NL1017523C2 - Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden. - Google Patents

Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden. Download PDF

Info

Publication number
NL1017523C2
NL1017523C2 NL1017523A NL1017523A NL1017523C2 NL 1017523 C2 NL1017523 C2 NL 1017523C2 NL 1017523 A NL1017523 A NL 1017523A NL 1017523 A NL1017523 A NL 1017523A NL 1017523 C2 NL1017523 C2 NL 1017523C2
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
optical fiber
layers
area
refractive index
deposited
Prior art date
Application number
NL1017523A
Other languages
English (en)
Inventor
Eric Aloysius Kuijpers
Peter Johannes Theodor Pleunis
Original Assignee
Draka Fibre Technology Bv
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to NL1017523A priority Critical patent/NL1017523C2/nl
Application filed by Draka Fibre Technology Bv filed Critical Draka Fibre Technology Bv
Priority to JP2002569745A priority patent/JP4145658B2/ja
Priority to EP02712532A priority patent/EP1365999B1/en
Priority to KR1020037011060A priority patent/KR100827727B1/ko
Priority to DE60238181T priority patent/DE60238181D1/de
Priority to CNB028060385A priority patent/CN1232462C/zh
Priority to DK02712532.7T priority patent/DK1365999T3/da
Priority to PCT/NL2002/000118 priority patent/WO2002070416A1/en
Priority to BRPI0209900-4A priority patent/BR0209900B1/pt
Priority to RU2003129654/03A priority patent/RU2286962C2/ru
Priority to AT02712532T priority patent/ATE486823T1/de
Priority to US10/093,088 priority patent/US7068895B2/en
Application granted granted Critical
Publication of NL1017523C2 publication Critical patent/NL1017523C2/nl
Priority to ZA200305992A priority patent/ZA200305992B/en
Priority to US11/245,894 priority patent/US7116877B2/en

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/018—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by glass deposition on a glass substrate, e.g. by inside-, modified-, plasma-, or plasma modified- chemical vapour deposition [ICVD, MCVD, PCVD, PMCVD], i.e. by thin layer coating on the inside or outside of a glass tube or on a glass rod
    • C03B37/01807—Reactant delivery systems, e.g. reactant deposition burners
    • C03B37/01815—Reactant deposition burners or deposition heating means
    • C03B37/01823—Plasma deposition burners or heating means
    • C03B37/0183—Plasma deposition burners or heating means for plasma within a tube substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/02—Optical fibres with cladding with or without a coating
    • G02B6/028—Optical fibres with cladding with or without a coating with core or cladding having graded refractive index
    • G02B6/0288—Multimode fibre, e.g. graded index core for compensating modal dispersion

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Steroid Compounds (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Description

