JPS63293546A - ホトマスクの作製法 - Google Patents
ホトマスクの作製法Info
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- JPS63293546A JPS63293546A JP62128133A JP12813387A JPS63293546A JP S63293546 A JPS63293546 A JP S63293546A JP 62128133 A JP62128133 A JP 62128133A JP 12813387 A JP12813387 A JP 12813387A JP S63293546 A JPS63293546 A JP S63293546A
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ホトマスクの作製法に係り、特に周期的な凹
凸を有するホトマスクの作製法に関する。
凸を有するホトマスクの作製法に関する。
従来、周期的な凹凸を複製するために用いていた手法を
第2図に示した。すなわち、表面に凹凸を有する基板1
(第2図(a))に、シリコンオイル2および金属薄膜
3を順次真空蒸着した(第2図(b))後、エポキシ樹
脂5により石英ガラス4と接着する(第2図(C))。
第2図に示した。すなわち、表面に凹凸を有する基板1
(第2図(a))に、シリコンオイル2および金属薄膜
3を順次真空蒸着した(第2図(b))後、エポキシ樹
脂5により石英ガラス4と接着する(第2図(C))。
エポキシ樹脂5が硬化した後、基板lと石英ガラス4を
分離する(第2図(d))。このようにして凹凸の複製
(第2図(e))を作製していた。
分離する(第2図(d))。このようにして凹凸の複製
(第2図(e))を作製していた。
ところが、このようにして作製した複製は、表面が金属
薄膜であるため、このままでは透過率が低く、ホトマス
クとして使用することができない。
薄膜であるため、このままでは透過率が低く、ホトマス
クとして使用することができない。
この金属薄膜を除去すれば、ホトマスクとして使用可能
であるが、もとの基板1の凹凸を忠実に複製できないと
いう問題があった。
であるが、もとの基板1の凹凸を忠実に複製できないと
いう問題があった。
本発明の目的は、もとの基板1の凹凸を忠実に複製した
ホトマスクを一作製することにある。
ホトマスクを一作製することにある。
上記目的は、UV (Oltra Violat)硬化
樹脂等の放射線硬化梼脂を用いて基板表面の凹凸を複製
することにより達成される。尚、本明細書における放射
線には光、紫外線等を含むものである。
樹脂等の放射線硬化梼脂を用いて基板表面の凹凸を複製
することにより達成される。尚、本明細書における放射
線には光、紫外線等を含むものである。
UV硬化樹脂は、エポキシ樹脂に比べて接着力が弱く、
かつ接着しやすいように表面処理した基板に選択的に接
着させることができる。そこで、エポキシ樹脂のように
、シリコンオイルや金属薄膜を介することなく、直接基
板表面の凹凸を複製することができる。また、UV光等
放射線を照射することにより、短時間で硬化させること
ができる。そこで、基板表面の凹凸を忠実に複製したホ
トマスクを、短時間で作製することができる。
かつ接着しやすいように表面処理した基板に選択的に接
着させることができる。そこで、エポキシ樹脂のように
、シリコンオイルや金属薄膜を介することなく、直接基
板表面の凹凸を複製することができる。また、UV光等
放射線を照射することにより、短時間で硬化させること
ができる。そこで、基板表面の凹凸を忠実に複製したホ
トマスクを、短時間で作製することができる。
本発明に適用出来る代表的な放射線硬化樹脂としては■
多価アルコールのアクリル酸エステル■ウレタン型アク
リル酸エステル■多価カルボン酸の不飽和エステル、■
不飽和アミド等のUV硬化樹脂があげられる。
多価アルコールのアクリル酸エステル■ウレタン型アク
リル酸エステル■多価カルボン酸の不飽和エステル、■
不飽和アミド等のUV硬化樹脂があげられる。
本発明の第1の実施例を第1図により説明する。
凹凸を有する基板1と1表面にガラスプライアーをスピ
ンナー塗布した石英ガラス4(第1図(a))とをUV
硬化樹脂6により接着する第1図(b))。
ンナー塗布した石英ガラス4(第1図(a))とをUV
硬化樹脂6により接着する第1図(b))。
UV光を照射して樹脂を硬化させた後、凹凸を有する基
板1と石英ガラス4を分離することにより、ホトマスク
を作製した(第1図(c))、UV硬化樹脂は、UV光
の照射により短時間で硬化するため。
板1と石英ガラス4を分離することにより、ホトマスク
を作製した(第1図(c))、UV硬化樹脂は、UV光
の照射により短時間で硬化するため。
上記方法により、数分間で容易に、ホトマスクを作製す
ることができた。UV硬化樹脂の厚さは、5〜50μm
である。また、UV硬化樹脂により。
ることができた。UV硬化樹脂の厚さは、5〜50μm
である。また、UV硬化樹脂により。
基板1の凹凸を直接転写するので、基板1の表面の凹凸
を忠実に転写したホトマスクを作製することができた。
を忠実に転写したホトマスクを作製することができた。
上記方法は、ホトマスクだけでなく。
透過型回折格子の作製法としても、有効な方法である。
本発明の第2の実施例を第3図により説明する。
第1の実施例の方法により作製したUV硬化樹脂表面の
周期的な凹凸に斜め方向から、金属を蒸着することによ
り、凹凸の斜面の一方にのみ、選択的に金属薄膜を形成
した。これにより、ホトマスクとしての明暗化を向上さ
せることができ、透過型回折格子としての回折効率を向
上させることができた。この様に放射線硬化樹脂により
形成した凹凸基板の少なくとも一部に、当該樹脂とは透
過率の異なる膜(例えば金属膜等)を設けることも有用
である。
周期的な凹凸に斜め方向から、金属を蒸着することによ
り、凹凸の斜面の一方にのみ、選択的に金属薄膜を形成
した。これにより、ホトマスクとしての明暗化を向上さ
せることができ、透過型回折格子としての回折効率を向
上させることができた。この様に放射線硬化樹脂により
形成した凹凸基板の少なくとも一部に、当該樹脂とは透
過率の異なる膜(例えば金属膜等)を設けることも有用
