JPS632876A - セラミックスのメタライズ方法 - Google Patents

セラミックスのメタライズ方法

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JPS632876A
JPS632876A JP16077087A JP16077087A JPS632876A JP S632876 A JPS632876 A JP S632876A JP 16077087 A JP16077087 A JP 16077087A JP 16077087 A JP16077087 A JP 16077087A JP S632876 A JPS632876 A JP S632876A
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JP
Japan
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oxide
copper
ceramics
layer
ceramic
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JP16077087A
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JPS6356196B2 (ja
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江畑 儀弘
木下 実
速水 諒三
玉利 信幸
樋端 保夫
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、セラミックスの簡便なメタライズ方法に関す
る。
従来の技術とその問題点 一般に、セラミックスは、耐熱性、耐磨耗性、絶縁性等
に優れている反面、脆く衝撃に弱いため、構造材料とし
て用いる場合には、金属との接合体にして使用されるこ
とが多く、この場合には金属とセラミックスを接合する
前に、まずセラミックス表面をメタライズする必要があ
る。また、セラミックスを導電材料として用いる場合に
は、セラミックス表面にメタライズを行って使用されて
いる。
セラミックスのメタライズ方法としては、テレフンケン
法、活性金属法、水素化合物法、酸化物ソルダー法、炭
酸銀法等が知られている。これらの内、テレフンケン法
以外の方法には、工程が複雑であるのに加えて、メタラ
イズ層の接着強度、耐熱衝撃性、耐化学薬品性等が充分
でない場合があるため、現在のところテレフンケン法に
よるのが一般的である。テレフンケン法は、セラミック
ス表面にモリブデン−マンガンを被覆し、非酸化性雰囲
気中1400〜1700℃という高温で焼付け、その上
に金属メツキを行い、更に被膜の安定化のために再度非
酸化性雰囲気中で加熱することによりメタライズし、次
いで必要に応じて金属をロウ接するものであり、作業工
程が長く且つ煩雑であるという大きな欠点があるのに加
えて、加熱温度が高いという欠点もある。
問題点を解決するための手段 本発明者は、上記欠点が解消されたセラミックスのメタ
ライズ方法を開発するため鋭意研究した結果、酸化銅又
は(及び)硫化銅を被覆層として用いるときには空気等
の酸化雰囲気中にて比較的低温で焼付けができ、次いで
焼付は層を還元処理すれば極めて簡便にメタライズでき
ること(尚、被覆層として硫化銅を単独で用いる方法に
ついては、別途出願した。)、この際被覆層として酸化
エルビウム、酸化ユーロピウム及び酸化イッテルビウム
の少なくとも1種を併用するとメタライズ層の耐化学薬
品性が向上すること、得られたメタライズ層は導電性に
優れ且つ接着強度が高いこと等を見出し、本発明を完成
するに至った。
即ち本発明は、酸化銅又は(及び)硫化銅と酸化エルビ
ウム、酸化ユーロピウム及び酸化イッテルビウムの少な
くとも1種との混合物を、セラミックス表面に被覆し、
酸化性雰囲気中900〜1300℃で加熱して焼付けた
後、焼付は層を還元処理することを特徴とするセラミッ
クスのメタライズ方法に係る。
本発明において被覆層材料として用いる酸化銅及び/又
は硫化銅と酸化エルビウム、酸化ユーロピウム及び酸化
イッテルビウムの少なくとも1種との混合物は、通常粉
末状のものを使用する。酸化銅と硫化銅とを用いるとき
の両者の使用割合は、任意で良い。
本発明においては、被覆層材料として酸化銅又は(及び
)硫化銅(以下、単に銅化合物という)に酸化エルビウ
ム、酸化ユーロピウム及び酸化イッテルビウムの少なく
とも1種(以下希土類元素酸化物という)を併用するこ
とによりメタライズ層の耐化学薬品性を向上させること
ができる。希土類元素化合物の使用割合は、銅化合物と
の合計重量の20%程度を上限とするのが適当である。
20重量%を越える場合には、メタライズ層の接着強度
が低下する傾向があるので、好ましくない。
本発明における被覆層形成材料としては、銅化合物と希
土類元素酸化物との混合物を粉末状のまま使用しても良
いし、適当なバインダー及びその溶剤、例えばスクリー
ンオイル等の印刷用インキ、バルサム等を適宜の台用い
てペースト状にして使用しても良い。
粉末状又はペースト状の銅化合物と希土類元素酸化物と
の混合物をメタライズが必要なセラミックス表面に撒布
又は塗付して被覆する。被覆する世は、特に限定されず
、所望のメタライズ層の厚さに応じて、適宜決定される
。次に、上記で被覆されたセラミックスを酸化性雰囲気
中にて加熱して被覆層を焼付ける。酸化性雰囲気として
は、特殊なものを使用する必要はなく、空気、空気と窒
素との混合気等を使用すれば充分である。また、加熱条
件としては、セラミックスの形状、大きさや用いた被覆
層の種類、被覆量等により変化するが、通常900〜1
300℃の温度で5〜60分間程度加熱する。この加熱