Korte aanduiding: Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.
De onderhavige uitvinding heeft betrekking op een 5 werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden, welke werkwijze omvat i) het toevoeren van een of meer glasvormende precursors en eventueel een doteermiddel aan een kwarts substraatbuis, ii) het vormen van een plasma in de kwarts 10 substraatbuis om het reactieve mengsel in reactie te brengen ter vorming van al of niet gedoteerde glaslagen op het inwendige van de substraatbuis, iii) het onder verwarmen collapsen van de in ii) verkregen substraatbuis tot een voorvorm, en 15 iv) het uit de voorvorm onder verwarmen trekken van een optische vezel.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.
Een dergelijke werkwijze is op zich bekend uit de ten 20 name van de onderhavige aanvrager verleende Amerikaanse octrooi schriften 4.793.843 en 5.188.648. Uit deze documenten is het bekend dat bij het onder verwarmen collapsen van de kwarts substraatbuis een deel van het doteermiddel van de lagen in het centrum kan verdampen. Deze verdamping resulteert in de uiteindelijke vezel in een verstoring van het brekings-25 indexprofiel. Deze profiel verstoring bezit een negatieve invloed op de bandbreedte van de optische vezel.
De toekomstige ontwikkelingen in de telecommunicatie-industrie omvatten het overbrengen met steeds hogere bitsnel heden (bits/seconde) van informatie over nog langere afstanden. De huidige 30 datanetwerken maken gebruik van relatief lage bitsnel heden. Aldus zijn licht emitterende dioden (LED) de meest gebruikelijke lichtbron in deze ./? ·—* " 2 toepassingen geweest. Omdat echter de vraag is ontstaan naar datasnelheden die hoger liggen dan het modulatievermogen van LED's, zullen in plaats van LED's laserbronnen worden toegepast. Deze verschuiving komt tot uiting door de toepassing van systemen die in staat 5 zijn tot het leveren van informatie bij snelheden zoals gedefinieerd in de GigabitEthernetstandaard (IEEE 802.3z.1998) en hoge snelheden (GigabitEthernet komt overeen met een overdracht van 1,25 Gigabit/seconde).
De op dit moment in de telecommunicatiesystemen 10 toegepaste multimode optische vezel is hoofdzakelijk ontworpen om met dergelijke LED-1ichtbronnen te worden toegepast. Deze multimode vezel is bovendien niet geoptimaliseerd om te worden toegepast met de laserbronnen die zich bevinden in systemen die zijn ontworpen om informatie over te brengen bij snelheden gelijk aan of groter dan GigabitEthernet. Met 15 andere woorden, laserbronnen stellen andere eisen aan de kwaliteit en het ontwerp van een multimode vezel, in vergelijking met LED-bronnen. In het bijzonder is het brekingsindexprofiel in het centrum van de kern van multimode vezels van groot belang, waarbij met name ter voorkoming van vermindering van informatiesnel heden een nauwkeurig gedefinieerd 20 parabolisch profiel is vereist. Dienovereenkomstig kunnen kleine afwijkingen in het centrum van het vezelprofiel significante verstoringen in het uitgangssignaal veroorzaken, welke verstoringen een grote invloed op het gedrag van het systeem bezitten. Dit effect kan zichzelf manifesteren in de vorm van een zeer geringe bandbreedte, alsook een zeer 25 hoge jitter, of beide effecten.
De golflengtes waarbij de informatie-overdracht in dergelijke vezels plaatsvindt zijn respectievelijk de 850 mm band, welke band hier wordt gedefinieerd als 770 nm-920 nm, en de 1300 nm band, welke band hier wordt gedefinieerd als 1260 nm-1360 nm.
30 Het doel van de onderhavige uitvinding is aldus het verschaffen van een werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel 3 die geschikt is om te worden toegepast in een multimode transmissiesysteem dat data bij snelheden gelijk aan en hoger dan 1 Gigabit/seconde kan verzenden. Een dergelijk multimode transmissiesysteem omvat een laserbron die ten minste 5 1,25 Gigabit/seconde informatie overzendt, en een multimode optische vezel die door de laserbron wordt aangestraald.
Het doel van de onderhavige uitvinding is verder het verschaffen van een multimode optische vezel die geschikt is om informatie met GigabitEthernet te verzenden in de 1300 nm band over een 10 afstand van ten minste 1000 meter.
Het doel van de onderhavige uitvinding is verder het verschaffen van een multimode optische vezel die zowel geschikt is om informatie met GigabitEthernet te verzenden in de 1300 nm band over een afstand van ten minste 550 meter als geschikt is om informatie met 15 GigabitEthernet te verzenden in de 850 nm band over een afstand van ten minste 550 meter.
Het doel van de onderhavige uitvinding is verder het verschaffen van een multimode optische vezel die geschikt is om informatie met ten minste 10 Gigabit/seconde te verzenden in de 850 nm 20 band over een afstand van ten minste 300 meter.
Het doel van de onderhavige uitvinding is verder het verschaffen van een multimode optische vezel die geschikt is om informatie met ten minste 10 Gigabit/seconde te verzenden in de 850 nm band over een afstand van ten minste 300 meter, waarbij deze vezels een 25 0FL bandbreedte bezitten van meer dan 500 MHz.km.
