JPS63271947A - 高周波用プロ−ブ - Google Patents
高周波用プロ−ブInfo
- Publication number
- JPS63271947A JPS63271947A JP62105103A JP10510387A JPS63271947A JP S63271947 A JPS63271947 A JP S63271947A JP 62105103 A JP62105103 A JP 62105103A JP 10510387 A JP10510387 A JP 10510387A JP S63271947 A JPS63271947 A JP S63271947A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- grounding
- line
- frequency probe
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 title claims abstract description 26
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Tests Of Electronic Circuits (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、数GHz以上の周波数の信号のインピーダン
ス測定もしくはノイズ測定することができる高周波用プ
ローブに関する。
ス測定もしくはノイズ測定することができる高周波用プ
ローブに関する。
従来の技術
近年、G a A s等を用いたトランジスタの性能は
飛躍的に向上し10GHz以上の周波数で動作する素子
も報告がなされている。従来これらのトランジスタの高
周波特性を測定する場合には、ウェーハー状態でトラン
ジスタを高周波用プローブを用いて測定するのが一般的
であった。この高周波用プローブを用いることにより、
トランジスタをパッケージに組み立てる必要がなくなり
、しかもボンディングワイヤーによるインダクタンスの
影響がな(トランジスタのみの特性を把握できるように
なった。しかしながら従来の高周波用プローブは、高周
波における損失が太き(、例えば12GHzにおいてそ
の損失は約1.0dB以上もあった。このような従来の
高周波用プローブの損失はインピーダンス等の特性を測
る時はキャリブレーションを行うため問題ないが、トラ
ンジスタのノイズの評価をウェーハー状態で行う時には
大きな問題となる。即ちノイズの評価をウェーハー状態
で行う時には線路の損失が大きい程、ノイズの値が太き
(なるからである。
飛躍的に向上し10GHz以上の周波数で動作する素子
も報告がなされている。従来これらのトランジスタの高
周波特性を測定する場合には、ウェーハー状態でトラン
ジスタを高周波用プローブを用いて測定するのが一般的
であった。この高周波用プローブを用いることにより、
トランジスタをパッケージに組み立てる必要がなくなり
、しかもボンディングワイヤーによるインダクタンスの
影響がな(トランジスタのみの特性を把握できるように
なった。しかしながら従来の高周波用プローブは、高周
波における損失が太き(、例えば12GHzにおいてそ
の損失は約1.0dB以上もあった。このような従来の
高周波用プローブの損失はインピーダンス等の特性を測
る時はキャリブレーションを行うため問題ないが、トラ
ンジスタのノイズの評価をウェーハー状態で行う時には
大きな問題となる。即ちノイズの評価をウェーハー状態
で行う時には線路の損失が大きい程、ノイズの値が太き
(なるからである。
第2図(a)及び(b)は、従来の高周波用プローブの
側面図および平面図である。第2図(a)は高周波用プ
ローブをウェーハー上の例えばトランジスタに接続して
いる状況を側面から示したものでウェーハー1に一対の
高周波用プローブの本体部分であるセラミック板2が乗
った状況である。従来の高周波用プローブでは、このセ
ラミック板2のウェーハー1側の面にコープレーナー線
路が設けられていた。
側面図および平面図である。第2図(a)は高周波用プ
ローブをウェーハー上の例えばトランジスタに接続して
いる状況を側面から示したものでウェーハー1に一対の
高周波用プローブの本体部分であるセラミック板2が乗
った状況である。従来の高周波用プローブでは、このセ
ラミック板2のウェーハー1側の面にコープレーナー線
路が設けられていた。
第2図(b)は、第2図(a)のセラミック板2をウェ
ーハー1側の面からみた平面図を示している。セラミッ
ク板2の上に形成されたコープレーナー線路8は、その
両側に位置するコープレーナー線路グランド9との間隔
が所定の寸法になるようにパターンが形成されている。
ーハー1側の面からみた平面図を示している。セラミッ
ク板2の上に形成されたコープレーナー線路8は、その
両側に位置するコープレーナー線路グランド9との間隔
が所定の寸法になるようにパターンが形成されている。
コープレーナー線路においては、この信号線と接地電極
の電極間隔により特性インピーダンスが決定される。セ
ラミック板2の端部において、ウェーハー1上のトラン
ジスタの対応する電極に接続される部分にはウェーハー
との摩耗により電極がいたまないように硬度の高い金属
材料もしくはバンブがコンタクト部6として設けられて
いる。また、コープレーナー線路8の両側に位置するコ
ープレーナー線路グランド9は相互接続線10を用いて
同電位を保つ構成となっている。この相互接続線10を