によりは酸化銅(硫化銅は酸化されて酸化銅となる)及
び希土類元素酸化物を含有してなる被覆がセラミックス
に密着する。この際、酸化銅の融液がセラミックス内に
一部浸透する(硫化銅を用いたときには、酸化銅に酸化
される際に発生する硫黄が、この浸透を更に助長する)
ことにより接着強度が高められる。加熱温度が900℃
より低い場合は上記のような浸透が起こらず接着強度が
不充分になり、又1300℃より高い場合は被覆層の粘
性が低下して流出することがあるので好ましくない。
次に、上記により焼付は層が施されたセラミックスを還
元処理する。還元方法としては、特に限定されず、酸化
銅及び希土類元素酸化物がこれらの金属に還元されるな
らばどんな方法でもよく、例えば水素雰囲気、−酸化炭
素雰囲気等の還元性雰囲気中での加熱、エタノール、メ
タノール、プロパツール等のアルコール、ベンジン、ホ
ルマリン等の還元性溶媒への浸漬等を挙げることができ
る。還元性雰囲気中で加熱する場合の温度は、焼付は層
の分解、変質等を防ぐために前記焼付は温度よりも低い
ことが好ましく、通常200〜900℃程度とし、時間
は通常5〜60分間程度とする。また還元性溶媒への浸
漬による場合は、セラミックスを通常200〜500℃
程度好ましくは300℃前後に加熱後、上記還元性溶媒
に10〜60秒間程度浸漬すれば良い。
上記還元処理により、極めて優れた導電性を有する銅系
メタライズ層がセラミックス表面に形成される。
かくしてメタライズされたセラミックスには、必要に応
じて、常法例えばロウ接等により、各種金属を容易に接
合することができる。
本発明によりメタライズできるセラミックスとしては、
特に限定されず、例えば窒化珪素、サイアロン、炭化珪
素、窒化アルミニウム等の非酸化物セラミックス、アル
ミナ、ジルコニア、ムライト、ベリリア、マグネシア、
コージーライト等の酸化物系セラミックスを挙げること
ができる。
発明の効果 本発明によれば、従来法に比べて低温で焼付は後、還元
処理するという極めて簡便な操作で、セラミックス表面
にメタライズ層が形成できる。得られたメタライズ層は
、導電性に優れ且つ接着強度が高く、メタライズ層の耐
化学薬品性が向上するという効果が得られる。
本発明によりメタライズされたセラミックスは、上記の
如き性能を有するので、セラミックスパッケージ等の電
子部品、セラミックスを用いた耐磨耗性部品、耐熱性部
品等に好適に使用できる。
尚、本発明の方法は、ニッケル板、銅板等の金属板にも
応用でき、被覆層を還元すれば強固な保護膜を得ること
ができる。
実施例 以下、実施例を挙げて、本発明を更に具体的に説明する
実施例1 硫化銅粉末90重量%と酸化エルビウム粉末10重量%
とを混合したもの10000重量対してバルサム10重
量部を混合して、ペースト状の混合物を得た。これを平
板正方形の窒化痙乗(S L 3 N& ) 、サイア
ロン、炭化珪素(S i C)、アルミナ又はジルコニ
アの焼結体の表面に0.1g/cn+2塗付した。次に
、電気炉を用い空気中にて1100℃で30分間焼成し
て、焼付は被覆層を形成した。引続き焼成したものを乾
燥器中で300℃に加熱した後、市販のエタノール中に
浸漬した。これによって焼付は被覆層が還元され、金属
銅とエルビウムからなるメタライズ層が形成された。下
記第1表に還元前後における、1000Vの電圧で測定
した電気抵抗値を示した。
還元後のメタライズ層は、極めて優れた導電性を有して
いることが判る。
かくして得たメタライズ層を有する各セラミックスと銅
片とを銀ロウを用いてロウ接し、秤量2tOn及び荷重
速度5mm/minの引張試験機を用いて、メタライズ
層の接着強度を測定したところ、いずれも極めて強く接
着されていることが判った。
結果を下記第1表に併記した。
第   1   表 上記で得た各セラミックス上のメタライズ層の耐化学薬
品性を調べるために、48%KOH水溶液中にそれぞれ
を70℃で70時間浸漬したところ、変色等の状態変化
は全く認められなかった。
また、上記酸化エルビウムに代えて酸化ユーロピウム又
は酸化イッテルビウムを使用する場合にも、はぼ同様の
結果が得られる。
(以 上)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)酸化銅又は(及び)硫化銅と酸化エルビウム、酸
    化ユーロピウム及び酸化イッテルビウムの少なくとも1
    種との混合物を、セラミックス表面に被覆し、酸化性雰
    囲気中900〜1300℃で加熱して焼付けた後、焼付
    け層を還元処理することを特徴とするセラミックスのメ
    タライズ方法。
JP16077087A 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法 Granted JPS632876A (ja)

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JP16077087A JPS632876A (ja) 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法

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JP16077087A JPS632876A (ja) 1987-06-27 1987-06-27 セラミックスのメタライズ方法

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JPS632876A true JPS632876A (ja) 1988-01-07
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