Een ander doel van de onderhavige uitvinding is het verschaffen van een werkwijze ter vervaardiging van optische vezels, welke optische vezels volledig compatibel zijn om te worden toegepast met hogesnelheid laserbronnen, alsook LED-bronnen.
30 De onderhavige werkwijze zoals vermeld in de aanhef wordt volgens de onderhavige uitvinding gekenmerkt doordat de al of niet 4 gedoteerde glaslagen zodanig op het inwendige van de substraatbuis zijn afgezet dat, na het uitvoeren van stappen iii) en iv), in het centrum van de uiteindelijk getrokken optische vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μηι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten 5 minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μιτι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende breki ngsindexwaarden bezitten.
Onder toepassing van een dergelijke werkwijze is een zeer goed gedefinieerde, laagsgewijze opbouw van de kern van de optische 10 vezel mogelijk waardoor een nauwkeurig gedefinieerd brekingsindexprofiel in de uiteindelijke vezel wordt verkregen waarbij de door de vezel gestuurde lichtpuls weinig verbreding ondervindt en de vezel aldus een hoge transmissiecapaciteit verkrijgt.
Het verdient met name de voorkeur dat de brekings-15 indexwaarde in de uiteindelijk getrokken optische vezel in de richting van het centrum toeneemt.
Door het aan het reactieve mengsel van glasvormende precursors toe te voeren van een doteermiddel dat een hogere brekingsindexwaarde bezit dan de glasvormende precursors, is de 20 brekingsindexwaarde van elke laag te beïnvloeden. Deze beïnvloeding kan bijvoorbeeld plaatsvinden door de samenstelling van het aan de kwarts substraatbuis toe te voeren gasmengsel te variëren. De laagdikte kan worden beïnvloed door variatie van de gassnelheid, de snelheid waarmee het plasma langs de substraatbuis beweegt, en het plasmavermogen zelf.
25 Het verdient met name de voorkeur dat de al of niet gedoteerde glaslagen zodanig op het inwendige van de substraatbuis zijn afgezet dat in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μπι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij elke afzonderlijke laag een oppervlakte van ten hoogste 30 1 μπι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende breki ngsi ndexwaarden bezi tten.
4 'i '· ;1 ‘U ? ƒ' v , 5
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een optische vezel die wordt gekenmerkt doordat de optische vezel geschikt is voor datatransmissiesnel heden van ten minste 1 Gigabit/seconde over een afstand van ten minste 1000 meter bij een 5 golflengte in het gebied van 1300 nm, waarbij in het centrum hiervan in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μιη afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 pm2, in het bijzonder ten hoogste 1 μηι2, bezit, welke lagen een ten opzichte van elkaar verschillende 10 brekingsindexwaarden bezitten.
De onderhavige uitvinding heeft verder betrekking op een multimode optische vezel die gekenmerkt wordt doordat deze geschikt is om informatie met een snelheid van ten minste 1 Gigabit/seconde in de 1300 nm band over een afstand van ten minste 550 m en geschikt is om 15 informatie met een snelheid van ten minste 1 Gigabit/seconde in de 850 nm band over een afstand van ten minste 550 m te verzenden, waarbij in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μιτι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 20 2 μπι2, in het bijzonder ten hoogste 1 μηι2, bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
De onderhavige uitvinding voorziet verder in een multimode optische vezel die geschikt is om informatie met een snelheid van ten minste 10 Gigabit/seconde in de 850 nm band over een afstand van 25 ten minste 300 m te verzenden, waarbij in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μπι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μηι2, in het bijzonder ten hoogste 1 μπι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar 30 verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
De onderhavige uitvinding wordt verder gekenmerkt door 6 een multimode optische vezel die geschikt is om informatie met een snelheid van ten minste 10 Gigabit/seconde te verzenden in de 850 nm band over een afstand van ten minste 300 m, waarbij deze vezels een OFL ("Over Filled Launch", gemeten bandbreedte bij aanstralen met een LED) band-5 breedte bezitten van meer dan 500 MHz.km bij 1300 nm, waarbij in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 pm afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 pm2, met name ten hoogste 1 pm2, bezit, welke lagen ten opzichte van 10 elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
De onderhavige uitvinding zal hierna aan de hand van een aantal voorbeelden worden toegelicht waarbij echter moet worden opgemerkt dat de in de voorbeelden toegepaste omstandigheden slechts ter toelichting dienen en niet als beperkend moeten worden opgevat. De term 15 "manteldiameter" omvat de totale diameter van de optische glasvezel exclusief een eventueel aanwezige stripbare externe coatinglaag.
Voorbeelden.
