JPS63268861A - 化粧シ−ト - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は化粧シートに関し、更に詳しくは耐擦傷性、耐
汚染性及び艶消性に優れた化粧シートを提供することを
目的とする。

（従来の技術） 従来、名種建材として多くの化粧シートが使用され、こ
れらの化粧シートの中には表面に艶のあるものと艶のな
いものとがあり、それぞれの適した用途に使用されてい
る。

従来の表面艶消性の化粧シートは、印刷等を施した紙等
の基材の表面に上塗り塗料としてシリカ等の艶消剤を混
合したウレタン樹脂やアミノアルキッド樹脂等の二液硬
化型又は熱硬化型の樹脂塗料を塗工仕上げしたものが知
られている。これらの艶消性化粧シートは表面層の架橋
密度が不十分であることから、耐擦傷性、耐汚染性、耐
溶剤性等の表面物性が不十分である。これらの欠点を解
決するものとして艶消剤を含む電離放射線硬化性塗料を
透明プラスチックフィルムの表面に塗工した後硬化させ
て艶消表面を形成し、これを印刷層を有する基材表面に
接着剤層を介して積層したものが知られている。これら
の電離放射線硬化性塗料を用いたものは、該塗料から得
られる硬化被膜が高度の架橋被膜であることから前記の
熱硬化性樹脂からなるものに比較すればそれらよりも優
れた耐擦傷性を有するものの、艶消剤の存在によって耐
汚染性が不十分となり、又艶消剤の存在によって被膜の
硬化が不均一になるため、経時的に表面光沢が変化して
不安定である等の欠点がある。

又、艶消面を形成する方法として艶消剤を使用しない物
理的な方法、即ちエンボス処理方法も知られているが、
ｎη記熟熱硬化性樹脂利用した化粧シートにこの方法を
適用すると、形成する微小凹凸形状面の成形戻りが生じ
て十分に安定な艶消面を形成することができない。一方
、上記の電離放射線硬化被膜に通用すると硬化被膜が熱
によっても軟化しないため、十分な微小凹凸形状を形成
することができない。

従って、優れた艶消性とともに優れた耐擦傷性、耐汚染
性等を有する化粧シートが要望されている。

（問題点を解決するための手段） 本発明者は上記の如き従来技術の要望に応えるべく説、
６；研究の結果、電離放射線硬化被膜てあっても通常の
エンボス処理方法によって１分な艶消性を与えることが
できることを知見して本発明を完成した。

即ち、本発明は、基材、絵柄印刷層、接着剤層及び表面
被覆層がこの記載の順序で積層された化粧シートにおい
て、上記表面被覆層が、抗張力の大な樹脂フィルム、低
軟化点樹脂フィルム及び電離放射線硬化被膜の三層積層
体であって、最上層の硬化被膜が微小凹凸形状を有する
ことを特徴とする耐擦傷性及び艶消性に優れた化粧シー
トである。

（作　　用） 微小凹凸形状を形成する電離放射線硬化被膜の下層に、
低軟化点樹脂フィルムと抗張力の大な樹脂フィルムを設
けることによって、１記の電離放射線硬化被膜に十分な
艶消性を有する微小凹凸形状を形成することができ、又
、抗張力の大な樹脂フィルムによって各種の加工性を高
めることができる。

（好ましい実施態様） 次に本発明の好ましい実施態様を図解的に示す添付図面
を参照して本発明を更に詳しく説明する。

本発明の化粧シート１０は第１図にその断面を図解的に
示す如く、基材ｌ、絵柄印刷層２、接着剤層３及び表面
被覆層８がこの記載の順序で積層されており、北記表面
被覆層８が、抗張力の大な樹脂フィルム４、低軟化点樹
脂フィルム５及び電離放射線硬化被膜６からなる三層積
層体８であり、上記の電離放射線硬化被膜６に微小凹凸
形状７が形成されているものである。

上記本発明の化粧シート１０において使用される基材と
しては、従来公知の化粧シートに使用されている基材で
あって１例えば、薄葉紙、クラフト紙、上質紙、チタン
紙、リンター紙、板紙、石膏ボード紙、ラテックス含浸
紙、合成樹脂混抄紙、不織布等がいずれも使用でき特に
限定されない。