用いないとコープレーナー線路グランド9の接地が安定
せず特性が不安定になる。
の電極間隔により特性インピーダンスが決定される。セ
ラミック板2の端部において、ウェーハー1上のトラン
ジスタの対応する電極に接続される部分にはウェーハー
との摩耗により電極がいたまないように硬度の高い金属
材料もしくはバンブがコンタクト部6として設けられて
いる。また、コープレーナー線路8の両側に位置するコ
ープレーナー線路グランド9は相互接続線10を用いて
同電位を保つ構成となっている。この相互接続線10を
用いないとコープレーナー線路グランド9の接地が安定
せず特性が不安定になる。
第3図は、トランジスタを実際に高周波用プローブを用
いて測定する場合の平面図を示している。ウェーハー上
のFET部11からはグランドとなる接地電極Gが入力
信号電極S1および出力信号電極S2の両側に配置され
る。これらの電極と高周波用プローブのセラミック板2
のウェーハー側にあるコンタクト部が直接触れることに
より相互に電気的に接続される。
いて測定する場合の平面図を示している。ウェーハー上
のFET部11からはグランドとなる接地電極Gが入力
信号電極S1および出力信号電極S2の両側に配置され
る。これらの電極と高周波用プローブのセラミック板2
のウェーハー側にあるコンタクト部が直接触れることに
より相互に電気的に接続される。
発明が解決しようとする問題点
第2図に示した従来の高周波用プローブにおいては、信
号伝送のためにコープレーナー線路を用いているために
損失が大きという欠点を有していた。この大きな損失は
、トランジスタのノイズの評価をウェーハー状態で行う
時には特に大きな問題となる。即ち、ノイズの評価をウ
ェーハー状態で行う場合には、1dBの入力側の損失は
1dBのノイズ値の上昇となり正確な測定ができな(な
る。従って、損失の小さな高周波用プローブが必要とさ
れるのである。
号伝送のためにコープレーナー線路を用いているために
損失が大きという欠点を有していた。この大きな損失は
、トランジスタのノイズの評価をウェーハー状態で行う
時には特に大きな問題となる。即ち、ノイズの評価をウ
ェーハー状態で行う場合には、1dBの入力側の損失は
1dBのノイズ値の上昇となり正確な測定ができな(な
る。従って、損失の小さな高周波用プローブが必要とさ
れるのである。
また、コープレーナー線路を用いているために、コープ
レーナー線路の両側に位置するコープレーナー線路グラ
ンドは相互接続線を用いて同電位を保たなければならず
構成が複雑となる。逆に、この相互接続線を用いないと
コープレーナー線路グランドの接地が不安定になり安定
に高周波の特性を測定できない結果となってしまってい
た。
レーナー線路の両側に位置するコープレーナー線路グラ
ンドは相互接続線を用いて同電位を保たなければならず
構成が複雑となる。逆に、この相互接続線を用いないと
コープレーナー線路グランドの接地が不安定になり安定
に高周波の特性を測定できない結果となってしまってい
た。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたもので、マイクロ
ストリップ線路を伝送線路として用いることにより構成
が簡単となりしかも損失の小さいという特徴を有する優
れた高周波用プローブを提供することを目的としている
。
ストリップ線路を伝送線路として用いることにより構成
が簡単となりしかも損失の小さいという特徴を有する優
れた高周波用プローブを提供することを目的としている
。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記問題点を解決する為、セラミック等の誘
電体材料からなる基板に、基板の裏面側の接地電極と、
主面側の所定幅を有する信号線路で構成されたマイクロ
ストリップ線路を形成し、基板裏面側の接地電極の一部
を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形成され
た金属膜を介して基板の主面側に露出させ、基板の主面
側の端部に位置する接続部おいて、マイクロストリップ
線路の信号線路と主面側に露出した接地電極を、トラン
ジスタ等の対応する電極に接続する。
電体材料からなる基板に、基板の裏面側の接地電極と、
主面側の所定幅を有する信号線路で構成されたマイクロ
ストリップ線路を形成し、基板裏面側の接地電極の一部
を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形成され
た金属膜を介して基板の主面側に露出させ、基板の主面
側の端部に位置する接続部おいて、マイクロストリップ
線路の信号線路と主面側に露出した接地電極を、トラン
ジスタ等の対応する電極に接続する。
作用
本発明は上記した構成により、マイクロストリップ線路
を伝送線路として用い、しかも基板の裏面側の接地電極
の一部を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形
成された金属膜を介して基板の主面側に露出させて被測
定物の対応する電極に接続するので、相互接続線を用い
て接地電位を保つ必要がなく構成が簡単となる。しかも
、マイクロストリップ線路を伝送線路として用いている
ことで、コープレーナー線路に比べて損失を小さくする
ことができる。
を伝送線路として用い、しかも基板の裏面側の接地電極
の一部を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形