Ter vergelijking dienend voorbeeld 1.
Een multimode optische vezel werd geproduceerd met 20 behulp van de PCVD techniek zoals beschreven volgens een der beschreven stappen i)-iv). Gedurende stap i) werden 960 kernlagen van vrijwel gelijk volume afgezet in de substraatbuis, waarbij de brekingsindex van elke laag toenam ten opzichte van de voorgaande laag door de verhouding van de aan de substraatbuis toegevoerde glasvormende precursors Si Cl4 en GeCl4 te 25 wijzigen. Het brekingsindexprofiel werd zodanig gestuurd dat de uiteindelijke vezel geschikt zou zijn voor toepassing op beide, nu veel toegepaste golflengtebanden van 850 en 1300 nm. De aldus na collapsen volgens stap iii) verkregen voorvorm werd uitgetrokken tot een optische vezel met een kerndiameter van 62,5 pm en een mantel diameter van 125 pm. 30 De aldus verkregen lagen in de optische vezel bleken elk een oppervlakte van 3,2 pm2 te bezitten.
7
Deze vezel werd onderworpen aan een transmissietest, gebruikmakend van een 850 nm laser bij 1,25 Gigabit/seconde. De maximale transmissieafstand voor deze vezel was 350 meter welke waarde volgens de onderhavige eisen ten gering is.
5 Voorbeeld 1.
Een optische vezel werd volgens dezelfde handelingen van ter vergelijking dienend voorbeeld 1 vervaardigd, waarbij echter 2750 kernlagen werden afgezet ter vorming van een vezel met een kerndiameter van 62,5 μπι. De aldus verkregen lagen in de optische vezel hadden elk een 10 oppervlakte van 1,1 pm2. Een transmi ssietest van deze vezel leverde een maximale transmissieafstand op van 600 meter bij 1,25 Gigabit/seconde en een 850 nm laser.
Ter vergelijking dienend voorbeeld 2.
Optische vezels volgens de handelingen van voorbeeld 1 15 werden geproduceerd, waarbij het brekingsindexprofiel echter zo werd gestuurd dat de vezel is geoptimaliseerd voor toepassing in de 850 nm band. De vezel waarbij de afzonderlijke lagen elk een oppervlakte hadden van 3,2 pm2 werd onderworpen aan een transmissietest van 10 Gigabit/seconde. De maximale transmissieafstand bij deze bitrate door 20 deze vezel bedroeg 250 meter, welke waarde niet voldoet aan de onderhavige eis met betrekking tot de transmissieafstand.
Voorbeeld 2.
Een optische vezel vervaardigd volgens de handelingen zoals beschreven in voorbeeld 1, in welke vezel de afzonderlijke lagen 25 elk een oppervlakte hadden van 1,1 pm2, transporteerde over een maximale afstand van 350 meter een signaal met 10 Gigabit/seconde.
Voorbeeld 3.
Een aantal multimode optische vezels met een kerndiameter van 50 pm werd geproduceerd met behulp van de PCVD techniek 30 zoals beschreven volgens de stappen i)-iv). Gedurende stap i) werden ±1600 kernlagen van vrijwel gelijk volume afgezet in de substraatbuis, 8 waarbij de brekingsindex van elke laag toenam ten opzichte van de voorgaande door de verhouding van de aan de substraatbuis toegevoerde glasvormende precursors SiCl2 en GeCl4 te wijzigen. De verschil lende brekingsindex-profielen werden zo gestuurd dat een optimale werking werd 5 verkregen in de 850 nm band of in de 1300 nm band. De afgezette lagen in deze vezels hadden elk een oppervlakte van 1,2 pm2.
Deze vezels werden onderworpen aan transmissietesten in beide transmissiebanden met een snelheid van 1,25 Gigabit/seconde waarvan de resultaten hierna zijn samengevat. Uit de tabel blijkt dat 10 alle gemeten waarden voldoen aan de onderhavige eisen met betrekking tot de transmissieafstand.
15
Transmissie- Aantal Laagste waarde Gemiddelde waarde band vezels van maximale van maximale transmi ssi eafstand transmi ssi eafstand 20 ~Ί 850 nm 12 960 meter 1010 meter 1300 nm__15__2020 meter__2140 meter_ 25 Voorbeeld 4.
Een multimode optische vezel werd geproduceerd met behulp van de PCVD techniek zoals beschreven stappen i)-iv). Gedurende stap i) werden eerst 550 kernlagen met een relatief groot volume afgezet in de substraatbuis gevolgd door het af zetten van 120 van een geringer 30 volume, waarbij de brekingsindex van elke laag toenam ten opzichte van de voorgaande laag door de verhouding van de aan de substraatbuis toegevoerde glasvormende percursors SiCl4 en GeCl4 te wijzigen. Het brekingsindexprofiel werd zodanig gestuurd dat de uiteindelijke vezel geschikt zou zijn voor toepassing op golflengtebanden van 850 en 1300 nm.
35 De aldus na collapsen volgens stap iii) verkregen voorvorm werd 9 uitgetrokken tot een optische vezel met een kerndiameter van 62,5 μηι en een mantel diameter van 125 μπι. De aldus verkregen lagen in de optische vezel bleken in het centrum van de vezel in een gebied met een diameter van 10 μιη elk een oppervlakte van 1,1 μπι2 te bezitten. Een 5 transmissietest van deze vezel onder gebruikmaking van een 850 nm laser leverde een maximale transmissieafstand op van 600 meter bij 1,25 Gigabit/seconde. Hieruit bleek dat met name de lagen in het centrale deel van de optische kern van de vezel een gering oppervlak dienen te hebben om te kunnen voldoen aan de doelstelling van de uitvinding. De 10 lagen buiten het centrumgebied van de optische vezel met een diameter van 10 μπι kunnen daarentegen over een oppervlakte groter dan 2 μπι2 beschi kken.
-- V j

