覆し、この内側被覆工程中に１つまたはそれ以上
   の蒸着パラメータを変化させ、このガラス管を圧潰させ
   てロッドとし、ロッドの引抜きによりファイバを形成し
   て、屈折率プロフィルが特定の周縁部、あるいは半径方
   向、あるいは軸方向の光学的変調構造を有する光ファイ
   バの製造方法において、 前記内側被覆をＰＣＶＤ法によって行い、このＰＣＶＤ
   法では、プラズマ形成装置に対するローカル蒸着ゾーン
   の軸位置に影響する各パラメータを変化させることを特
   徴とする光ファイバの製造方法。 ３、周縁光学プロフィル変調を達成するため、管の加熱
   に使用する外部温度フィールドの特定の回転非対称を調
   整し、外部温度フィールド内の温度変動の振幅と数とに
   よって管周縁に亘るプロフィル変化の振幅と数とを変化
   させることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光
   ファイバの製造方法。 ４、周縁の光学的及び幾何学的プロフィル変調を得るた
   め、プラズマ形成リアクタ内で被覆すべき管に特定の如
   くして偏心性を与え、偏心の程度によって変調振幅を決
   定し、周縁変調のサイクル数を１とする特許請求の範囲
   第１項記載の光ファイバの製造方法。 ５、被覆すべき管の回転移動によって蒸着中に管の全周
   縁にわたり周縁変調の位置を特定の態様で変化させ、前
   記回転移動は連続的に行うか、または回転移動の周波数
   及びサイクルタイムのそれぞれ及び位相が、単一層の蒸
   着に対するストローク周波数及びサイクルにそれぞれ及
   び位相位置に調整された態様で相関関係を有し、これに
   よって管を往復するアリクタの位置と、回転移動とスト
   ローク移動の特定の相関関係を調整して異なる変調構造
   を生ずる如くした特許請求の範囲第３項または第４項記
   載の光ファイバの製造方法。 ６、偏光維持特性をもつ楕円プロフィル構造を得るため
   、管の周縁にわたり全体で２つの最大値と２つの最小値
   を有するように温度フィールドを調整し、かつ各都度隣
   接する最大値と最小値とを互いに角π／２だけシフトさ
   せる特許請求の範囲第３項記載の光ファイバの製造方法
   。 ７、楕円形状の光学的ならびに幾何学的構造を得るため
   、移動するリアクタの反転点において、各都度管の回転
   移動を角πだけディスクリートなステップを行わしめ、
   ディスクリート回転の周波数ν＿Ｄを、 ν＿Ｄ＝１／Ｎ・Ｈ′ ただしＮは正の整数で、１に選択するを可とする関係で
   あり、リアクタのストローク周波数ν＿Ｈに関連させる
   ことを特徴とする特許請求の範囲第５項記載の光ファイ
   バの製造方法。 ８、半径方向に非回転対称らせん状プロフィル変調を得
   るため、簡単な特に極めて局部的な蒸着非対称が生ずる
   よう調整し、移動リアクタの反転点で管を各都度角Δψ
   に等しいディスクリートステップで回転させ、同じステ
   ップ周波数をストローク周波数において回転角Δψを関
   係式、 Δψ＝２π／Ｎ（Ｎは整数かつ＞３） によって選定し、蒸着においてＭ個の個別層によって関
   係式ｎ＝Ｍ／Ｎに応じて、全体でｎ個の半径方向の周期
   的プロフィル変調を決定する如くした特許請求の範囲第
   ５項記載の光ファイバの製造方法。 ９、軸方向に周期的に変化する半径方向非回転対称プロ
   フィル変調を得るため、簡単な周辺蒸着非対称が生ずる
   よう調整し、管を連続的にかつ一定の回転周波数ν＿Ｒ
   で回転させ、この回転は回転周波数がストローク周波数
   ν＿Ｈに対し、関係式、 ν＿Ｒ＝（Ｎ′＋１／Ｎ）ν＿Ｈ ただし、Ｎ及びＮ′は（＞１０）１０より大なるを可と
