JPS63264701A - 受光光学装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、−次元広視野受光装置の収差を改良し、より
線幅の狭い線像を得ろ受光光学装置に関する。

〔従来の技術〕

従来の技術としては、特開昭５９−８４２０１号公報に
開示される如き一次元広視野受光装置があり、これはレ
ンズ主体の上部に接合したプリズムの傾斜面を焦点面と
することを要旨としている。

そして、シリンドリカル反射面Ａを一回のみ使用して集
光を行うものであった。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記の如き従来の装置では、一つの曲面にて集光させて
いるため、短い焦点距離にてコンパクトに集光させるた
めには、曲率半径の小さい（カーブのきつい）面とせね
ばならない。そのため、球面収差が大きくなるので、線
状の集光光の幅が広くなり所定の線幅に集光できないと
いう欠点があった。また、球面収差を減らすために考え
られた「曲面の非球面化」においては、−次元の非球面
（非円筒面）の制作という極めて困難な問題を伴ってい
る。

本発明の目的は、収差の発生が少なく集光線幅を狭めて
集光し得る小型な受光光学装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

本発明による受光光学装置は、プリズム体に２つのシリ
ンドリカル凹面反射面を設け、これらによる２回の反射
によって集光する構成を要旨としている。

とのｔコめ、従来の１回反射による場合に比べて同一の
焦点距離とするためには、曲率半径の大きな（ゆるいカ
ーブの）曲面を用いることが可能となり、さらには２面
の曲率の組み合わせを最適化することにより、集光の際
に生ずる収差を大幅に減少させ、集光線幅を極めて狭く
絞ることが可能となる。

〔実施例〕

本発明の実施例を図面を用いて説明する。

第１図の断面光路図に示す如く、プリズム体１には入射
面Ｃ１第１のシリンドリカル凹面反射面Ａ、第２のシリ
ンドリカル凹面反射面Ｂ、及び収束面りが形成されてい
る。そして、矢印で示す入射光線は入射面Ｃを透過し、
入射面Ｃからの光線が第１のシリンドリカル凹面反射面
Ａにて反射収斂され、第１のシリンドリカル凹面反射面
Ａからの光束はさらに第２のシリンドリカル凹面反射面
Ｂによって反射収斂され、収束面り上にて線状に集光さ
れる。このように、２つのシリンドリカル凹面反射面Ａ
及びＢによって集光しているため、各反射面での収差の
発生が少なく、収束面り上には幅の狭い集光がなされる
。

第２図において示した従来型のものでは、入射光線がシ
リンドリカル凹面反射面Ａ′で反射集光されたのち、平
面反射面Ｂ′で反射されて収束面り上に集光される。こ
の場合、１つのシリンドリカル凹面反射面のみによって
集光されろため、その曲面の曲率は、第１図の本発明に
おける各曲面のそれらよりも大きくなり、収差の発生が
大きくならざるを得ず、収束面り上での集光線幅は広く
なるという支障がある。

〔発明の効果〕

以上説明したように、プリズム体への入射光線が２つの
シリンドリカル凹面反射面によって集光されろ構造とし
たため、収差の発生が少なく集光線幅を狭めて集光し得
る小型な受光光学装置を提供することができる。そして
、これにより広視胃で大口径であり、しかも小型な受光
装置を提供することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による実施例の構成を示す断面光路図、
第２図は従来の構成を示す断面光路図である。 〔主要部分の符号の説明〕 １・・プリズム体 Ａ、Ｂ・・・シリンドリカル凹面反射面Ｃ・・・入射面 Ｄ・・・収束面 第１図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 入射光線を透過する入射面と、該入射面からの光線を反
   射収斂する第１シリンドリカル凹面反射面と、該第１シ
   リンドリカル凹面反射面からの光線をさらに反射収斂す
   る第２シリンドリカル凹面反射面と、該第２シリンドリ
   カル凹面反射面による反射光が集光される収束面とを有
   するプリズム体で構成されたことを特徴とする受光光学
   装置。