Claims (7)

1. Werkwijze ter vervaardiging van een multimode optische vezel die geschikt is voor datatransmissiesnel heden hoger dan of gelijk 5 aan 1 Gigabit/seconde, welke werkwijze omvat: i) het toevoeren van een of meer glasvormende precursors en eventueel een doteermiddel aan een kwarts substraatbuis, ii) het vormen van een plasma in de kwarts substraatbuis om het reactieve mengsel in reactie te brengen ter vorming van al of niet 10 gedoteerde glaslagen op het inwendige van de substraatbuis, iii) het onder verwarmen collapsen van de in ii) verkregen substraatbuis tot een voorvorm, en iv) het uit de voorvorm onder verwarmen trekken van een optische vezel, met het kenmerk, dat 15 de al of niet gedoteerde glaslagen zodanig op het inwendige van de substraatbuis zijn afgezet dat, na het uitvoeren van stappen iii) en iv), in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 pm afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een 20 oppervlakte van ten hoogste 2 pmz bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
2. Werkwijze volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de brekingsindexwaarde in de uiteindelijk getrokken vezel in de richting van het centrum hiervan toeneemt.
3. Werkwijze volgens conclusies 1-2, met het kenmerk, dat de al of niet gedoteerde glaslagen zodanig op het inwendige van de substraatbuis zijn afgezet dat, na het uitvoeren van stappen iii) en iv) in het centrum van de uiteindelijk getrokken vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 pm afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij 30 ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 1 μπι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
4. Optische vezel, met het kenmerk, dat de optische vezel geschikt is voor transmissiesnelheden van ten minste 1 Gigabit/seconde 5 over een afstand van ten minste 1000 meter bij een golflengte in het gebied van 1300 nm, waarbij in het centrum van de optische vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μηι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μπι2, in het bijzonder ten hoogste 1 μηι2 10 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
5. Optische vezel, met het kenmerk, dat de optische vezel geschikt is voor transmissiesnelheden van ten minste 1 Gigabit/seconde over een afstand van ten minste 550 meter bij een golflengte in het 15 gebied van zowel 1300 nm als 850 nm, waarbij in het centrum van de optische vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μηι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μηι2, in het bijzonder ten hoogste 1 μηι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar 20 verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
6. Optische vezel, met het kenmerk, dat de optische vezel geschikt is voor transmissiesnelheden van ten minste 10 Gigabit/seconde bij een golflengte in het gebied van 850 nm over een afstand van ten minste 300 m, waarbij in het centrum van de optische vezel in een gebied 25 met een diameter van ten hoogste 10 μπι afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij ten minste een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μπι2, in het bijzonder ten hoogste 1 μπι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
7. Optische vezel, met het kenmerk, dat de optische vezel 30 geschikt is voor transmissiesnelheden van ten minste 10 Gigabit/seconde in de 850 nm band over een afstand van ten minste 300 m waarbij de vezel een OFL bandbreedte bezit van meer dan 500 MHz.km, waarbij in het centrum van de optische vezel in een gebied met een diameter van ten hoogste 10 μιη afzonderlijke lagen zijn afgezet, waarbij een van de afzonderlijke lagen een oppervlakte van ten hoogste 2 μιτι2, in het bijzonder ten hoogste 5 1 μηι2 bezit, welke lagen ten opzichte van elkaar verschillende brekingsindexwaarden bezitten.
NL1017523A 2001-03-07 2001-03-07 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden. NL1017523C2 (nl)