   する正の整数、に応じて相関する如くし、全体でＭ個の
   個別蒸着層が生じ、半径方向周期的プロフィル変調の全
   体数ｎをｎ＝Ｍ／Ｎで固定し、全蒸着長にわたり同時の
   周期的軸方向プロフィル変調数をＮ′で固定する特許請
   求の範囲第５項記載の光ファイバの製造方法。 １０、リアクタ領域内のプラズマに結合するマイクロ波
   電力を臨時に周期的に変化させることを特徴とする特許
   請求の範囲第２項記載の光ファイバの製造方法。 １１、管内の圧力を臨時に周期的変化させる特許請求の
   範囲第２項記載の光ファイバの製造方法。 １２、管長にわたり往復させるリアクタのストローク速
   度を臨時に周期的に変化させる特許請求の範囲第２項記
   載の光ファイバの製造方法。 １３、酸素キャリヤガスフラックスを臨時に周期的に変
   化させる特許請求の範囲第２項記載の光ファイバの製造
   方法。 １４、反応ガス流を臨時に周期的に変化させる特許請求
   の範囲第２項記載の光ファイバの製造方法。 １５、表示された蒸着パラメータの１以上の臨時周期的
   変化を、蒸着パラメータの周波数及び位相位置の変調が
   予め定めた方法により、ストローク周波数及び位相位置
   及び管を往復するリアクタの位相にそれぞれ相関し、各
   種変調構造並びに各種の規定された相関を蒸着周波数の
   変調周波数とリアクタのストローク周波数の間に調製す
   る特許請求の範囲第１０項ないし第１４項のうちの１項
   に記載の光ファイバの製造方法。 １６、蒸着パラメータに対する変調振幅を調整し、リア
   クタに対する局部蒸着ゾーンのシフトの合成振幅ΔＺ＿
   ｍ＿ｏ＿ｄが、条件、 ０＜／ΔＺ＿ｍ＿ｏ＿ｄ／＜１／２／ΔＺ＿ｐ／ を満足し、 ここにおいて、 ／ΔＺ＿ｐ／は管の全変調サイクルにわたり空間内でリ
   アクタがカバーする通路であり、さらに ／ΔＺ＿ｍ＿ｏ＿ｄ／は、条件、 ／ΔＺ＿ｍ＿ｏ＿ｄ／＝１／４／ΔＺ＿ｐ／ を満足するを可とする特許請求の範囲第１５項記載の光
   ファイバの製造方法。 １７、半径方向に変調されない回転対称プロフィル構造
   で、軸方向内に光学的及び幾何学的に周期的変調構造を
   得るために、関連の蒸着パラメータν＿ｍに対する変調
   周波数と管に対するストローク数のストローク周波数ν
   ＿Ｈとの相関を次の関係式によって調整し、 ν＿Ｍ＝Ｎ′・ν＿Ｈ ここにおいて、反転点に対する変調の位相位置をリアク
   タストロークの位相位置に対しπ／２だけシフトし、こ
   れによってこの位置に変調の最大及び最小が生ずるよう
   にし、かつＮ′は正の整数であり、また同時に全蒸着長
   にわたり周期的軸方向プロフィル変調の数を表わす如く
   した特許請求の範囲第１５項または第１６項記載の光フ
   ァイバの製造方法。 １８、回転対称で、半径方向及び軸方向の同時変調プロ
   フィル構造を得るため、関連の蒸着パラメータに対する
   変調周波数ν＿Ｍと、個別ストローク数に対するストロ
   ーク周波数ν＿Ｈとの間の相関を、関係式、 ν＿Ｍ＝（Ｎ′＋１／Ｎ）・ν＿Ｈ′ に応じて調整し、 ここにおいて、 Ｎ′及びＮは、１０より大（＞１０）なる範囲を可とす
   る正の整数であり、全蒸着層の数Ｍに対し、半径方向周
   期的プロフィル変調の全体数ｎを関係式、 ｎ＝Ｍ／Ｎ で特定し、かつ全蒸着長にわたり同時に生ずる軸方向プ
   ロフィル変調の数をＮ′に定める特許請求の範囲第１５
   項または第１６項記載の光ファイバの製造方法。 １９、プロセス工程を組合せ、１以上の蒸着パラメータ
   を可変とする特許請求の範囲第１項記載の光ファイバの
   製造方法。 ２０、プロセス工程を組合せ、１以上の蒸着パラメータ
   を可変とする特許請求の範囲第２項記載の光ファイバの
   製造方法。