絵柄印刷層２は上記の基材１の少なくとも一方の而に通
常の印刷インキで設ければよく、印刷方式や形成する絵
柄等も特に限定されない。

上記の絵柄印刷層２上に表面被覆層８を積層するために
接着剤層３を形成するが、この接着剤層３も従来公知の
ラミネートタイプの化粧シートに使用されているいずれ
の接着剤からも形成することができ特に限定されない。

又、これらの接着剤層３は予め絵柄印刷層２上に形成し
ておいてもよいし、微小凹凸形状７を付与した後の表面
被覆層８の裏面、すなわち抗張力の大な樹脂フィルム４
の面に設けてもよい。

本発明を主として特徴付ける点は、上記の表面被覆層８
の構成であり、この表面被覆層８の最下層としては、ポ
リエチレンテレフタレートフィルム、ナイロンフィルム
、ポリプロピレンフィルム、セロハンフィルム、アセテ
ートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレ
ンフィルム等の如く抗張力の大な樹脂フィルムを使用す
る。

この樹脂フィルムは５乃至２００μｍ程度の厚みのもの
が一般的に使用できるが、好ましい厚みの範囲は１０乃
至５０μｍである。

上記抗張力の大な樹脂フィルム４上に積層する低軟化点
樹脂フィルム５は、例えば、ポリエチレンフィルム、ポ
リ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、
エチレン−酢酸ビニル共重合フィルム、ポリビニルアル
コールフィルム等であり、後のエンボス処理時の温度に
よってエンボス可能な程度に十分に軟化する樹脂からな
る。この樹脂フィルム５は、エンボス処理時のエンボス
ロールの凹凸面に対応する以上の厚みであればよく、例
えば、５乃至１５μｍ程度が好ましい厚みの範囲である
。

前記の抗張力の大な樹脂フィルム４と低軟化点の樹脂フ
ィルム５とは別々に形成して、両者をラミネートする方
法で積層してもよいが、好ましくは両者をＴダイ法で共
押出し成形するか或いは抗張力の大な樹脂フィルム４上
に低軟化点の樹脂フィルム５を押出しラミネートして両
者を一体化するのが経済的である。

上記ラミネートフィルムにおいて、抗張力の大な樹脂フ
ィルム４がラミネートフィルムのいわゆる「腰」をもた
せ、エンボス処理時や基材１への貼合時に十分な加工性
を発揮する。又、これらのラミネートフィルムは実質上
透明であることが必要であり、透明である限り着色され
ていてもよい。

一方、ラミネートされた低軟化点樹脂フィルム５が、そ
の上に形成する電離放射線硬化被膜６に十分なエンボス
加工性を付与するものである。

上記の如きラミネートフィルムの低軟化点樹脂フィルム
５の表面に、電子線硬化性塗料や紫外線硬化性塗料等の
電離放射線硬化性塗料から硬化被膜６を形成し、これを
エンボス加工して表面に微小凹凸形状７を形成する。

電子線硬化性塗料と紫外線硬化性塗料とは、後者が光重
合開始剤や増感剤を含有することを除いて成分的に同様
なものであり、一般的には被膜形成性成分としてその構
造中にラジカル重合性の二重結合を有するポリマー、オ
リゴマー、千ツマー等を主成分とし、その他必要に応じ
て非反応性のポリマー、有機溶剤、ワックスその他の添
加剤を含有するものである。

本発明の目的に特に好ましいものは被膜形成性成分が、
アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的
低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アク
リル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹
脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジェン樹脂、ポリ
チオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合
物の（メタ）アクリレート等のオリゴマー又はプレポリ
マー、及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレ
ート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン
、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能子
ツマ−並びに多官能性子ツマ−１例えば、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオー
ルジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ４　
　（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（
メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（
メタ）アクリレート、１．６−ヘキサンシオールジ（メ
タ）アクリレート、ネオベンチルグリコールジ（メタ）
アクリレート等を比較的多量に含有するものである。