Priority Applications (14)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1017523A NL1017523C2 (nl) 2001-03-07 2001-03-07 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.
BRPI0209900-4A BR0209900B1 (pt) 2001-03-07 2002-02-25 método para fabricar uma fibra óptica multi-modo adequada para altas taxas de transmissão, e, fibra óptica de multi-modo.
KR1020037011060A KR100827727B1 (ko) 2001-03-07 2002-02-25 고속 전송에 적합한 광섬유의 제조방법
DE60238181T DE60238181D1 (de) 2001-03-07 2002-02-25 R hohe übertragungsraten
CNB028060385A CN1232462C (zh) 2001-03-07 2002-02-25 制造适合于高传输速率的光纤的方法
DK02712532.7T DK1365999T3 (da) 2001-03-07 2002-02-25 Fremgangsmåde til fremstilling af en optisk fiber, der er egnet til høje transmissionshastigheder
JP2002569745A JP4145658B2 (ja) 2001-03-07 2002-02-25 高伝送速度に適した光ファイバーの製造方法
EP02712532A EP1365999B1 (en) 2001-03-07 2002-02-25 Method for manufacturing an optical fibre suitable for high transmission rates
RU2003129654/03A RU2286962C2 (ru) 2001-03-07 2002-02-25 Способ изготовления оптического волокна, предназначенного для высокоскоростной передачи данных
AT02712532T ATE486823T1 (de) 2001-03-07 2002-02-25 Verfahren zur herstellung einer optischen faser für hohe übertragungsraten
PCT/NL2002/000118 WO2002070416A1 (en) 2001-03-07 2002-02-25 Method for manufacturing an optical fibre suitable for high transmission rates
US10/093,088 US7068895B2 (en) 2001-03-07 2002-03-06 Method of manufacturing an optical fibre suitable for high transmission rates
ZA200305992A ZA200305992B (en) 2001-03-07 2003-08-04 Method for manufacturing an optical fibre suitable for high transmission rates.
US11/245,894 US7116877B2 (en) 2001-03-07 2005-10-06 Method of manufacturing an optical fibre suitable for high transmission rates