成された金属膜を介して基板の主面側に露出させて被測
定物の対応する電極に接続するので、相互接続線を用い
て接地電位を保つ必要がなく構成が簡単となる。しかも
、マイクロストリップ線路を伝送線路として用いている
ことで、コープレーナー線路に比べて損失を小さくする
ことができる。
実施例
第1図は、本発明の高周波用プローブの一実施例を示す
側面図及び平面図である。
側面図及び平面図である。
第1図(a)において、高周波用プローブのセラミック
板2の裏面側にはアルミ又は銅などの導電性の金属材料
であるグランド板3が固着される。
板2の裏面側にはアルミ又は銅などの導電性の金属材料
であるグランド板3が固着される。
セラミック板2の裏面側でグランド板3との接触面は全
面に接地電極が設けられており、グランド板3とともに
マイクロストリップ線路の裏面電極となる。セラミック
板2の周辺部分には、貫通孔であるスルーホール4が設
けられておりセラミック板2の表面側つまりウェーハー
1個の面に、接地電極を取り出している。スルーホール
4の内側は、金属膜が蒸着等の方法により形成されてお
り、裏面側と表面側の接地電極を相互につなぐ。
面に接地電極が設けられており、グランド板3とともに
マイクロストリップ線路の裏面電極となる。セラミック
板2の周辺部分には、貫通孔であるスルーホール4が設
けられておりセラミック板2の表面側つまりウェーハー
1個の面に、接地電極を取り出している。スルーホール
4の内側は、金属膜が蒸着等の方法により形成されてお
り、裏面側と表面側の接地電極を相互につなぐ。
第1図(b)は、第1図(a)のセラミック板2を表面
側つまりウェーハー1側の面からみた平面図である。本
発明において高周波の信号は、マイクロストリップ線路
5を介して伝える。スルーホール4を介してセラミック
板2の表面側に出た接地電極は、接地パターン7につな
がり高周波用プローブの端部のコンタクト部6に接続さ
れる。ウェーハー1上の被測定物とは、このコンタクト
部6において接触する。
側つまりウェーハー1側の面からみた平面図である。本
発明において高周波の信号は、マイクロストリップ線路
5を介して伝える。スルーホール4を介してセラミック
板2の表面側に出た接地電極は、接地パターン7につな
がり高周波用プローブの端部のコンタクト部6に接続さ
れる。ウェーハー1上の被測定物とは、このコンタクト
部6において接触する。
本発明の高周波用プローブの一実施例として、スルーホ
ール4を介してセラミック板2の表面側に接地電極を取
り出す構造を示したが、セラミック板2の側面の一部を
メタリゼーションし表面側に接地電極を取り出す構造を
採用しても同様の効果が得られることは言うまでない。
ール4を介してセラミック板2の表面側に接地電極を取
り出す構造を示したが、セラミック板2の側面の一部を
メタリゼーションし表面側に接地電極を取り出す構造を
採用しても同様の効果が得られることは言うまでない。
発明の効果
以上述べてきた様に、本発明により次の効果がもたらさ
れる。
れる。
(1)マイクロストリップ線路を伝送線路として用いて
いることで、本質的にコープレーナー線路に比べて損失
を小さくすることができる。
いることで、本質的にコープレーナー線路に比べて損失
を小さくすることができる。
(2)マイクロストリップ線路の裏面側の接地電極の一
部を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形成さ
れた金属膜を介して基板の主面側に露出させて被測定物
の対応する電極に接続するので、相互接続線を用いて接
地電位を保つ必要がな(構成が簡単となる。
部を基板の側面の金属膜もしくは基板の貫通孔に形成さ
れた金属膜を介して基板の主面側に露出させて被測定物
の対応する電極に接続するので、相互接続線を用いて接
地電位を保つ必要がな(構成が簡単となる。
第1図(a)及び(b)は本発明の高周波用プローブの
第一の実施例を示す側面図及び平面図、第2図(a)及
び(b)は従来の高周波用プローブを示す側面図及び平
面図、第3図は高周波用プローブを用いて測定する場合
の平面図である。 1・・・ウェーハー、2・・・セラミック板、3・・・
グランド板、4・・・スルーホール、5・・・マイクロ
ストリップ線路、6・・・コンタクト部、7・・・接地
パターン、8・・・コープレーナー線路、10・・・相
互接続線、11・・・FET部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名第1図 4ス〕レーホ−2し 7刊υ屯Jマターン 第3図
第一の実施例を示す側面図及び平面図、第2図(a)及
び(b)は従来の高周波用プローブを示す側面図及び平
面図、第3図は高周波用プローブを用いて測定する場合
の平面図である。 1・・・ウェーハー、2・・・セラミック板、3・・・
グランド板、4・・・スルーホール、5・・・マイクロ
ストリップ線路、6・・・コンタクト部、7・・・接地
パターン、8・・・コープレーナー線路、10・・・相
互接続線、11・・・FET部。 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか1名第1図 4ス〕レーホ−2し 7刊υ屯Jマターン 第3図
Claims (2)
- (1)誘電体材料からなる基板に、前記基板の裏面側の
接地電極と、主面側の所定幅を有する信号線路で構成さ
れたマイクロストリップ線路が形成されていると共に、
前記裏面側の接地電極の一部が基板の側面の金属膜もし
