JPS632877A - セラミックスのメタライズ方法 - Google Patents

セラミックスのメタライズ方法

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JPS632877A
JPS632877A JP16077187A JP16077187A JPS632877A JP S632877 A JPS632877 A JP S632877A JP 16077187 A JP16077187 A JP 16077187A JP 16077187 A JP16077187 A JP 16077187A JP S632877 A JPS632877 A JP S632877A
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oxide
copper
ceramics
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ceramic
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JP16077187A
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JPS6410472B2 (ja
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江畑 儀弘
木下 実
速水 諒三
玉利 信幸
樋端 保夫
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、セラミックスの簡便なメタライズ方法に関す
る。
従来の技術とその問題点 一般に、セラミックスは、耐熱性、耐磨耗性、絶縁性等
に優れている反面、脆く衝撃に弱いため、構造材料とし
て用いる場合には、金属との接合体にして使用されるこ
とが多く、この場合には金属とセラミックスを接合する
前に、まずセラミックス表面をメタライズする必要があ
る。また、セラミックスを導電材料として用いる場合に
は、セラミックス表面にメタライズを行って使用されて
いる。
セラミックスのメタライズ方法としては、・テレフンケ
ン法、活性金属法、水素化合物法、酸化物ソルダー法、
炭酸銀法等が知られている。これらの内、テレフンケン
法以外の方法には、工程が複雑であるのに加えて、メタ
ライズ層の接着強度、耐熱衝撃性、耐化学薬品性等が充
分でない場合があるため、現在のところテレフンケン法
によるのが一般的である。テレフンケン法は、セラミッ
クス表面にモリブデン−マンガンを被覆し、非酸化性雰
囲気中1400〜1700°Cという高温で焼付け、そ
の上に金属メツキを行い、更に被膜の安定化のために再
度非酸化性雰囲気中で加熱することによりメタライズし
、次いで必要に応じて金属をロウ接するものであり、作
業工程が長く且つ煩雑であるという大きな欠点があるの
に加えて、加熱温度が高いという欠点もある。
問題点を解決するための手段 本発明者は、上記欠点が解消されたセラミックスのメタ
ライズ方法を開発するため鋭意研究した結果、酸化銅又
は(及び)硫化銅を被覆層として用いるときには空気等
の酸化雰囲気中にて比較的低温で焼付けができ、次いで
焼付は層を還元処理すれば極めて簡便にメタライズでき
ること(尚、被覆層として硫化銅を単独で用いる方法に
ついては、別途出願した。)、この際被覆層として酸化
鉄、酸化ニッケル及び酸化コバルト(以下単に遷移金属
酸化物という)の少なくとも1種を併用するとメタライ
ズ層の耐摩耗性及び平滑性が向上すること、得られたメ
タライズ層は導電性に優れ且つ接着強度が高いこと等を
見出し、本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、酸化銅又は(及び)硫化銅と遷移金属酸
化物の少なくとも1種との混合物を、セラミックス表面
に被覆し、酸化性雰囲気中900〜1300℃で加熱し
て焼付けた後、焼付は層を還元処理することを特徴とす
るセラミックスのメタライズ方法に係る。
本発明において被覆層材料として用いる酸化銅及び/又
は硫化銅は、通常粉末状のものを使用する。酸化銅と硫
化銅とを併用するときの両者の使用割合は、任意で良い
本発明においては、被覆層として酸化銅又は(及び)硫
化銅(以下、単に銅化合物という)に遷移金属酸化物の
少なくとも1種を併用することによりメタライズ層の強
化及び安定化が達成されて、耐摩耗性及び平滑性を向上
させることができる。更に、得られたメタライズ層に各
種金属をロウ接する場合に、溶着部が強固となるという
効果も奏される。遷移金属酸化物としても、通常粉末状
のものを使用し、使用割合は、銅化合物との合計型出の
80%程度を上限とするのが適当である。
80重量%を越える場合には、メタライズ層の接着強度
が低下する傾向があるので、好ましくない。
本発明における被覆層形成材料としては、銅化合物と遷
移金属酸化物との混合物を粉末状のまま使用しても良い
し、適当なバインダー及びその溶剤、例えばスクリーン
オイル等の印刷用インキ、バルサム等を適宜の台用いて
ペースト状にして使用しても良い。
粉末状又はペースト状の銅化合物と遷移金属酸化物との
混合物をメタライズが必要なセラミックス表面に撒布又
は塗付して被覆する。被覆する母は、特に限定されず、
所望のメタライズ層の厚さに応じて、適宜決定される。
次に、上記で被覆されたセラミックスを酸化性雰囲気中
にて加熱して被覆層を焼付ける。酸化性雰囲気としては
、特殊なものを使用する必要はなく、空気、空気と窒素
との混合気等を使用すれば充分である。また、加熱条件
としては、セラミックスの形状、大きさや用いた被覆層
の種類、被覆量等により変化するが、通常900〜13
00℃の温度で5〜60分間程度加熱する。この加熱に
よりは酸化銅(硫化銅は酸化されて酸化銅となる)及び
遷移金属酸化物を含有してなる被覆がセラミックスに密
着する。この際、酸化銅の融液がセラミックス内に一部
浸透する(硫化銅を用いたときには、酸化銅に酸化され
る際に発生する硫黄が、この浸透を更に助長する)こと
により接着強度が高められる。加熱温度が900℃より
低い場合は上記のような浸透が起こらず接着強度が不充
分になり、又1300°Cより高い場合は被覆層の粘性
が低下して流出することがあるので好ましくない。
次に、上記により焼付は層が施されたセラミックスを還
元処理する。還元方法としては、特に限定されず、酸化
銅及び遷移金属酸化物がこれらの金属に還元されるなら
