JPS63262470A

JPS63262470A - 気相反応装置

Info

Publication number: JPS63262470A
Application number: JP9796887A
Authority: JP
Inventors: Ryutaro Umeno; 梅野　龍太郎; Keiichi Nagasaki; 恵一長崎; Masayuki Hachitani; 昌幸蜂谷; Hiroshi Aikawa; 相川　博
Original assignee: Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 1987-04-21
Filing date: 1987-04-21
Publication date: 1988-10-28

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［産業上の利用分野］本発明は気相反応装置に関する。更に詳細には、本発明
はＮ２ガスの供給される予備室またはロードロック室を
有するゝト導体製造用の気相反応装置に関する。

［従来の技術］ウェハに膜付等を行うための気相反応装置において、反
応炉内ヘウェハを搬入したり、あるいは、反応炉内から
ウェハを搬出したりするために、反応炉の適当な箇所に
密閉式の予備室またはロードロック室が配設されている
。

予備室と反応炉とはゲートバルブを介して隔てられてい
る。すなわち、反応炉ヘウェハを出し入れする場合、こ
のゲートバルブを開閉し、予備室と反応炉とを連通させ
る。また、予備室には当然、大気中のウェハ搬送系とウ
ェハのやり取りを好うためのフタが設けられている。

予備室内にウェハを供給または払い出す場合、予備室内
と室外のウェハ搬送系に圧力差があると、フタ開閉に支
障が発生したり、圧力差により気流が発生するので、予
備室内にＮ２ガスを送入し圧力調整が行われている。

しかし、圧力差による気流の発生は防ｌにできるが、予
備室内へ送入されるＮ２ガス流により予備室の底面等に
堆積している塵埃または異物等がまきあげられることが
ある。

また、ウェハは、駆動機構により進退可能に構成された
搬送手段に保持されて移送される。この搬送手段の移動
によっても、前記と同様な予備室内における異物まきあ
げの問題が発生する。

このようなｓＮ２ガス流および／または搬送手段により
まきあげられた異物は、搬送手段に保持されているウェ
ハの表面に落下・付着する恐れがある。これら異物がウ
ェハに付着すると蒸着膜にピンホールを生じたりして半
導体素子の製造歩留りを著しく低下させるという欠点が
あった。

［発明の目的］従って、本発明の目的は予備室内における異物のまきあ
げを防止できるように構成された予備室を有する気相反
応装置を提′供することである。

［問題点を解決するための手段］前記の問題点を解決し、あわせて本発明の目的を達成す
るための手段として、この発明は、反応炉と、この反応
炉に対してゲートバルブを介して連通または密閉される
予備室とを有する気相反応装置において、前記予備室は
有孔仕切板により長手方向に二分されており、該仕切板
よりド側には・ウェハ搬送手段を進退させるための駆動
系が配設されていて、該仕切板よりもｌ−側にはウェハ
を保持するウェハ搬送手段とＮ２ガス送入口とが配設さ
れていることを特徴とする気相反応装置を提供する。

［作用］前記のように、本発明の気相反応装置では、予備室の内
部が長手方向に有孔仕切り板で二分されている。

発塵源となる、ウェハ搬送手段の駆動系、例えば、ウェ
ハ搬送手段のガイド軸あるいは駆動モータ等は仕切り板
よりも下側に配設する。一方、ウェハを保持するウェハ
搬送手段は、この仕切り板よもｌ−側に配設する。この
ようにすれば、駆動系により発塵、まきあげられた異物
は仕切り板で遮断され、仕切り板よりも１−側にあるウ
ェハ搬送り段およびこれに保持されたウェハに落下−付
着することは効果的に防止される。

また、予備室の圧力調整用のＮ２ガスは仕切り板よりも
」−側の部分に吹き出される。このため、駆動系により
発塵された異物がＮ２ガス送入により巻きあげられるこ
きはない。

［実施例］以下、図面を参照しながら本発明の気相反応装置の一例
について更に詳細に説明する。

第１図は本発明の気相反応装置の−・例の部分概要断面
図である。

第１図において、１０は気相反応装置の反応炉であり、
２０はこの反応炉に接続されている予備室である。反応
炉と予備室とはゲートバルブ３０により隔離されている
。このゲートバルブが開」されると、予備室は反応炉と
連通状態になり、閉卯されると−ｒ備室は密閉状態にな
る。