このような多官能（メタ）アクリレート系の電離放射線
硬化性塗料を使用することによって、表面硬度、透明性
、耐擦傷性、耐汚染性等に優れた硬化樹脂層を形成でき
る。更にこのような硬化樹脂層が高い可撓性や耐収縮性
が要求される場合には、上記の硬化性塗料中に適当量の
熱可塑性樹脂、例えば、非反応性のアクリル樹脂や各種
ワックス等を添加することによってそれらの要求に応え
ることができる。又、これらの硬化性塗料は下層の印刷
模様が見えるように透明であることが必要であり、透明
であれば淡く着色されていてもよいし、又、本発明の目
的を妨げない範囲において少量の艶消剤を含有していて
もよい。

又、上記の硬化性塗料を紫外線硬化性塗料とするには、
この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベン
ゾフェノン類、ミヒラーペンゾイルベンゾエート、α−
アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサル
ファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブ
チルアミン、トリエチルアミン、トリーｎ−ブチルホス
フィン等を混合して用いることができる。

以上の如き電子線又は紫外線硬化性塗料等の電離放射線
硬化性塗料は種々のグレードのものが知られ、いずれも
市場から容易に人手でき本発明において使用することが
できる。

又、それらの硬化方法も従来技術がそのまま使用でき、
例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型
、バンプグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直
線型、ダイナミドロン型、高周波型等の各種電子線加速
機から放出される５０乃至１，０００にｅｖ、好ましく
は１００乃至３００にｅＶのエネルギーを有する電子線
等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高
圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光源から発する紫外線等
が利用される。

以上の如き電離放射線硬化性塗料は、例えば、ブレード
コーティング方法、グラビアコーティング方法、ロッド
コーティング方法、ナイフコーティング方法、リバース
ロールコーティング方法、スプレーコーティング方法、
オフセットグラビアコーティング方法、キスコーティン
グ方法等、任意の塗布方法によりＯｆ記の低軟化点樹脂
フィルム５上に塗布されるが、特に塗Ｉ５厚の精度、塗
Ｉ１１表面の平滑性等に優れたグラビアコーティング方
法、リバースロールコーティング方法、オフセットグラ
ビアコーティング方法等が好適である。

又、上記の硬化性塗料の塗布量は少なすぎると十分な表
面硬度、表面強度或いは耐擦傷性が得られず、又、多す
ぎると後のエンボス加工処理によって十分な艶消性を有
する微小凹凸形状の形成が困難になるため、１乃至１０
０μｍ、特に１乃至１０μｍ程度の範囲の厚み（乾燥時
の厚み）が好適である。

上記の三層積層体８の最上層である硬化被膜６に微小凹
凸形状７を形成するには通常のエンボス方式を用いる。

エンボス方式はロール状のエンボス版を用いる方法と平
版状のエンボス版を用いる方法とがあるが、いずれの方
法でもよい。これらの艶消用のエンボス版はエツチング
法、電鋳法、サンドブラスト法等により金属製等の版面
に１乃至１５μｍ程度の深さの微小凹凸形状を設けたも
のであり、いずれの深さのものでもよいが、エンホスフ
ィルムの外観を考慮すると２乃至１０μｍのエンボス深
さを有するのか好ましい。

このようなエンボス版によって電離放射線硬化被膜６を
エンボス処理することによって硬化被膜に微小凹凸形状
７を付与することができるが、好ましい微小凹凸形状７
は、エンボス版を前記低軟化点樹脂フィルム５が軟化す
る温度、例えば、８０乃至１５０℃程度の温度に加熱し
て行うことが好ましい。又、エンボス加工は、いずれの
時期に実施してもよく、表面被覆層８を印刷層２を有す
るＪＡＡｌ１貼合した後でも前でもよい。

上記表面被覆層８と印刷層２を有する基材１との貼合は
常法によって行えばよい。

（効　　果） 以上の如き本発明によれば、電離放射線硬化被膜の下に
低軟化点の樹脂フィルム層が存在しているので、この低
軟化点樹脂フィルムがエンボス処理時に容易に軟化して
硬化被１模のエンボスを可能にし、エンボス版が離型し
た後は、直ちにその可塑性を失うので、硬化被膜に付怪
された微小凹凸形状を有効に保持することができる。従
って、電離放射線硬化被膜が高架橋密度を有しているに
も係わらず、優れた艶消性を付与することができる。又
、エンボスの深さは低軟化点樹脂フィルムの厚さによっ
て自由に調整できるので、種々の艶消性の化粧シートを
与えることができる。又、低軟化点樹脂フィルムの厚み
は容易に一定の厚みにすることができるので、硬化被膜
に均一な深さの微小凹凸形状が形成でき、従ってムラの
ない艶消面を付与することができる。