である。
上記実施例では、石英基板上にUV硬化樹脂のレリーフ
型回折格子を作製したが、石英基板を用いず、UV硬化
樹脂の膜厚を厚くすることにより。
型回折格子を作製したが、石英基板を用いず、UV硬化
樹脂の膜厚を厚くすることにより。
UV硬化樹脂単独でも、同様の効果が得られた。
本発明によれば、基板の凹凸を忠実に複製したホトマス
クを容易に作製することができる。ホトマスクとともに
、透過型回折格子の作製方法としても有効である。
クを容易に作製することができる。ホトマスクとともに
、透過型回折格子の作製方法としても有効である。
第1図は1本発明の第1の実施例の工程図、第2図は、
従来法の工程図、第3図は、本発明の第2の実施例の断
面図である。 1・・・凹凸を有する基板、2・・・シリコンオイル、
3・・・金属薄膜、4・・・石英基板、5・・・エポキ
シ樹脂、早 1 目
従来法の工程図、第3図は、本発明の第2の実施例の断
面図である。 1・・・凹凸を有する基板、2・・・シリコンオイル、
3・・・金属薄膜、4・・・石英基板、5・・・エポキ
シ樹脂、早 1 目
Claims (1)
- 1、基板表面に形成した周期的な凹凸を、モールド材に
より複製することを特徴とするホトマスクの作製法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62128133A JPS63293546A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | ホトマスクの作製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62128133A JPS63293546A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | ホトマスクの作製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63293546A true JPS63293546A (ja) | 1988-11-30 |
Family
ID=14977217
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62128133A Pending JPS63293546A (ja) | 1987-05-27 | 1987-05-27 | ホトマスクの作製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63293546A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007323059A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-12-13 | Lg Philips Lcd Co Ltd | レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 |
JP2009200510A (ja) * | 2001-03-28 | 2009-09-03 | Freescale Semiconductor Inc | リソグラフィックテンプレート |
US7808704B2 (en) | 2003-10-09 | 2010-10-05 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
-
1987
- 1987-05-27 JP JP62128133A patent/JPS63293546A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009200510A (ja) * | 2001-03-28 | 2009-09-03 | Freescale Semiconductor Inc | リソグラフィックテンプレート |
US7808704B2 (en) | 2003-10-09 | 2010-10-05 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
US8035895B2 (en) | 2003-10-09 | 2011-10-11 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
US8035896B2 (en) | 2003-10-09 | 2011-10-11 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
US8040605B2 (en) | 2003-10-09 | 2011-10-18 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
US8040606B2 (en) | 2003-10-09 | 2011-10-18 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
US8064138B2 (en) | 2003-10-09 | 2011-11-22 | International Business Machines Corporation | Dispersive element, diffraction grating, color display device, demultiplexer, and diffraction grating manufacture |
JP2007323059A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-12-13 | Lg Philips Lcd Co Ltd | レジスト組成物、これを利用したレジストパターン形成方法、これを利用したアレイ基板の製造方法、及び、これを利用して製造されたアレイ基板 |
US8329089B2 (en) * | 2006-04-25 | 2012-12-11 | Lg Display Co., Ltd. | Method for forming a resist pattern |
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