ばどんな方法でもよく、例えば水素雰囲気、−酸化炭素
雰囲気等の還元性雰囲気中での加熱、エタノール、メタ
ノール、プロパツール等のアルコール、ベンジン、ホル
マリン等の還元性溶媒への浸漬等を挙げることができる
還元性雰囲気中で加熱する場合の温度は、焼付は層の分
解、変質等を防ぐために前記焼付は温度よりも低いこと
が好ましく、通常200〜900℃程度とし、時間は通
常5〜60分間程度とする。
また還元性溶媒への浸漬による場合は、セラミックスを
通常200〜500℃程度好ましくは300°C前後に
加熱後、上記還元性溶媒に10〜60秒間程度浸漬すれ
ば良い。
上記還元処理により、極めて優れた導電性を有する銅系
メタライズ層がセラミックス表面に形成される。
かくしてメタライズされたセラミックスには、必要に応
じて、常法例えばロウ接等により、各種金属を容易に接
合することができる。
本発明によりメタライズできるセラミックスとしては、
特に限定されず、例えば窒化珪素、サイアロン、炭化珪
素、窒化アルミニウム等の非酸化物セラミックス、アル
ミナ、ジルコニア、ムライト、ベリリア、マグネシア、
コージーライト等の酸化物系セラミックスを挙げること
ができる。
発明の効果 本発明によれば、従来法に比べて低温で焼付は後、還元
処理するという極めて簡便な操作で、セラミックス表面
にメタライズ層が形成できる。得られたメタライズ層は
、導電性に優れ且つ接着強度が高く、メタライズ層の平
滑性が向上するという効果が得られる。
本発明によりメタライズされたセラミックスは、上記の
如き性能を有するので、セラミックスパッケージ等の電
子部品、セラミックスを用いた耐磨耗性部品、耐熱性部
品等に好適に使用できる。
尚、本発明の方法は、ニッケル板、銅板等の金属板にも
応用でき、被覆層を還元すれば強固な保護膜を得ること
ができる。
実施例 以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する
実施例1 硫化銅粉末90重量%と酸化ニッケル粉末10重量%と
を混合したちの100重量部に対してバ、サイアロン、
炭化珪素(S i C) 、アルミナ又はジルコニアの
焼結体の表面にO,Ig/cm2塗付した。次に、電気
炉を用い空気中にて1100℃で30分間焼成して、焼
付は被覆層を形成した。
引続き焼成したものを乾燥器中で300°Cに加熱した
後、市販のエタノール中に浸漬した。これによって焼付
は被覆層が還元され、金属銅と金属ニッケルからなるメ
タライズ層が形成された。下記第1表に還元前後におけ
る、100OVの電圧で測定した電気抵抗値を示した。
還元後のメタライズ層は、極めて優れた導電性を有して
いることが判る。
かくして得たメタライズ層を有する各セラミックスと銅
片とを銀ロウを用いてロウ接し、秤曾2ton及び荷重
速度5mm/minの引張試験機を用いて、メタライズ
層の接着強度を測定したところ、いずれも極めて強く接
着されていることが判った。
結果を下記第1表に併記した。
第   1   表 また、メタライズ層表面は凹凸が殆んどなく、平滑性に
優れており、サンドペーパーによる摩耗試験においても
、優れた耐摩耗性を示した。
実施例2 硫化銅粉末90重量%と酸化鉄粉末10重量%とを混合
したちの10000重量対してバルサム10重量部を混
合して、ペースト状の混合物を得た。これを用いて、実
施例1と同様にして各セラミックスにメタライズ層を形
成した。実施例1と同様にして測定した電気抵抗値及び
接着強度を下記第2表に示した。
第   2   表 また、メタライズ層表面は凹凸が殆んどなく、平滑性に
優れており、耐摩耗性も良好であった。
実施例3 酸化ニッケル粉末に代えて酸化コバルト粉末を用いる以
外は実施例1と同様にして下記第3表に示した結果を得
た。また、メタライズ層の耐摩耗性及び平滑性も向上し
ていた。
第   3   表 実施例4 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を用いる以外は実施例1
と同様にして下記第4表に示した結果を得た。また、メ
タライズ層の耐磨耗性及び平滑性も向上していた。
第   4   表 実施例5 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を、及び酸化ニッケル粉
末に代えて酸化鉄粉末を用いる以外は実施例1と同様に
して下記第5表に示した結果を滉だ。また、メタライズ
層の耐磨耗性及び平滑性も向上していた。
第   5   表 実施例6 硫化銅粉末に代えて酸化銅粉末を、及び酸化ニッケル粉
末に代えて酸化コバルト粉末を用いる以外は実施例1と
同様にして下記第6表に示した結果を得た。また、メタ
ライズ層の耐磨耗性及び平滑性も向上していた。
第6表 (以 上)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化銅又は(及び)硫化銅と酸化鉄、酸化ニッケ
    ル及び酸化コバルトの少なくとも1種との混合物を、セ
    ラミックス表面に被覆し、酸化性雰囲気中900〜13
    00℃で加熱して焼付けた後、焼付け層を還元処理する
    ことを特徴とするセラミックスのメタライズ方法。
JP16077187A 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法 Granted JPS632877A (ja)

Priority Applications (1)

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JP16077187A JPS632877A (ja) 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法

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JP16077187A JPS632877A (ja) 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法

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JPS632877A true JPS632877A (ja) 1988-01-07
JPS6410472B2 JPS6410472B2 (ja) 1989-02-21

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