予備室の内部は仕切り板４０で長手方向に二分されてい
る。上側の室４２にはウェハ搬送手段５０が配設される
。ウェハ５２はこのウェハ搬送手段の先端側１１面に保
持されて反応炉内へ搬入、あるいは反応炉から搬出され
る。下側の室４４には前記ウェハ搬送り段５０を進退さ
せるための駆動系６０が配設される。駆動系は例えば、
ウェハ搬送Ｐ段を支持する支持部材６２をガイド軸６４
に沿って前後進させる駆動モータ６６により構成するこ
とができる。これら以外の駆動系構成手段も当然使用で
きる。例えば、エアーシリンダあるいはポールスクリュ
ウ等も使用できる。第１図において、６８ａおよび８８
ｂはガイド軸の支柱である。

予備室内はウェハの出し入れを行うため、圧力を０　、
４　Ｔｏｒｒ程度から大気圧まで変化される。このため
、仕切り板４０は気体を通過させることができるように
有孔構造になっている。例えば、パンチングプレート、
メツシュプレート、有孔平板等を使用できる。巻きあげ
異物の遮断効果を高めるために開孔面積はあまり大きす
ぎないほうが好ましい。図示されていないが、この仕切
り板のＳｌｉ。

面部分にはウェハ搬送手段の支持部材が１１通し、前後
進できるようにするための溝が穿設されている。

別法として、仕切り板−１−に異物が堆積することを防
ぐために、山形等の傾斜を持った複数の部材を連結して
仕切り板とすることもできる。

予備室内の圧力を調整するためのＮ２ガス送入丁段７０
が配設されている。このＮ２ガス送入手段７０のガス吹
出しＬ１７２は仕切り板４０よりもｌ−側に位置しなけ
ればならない。第１図ではＮ２ガス送入手段７０は予備
室底面より持ち上げているが、ガス吹出しロア２が仕切
り板４０より上部にあれば、予備室の側壁あるいは天井
部に設けることもできる。゛予備室の圧力調整を円滑に行えるようにするため、予備
室の底面に排気ダクト８０を設けることができる。この
排気ダクトは図示されていないが工場の排気系または独
Ｓ’／、　Ｌ／た真空ポンプ等の排気手段に接続されて
いる。

本発明の気相反応装置は反応炉に予備室が接続されてい
るタイプの半導体製造用のものであれば全てについて適
用できる。例えば、常圧、減圧またはプラズマＣＶ　ｆ
）装置、ドライエツチング装置。

エピタキシャル成長装置、ＰＶＤによる金属膜被着装置
、酸化・拡散装置等においても同様に実施できる。

［発明の効果］以を説明したように、本発明の気相反応装置では、予備
室の内部が長手方向に有孔仕切り板で部分されている。

発塵源となる、ウェハ搬送手段の駆動系、例えば、ウェ
ハ搬送手段のガイド軸あるいは駆動モータ等は仕切り板
よりも下側に配設する。一方、ウェハを保持するウェハ
搬送手段は、この仕切り板よも上側に配設する。このよ
うにすれば、駆動系により発塵、まきあげられた異物は
仕切り板で遮断され、仕切り板よりも上側にあるウェハ
搬送手段およびこれに保持されたウェハに落下・付着す
ることは効果的に防止される。

また、予備室の圧力調整用のＮ２ガスは仕切り板よりも
に側の部分に吹き出される。このため、駆動系により発
塵された異物がＮ２ガス送入により巻きあげられること
はない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の気相反応装置の一例の部分概要断面図
である。ｌＯ・・・反応炉、２０・・・予備室、３０・・・ゲー
トバルブ、４０・・・有孔仕切り板、４２・・・上側室
。４４・・・ド側室、５０・・・ウェハ搬送手段。５２・・・ウェハ、６０・・・駆動系、６２・・・ウェ
ハ搬送手段支持部材、６４・・・ガイド軸、６６・・・
駆動モータ、６８ａおよび６８ｂ・・・支柱、７０・・
・Ｎ２ガス送入手段、７２・・・Ｎ２ガス吹出し口、８
０・・・排気ダクト

Claims

【特許請求の範囲】

（１）反応炉と、この反応炉に対してゲートバルブを介
して連通または密閉される予備室とを有する気相反応装
置において、前記予備室は有孔仕切板により長手方向に
二分されており、該仕切板より下側にはウェハ搬送手段
を進退させるための駆動系が配設されていて、該仕切板
よりも上側にはウェハを保持するウェハ搬送手段とＮ＿
２ガス送入口とが配設されていることを特徴とする気相
反応装置。
（２）予備室の底面には排気ダクトが更に配設されてい
ることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の気相
反応装置。