又、低軟化点樹脂フィルムの下には抗張力の大な樹脂フ
ィルムが存在しているので、エンボス処理時や基材との
貼合時に十分な加工性をもたせることができる。

以上のように本発明の化粧シートはその表面が均一な微
小凹凸形状を有する高架橋密度の電離放射線硬化被膜で
あるため、十分な艶消性とともに、十分な耐擦傷性、耐
汚染性、耐溶剤性等を有しており、従来技術の種々の問
題点が解決された。

（実施例） 次に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。

２３ｇ／ばの薄紙（三興製紙製）の面に、ニトロセルロ
ース系ビヒクルよりなる印刷インキ（諸層インキ製）を
用い、グラビア印刷方式にてグランドコート及び化粧模
様を印刷した。

一方、ポリエチレンテレフタレート及びポリ塩化ビニリ
デンをダイ外Ｔダイ法で夫々２０μｍ及び５μｍの厚み
に共押出し、この共押出しフィルムのポリ塩化ビニリデ
ンフィルム側に、艶消剤を含有しない紫外線硬化性塗料
（大日精化工業製、セイ力ビームＰｌ＋（：　、ポリエ
ステルアクリレート等）をグラビアコーティング法によ
り２μｍの厚みに塗工し、次いで塗工面上の１２．５ｃ
ｍの位置に設けた出力１６０Ｗ／ｃｍの紫外線ランプ２
灯の下を１０ｍ／ｍｉｎ、の速度で通過させて紫外線を
照射し塗工層を十分に硬化させた。

次にサンドブラスト法により表面を艶消処理したエンボ
スロール（凹凸差４μｍ、６０°反射グロス値４．７）
を用いて上記フィルムの硬化被膜面を熱エンボス加工を
施した。得られたエンボス面の６０°反射グロス値は１
２．０であった。

次に首記基材の印刷面と上記の表面被覆層との裏面層を
ポリウレタン系接着剤（武田薬品製）を用いてドライラ
ミネートし本発明の化粧シートを１７だ。

この化粧シートの表面をスチールウール＃００００を用
いて２０回強く摩擦しても何らの傷も付かなかった。又
、表面に油性のサインベンで文字を書き込み、乾燥後転
いた布で十分にＦ！Ｊ擦すると、文字は十分に拭き取ら
れ、表面には何らの汚れも認められなかった。

尚、比較の目的で前記紫外線硬化性塗料に艶消剤（シリ
カ）を１０重量％含有させ、硬化被膜をエンボス処理し
なかったことを除いて上記と同様にして調製した化粧シ
ートは、本発明の化粧シートとほぼ同様な艶消性を有し
ていたが、同様な耐擦傷性テストにおいて表面が傷がつ
き、又、耐汚染性テストでは表面にインキが吸収され、
完全に拭き消すことはできなかった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の化粧シートの断面を図解的に示す図で
ある。 １：基材 ２：絵柄印刷層 ３：接着剤層 ４：抗張力の大な樹脂フィルム ５：低軟化点樹脂フィルム ６：電離放射線硬化被膜 ７：微小凹凸形状 ８：表面被覆層 １０：化粧シート

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材、絵柄印刷層、接着剤層及び表面被覆層がこ
   の記載の順序で積層された化粧シートにおいて、上記表
   面被覆層が、抗張力の大な樹脂フィルム、低軟化点樹脂
   フィルム及び電離放射線硬化被膜の三層積層体であって
   、最上層の硬化被膜が微小凹凸形状を有することを特徴
   とする耐擦傷性及び艶消性に優れた化粧シート。
2. （２）電離放射線硬化被膜が実質上艶消剤を含有しない
   特許請求の範囲第（１）項に記載の化粧シート。