くは基板の貫通孔に形成された金属膜を介して基板の主
面側に露出しており、前記基板の主面側の端部に位置す
る接続部において、マイクロストリップ線路の信号線路
と主面側に露出した接地電極とを、被測定物の対応する
電極に接続することを特徴とする高周波用プローブ。 - (2)基板の主面側の端部に位置する接続部において、
マイクロストリップ線路の信号線路と主面側に露出した
接地電極に厚さが10μm以上の金属からなるバンプが
形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の高周波用プローブ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62105103A JPS63271947A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 高周波用プロ−ブ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62105103A JPS63271947A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 高周波用プロ−ブ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63271947A true JPS63271947A (ja) | 1988-11-09 |
Family
ID=14398538
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62105103A Pending JPS63271947A (ja) | 1987-04-28 | 1987-04-28 | 高周波用プロ−ブ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63271947A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013019858A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Fujitsu Ltd | 電界プローブ |
-
1987
- 1987-04-28 JP JP62105103A patent/JPS63271947A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013019858A (ja) * | 2011-07-14 | 2013-01-31 | Fujitsu Ltd | 電界プローブ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5424693A (en) | Surface mountable microwave IC package | |
US4851794A (en) | Microstrip to coplanar waveguide transitional device | |
JPH04336702A (ja) | パッケージ | |
US5025212A (en) | Circuit for measuring the dynamic characteristics of a package for high-speed integrated circuits and a method for measuring said dynamic characteristics | |
US5160907A (en) | Multiple layer semiconductor circuit module | |
JPS63271947A (ja) | 高周波用プロ−ブ | |
JP3155901B2 (ja) | 高周波基板装置 | |
JPS63152141A (ja) | プロ−ブカ−ド | |
EP0221172A1 (en) | A coplanar waveguide probe | |
JP3852589B2 (ja) | マイクロ波集積回路、誘電体基板 | |
JP2568495B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP2002290115A (ja) | ミリ波伝送線路の入出力端部接続構造 | |
JPH05199019A (ja) | 高周波回路パッケージ | |
JPH0262064A (ja) | セラミックパッケージ | |
JPH1183936A (ja) | 素子評価回路 | |
JP2668423B2 (ja) | 高周波回路の測定装置 | |
JPS63316901A (ja) | 同軸コネクタ | |
JPS62294303A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JPH06244602A (ja) | マイクロ波集積回路およびそのパッケージ | |
JPH08203963A (ja) | テープ状半導体搭載装置とその評価装置 | |
JPH04336441A (ja) | マイクロ波帯プローブヘッド | |
JP3427578B2 (ja) | マイクロ波集積回路装置の製造方法 | |
JP3282267B2 (ja) | 導波管入出力パッケージ構造 | |
JP2000031500A (ja) | 高周波半導体装置 | |
JP2010008275A (ja) | 伝送線路基板及び高周波部品の測定装置 |