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL1017523 2001-03-07
NL1017523A NL1017523C2 (nl) 2001-03-07 2001-03-07 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL1017523C2 true NL1017523C2 (nl) 2002-09-10

Family

ID=19773014

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL1017523A NL1017523C2 (nl) 2001-03-07 2001-03-07 Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.

Country Status (13)

Country Link
US (2) US7068895B2 (nl)
EP (1) EP1365999B1 (nl)
JP (1) JP4145658B2 (nl)
KR (1) KR100827727B1 (nl)
CN (1) CN1232462C (nl)
AT (1) ATE486823T1 (nl)
BR (1) BR0209900B1 (nl)
DE (1) DE60238181D1 (nl)
DK (1) DK1365999T3 (nl)
NL (1) NL1017523C2 (nl)
RU (1) RU2286962C2 (nl)
WO (1) WO2002070416A1 (nl)
ZA (1) ZA200305992B (nl)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL1024015C2 (nl) 2003-07-28 2005-02-01 Draka Fibre Technology Bv Multimode optische vezel voorzien van een brekingsindexprofiel, optisch communicatiesysteem onder toepassing daarvan en werkwijze ter vervaardiging van een dergelijke vezel.
US7848604B2 (en) 2007-08-31 2010-12-07 Tensolite, Llc Fiber-optic cable and method of manufacture
US8857372B2 (en) * 2007-12-10 2014-10-14 Ofs Fitel, Llc Method of fabricating optical fiber using an isothermal, low pressure plasma deposition technique
US20100154478A1 (en) * 2008-12-01 2010-06-24 Panduit Corp. Multimode fiber having improved index profile
US8351027B2 (en) * 2009-06-15 2013-01-08 Panduit Corp. Method and metric for selecting and designing multimode fiber for improved performance
US9052486B2 (en) 2010-10-21 2015-06-09 Carlisle Interconnect Technologies, Inc. Fiber optic cable and method of manufacture
US9329335B2 (en) * 2014-01-31 2016-05-03 Ofs Fitel, Llc Broadband multi-mode optical fibers with flat-zone in dopant concentration profile
EP3100087B1 (en) * 2014-01-31 2022-04-13 OFS Fitel, LLC Design and manufacture of multi-mode optical fibers
CN105837025B (zh) * 2016-04-21 2018-12-11 烽火通信科技股份有限公司 高效制备掺杂光纤预制棒的方法及掺杂光纤预制棒

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0023066A1 (de) * 1979-07-19 1981-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
EP0209945A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
EP0264154A2 (de) * 1986-10-15 1988-04-20 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8300650A (nl) * 1983-02-22 1984-09-17 Philips Nv Werkwijze voor het vervaardigen van een massieve voorvorm voor het trekken van optische vezels.
US5188648A (en) * 1985-07-20 1993-02-23 U.S. Philips Corp. Method of manufacturing optical fibres
US6438303B1 (en) 1999-02-22 2002-08-20 Corning Incorporated Laser optimized multimode fiber and method for use with laser and LED sources and system employing same
US6542690B1 (en) * 2000-05-08 2003-04-01 Corning Incorporated Chalcogenide doping of oxide glasses

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0023066A1 (de) * 1979-07-19 1981-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
EP0209945A1 (de) * 1985-07-20 1987-01-28 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern
EP0264154A2 (de) * 1986-10-15 1988-04-20 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zur Herstellung von Lichtleitfasern

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BAJOREK R ET AL: "Application of an atmospheric-pressure micorwave palsma to the optical fiber manufacturing process", PLASMA CHEMISTRY & PLASMA PROCESSING, vol. 7, no. 3, September 1987 (1987-09-01), PLENUM PRESS, NEW YORK, US, pages 341 - 348, XP002182203, ISSN: 0272-4324 *
GEITTNER P ET AL: "Manufacturing optical fibres by the PCVD process", PHILIPS TECHNICAL REVIEW, ADMIN.PTR.PHILIPS NATUURKUNDIG LABORATORIUM. EINDHOVEN, NL, vol. 44, no. 8 - 10, 1 May 1989 (1989-05-01), pages 241 - 249, XP000008126 *
GEITTNER P ET AL: "PCVD at high deposition rates", JOURNAL OF LIGHTWAVE TECHNOLOGY, vol. LT-4, no. 7, July 1986 (1986-07-01), IEEE, NEW YORK, US, pages 818 - 821, XP002182204, ISSN: 0733-8724 *
NAGEL S ET AL: "latest developments in fiber manufacture by MCVD and RFMCVD", CONFERENCE ON OPTICAL FIBER COMMUNICATION, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, OSA/IEEE NEW ORLEANS, LA, US, vol. TUI, no. 1, 24 January 1984 (1984-01-24), pages 52 - 53, XP002182202 *

Also Published As

Publication number Publication date
DK1365999T3 (da) 2011-01-10
US7068895B2 (en) 2006-06-27
RU2286962C2 (ru) 2006-11-10
US20020170321A1 (en) 2002-11-21
BR0209900B1 (pt) 2011-01-11
CN1494516A (zh) 2004-05-05
US20060037365A1 (en) 2006-02-23
WO2002070416A1 (en) 2002-09-12
DE60238181D1 (de) 2010-12-16
US7116877B2 (en) 2006-10-03
KR20030082604A (ko) 2003-10-22
JP4145658B2 (ja) 2008-09-03
EP1365999A1 (en) 2003-12-03
JP2004528257A (ja) 2004-09-16
ZA200305992B (en) 2004-06-26
KR100827727B1 (ko) 2008-05-07
EP1365999B1 (en) 2010-11-03
CN1232462C (zh) 2005-12-21
BR0209900A (pt) 2004-07-27
RU2003129654A (ru) 2005-03-27
ATE486823T1 (de) 2010-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101267578B1 (ko) 굴절률 프로파일을 갖는 다중모드 광섬유, 이를 사용하는 광통신 시스템 및 이러한 광섬유의 제조 방법
NL1017523C2 (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een optische vezel die geschikt is voor hoge transmissiesnelheden.
EP0826276B1 (en) Multimode communications systems
US6873775B2 (en) Graded-index optical fiber
GB2027929A (en) High bandwidth gradient index optical filament and method of fabrication
US11467334B2 (en) Glass-based terahertz optical waveguides and methods of forming same
CN1179222C (zh) 多模光纤及其形成方法
CN1239934A (zh) 利用化学汽相沉积制造光纤预成型的方法
Ibrahim et al. Designing a top as based suspended square core low loss single-mode photonic crystal fiber optics communications
US20040037539A1 (en) Plastic optical fiber and method for producing the same
CN112187365B (zh) 一种5g前传系统及其设计方法
Koike et al. Progress of low-loss GI polymer optical fiber from visible to 1.5-μm wavelength
CN1180281C (zh) 单模光纤及其制备方法和用途
Grann Low cost CWDM optical transceivers
CN205280973U (zh) 一种用于光通信的光纤滤波结构
Montierth Recent advances in the production
Ziemann Application spectrum of polymer optical fibers

Legal Events

Date Code Title Description
PD2B A search report has been drawn up
MK Patent expired because of reaching the maximum lifetime of a patent

Effective date: 20210306