JPS63258889A - 置換ジアリールホスファイドの製造 - Google Patents

置換ジアリールホスファイドの製造

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JPS63258889A
JPS63258889A JP63084963A JP8496388A JPS63258889A JP S63258889 A JPS63258889 A JP S63258889A JP 63084963 A JP63084963 A JP 63084963A JP 8496388 A JP8496388 A JP 8496388A JP S63258889 A JPS63258889 A JP S63258889A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、テトラアリニルジホスフィンの製造に出発物
質として使用するのに適した置換ジアリールホスファイ
ド類の製造方法に関するa前者の化合物は、1種もしく
はそれ以上のオレフィン系不飽和化合物と一酸化炭素と
の小合体を製造することを目的とした触媒組成物に成分
として使用することができる。
単量体単位が交互の順序で存在しかつしたがって重合体
が一般式−GO−(A’)−[式中、A′は使用する単
量体Aから生じた単量体単位を示す]の中位よりなるよ
うな一酸化炭素と1種もしくはそれ以上のオレフィン系
不飽和化合物(以下、簡略のためAと称する)との高分
子量線状重合体は、下記成分に基づく触媒組成物を用い
て製造することができる: (a)パラジウム化合物、 (b)6未満のpKaを有する酸の陰イオン、および(
c)一般式R1R2P−R−PR3R4[式中、R1−
R4は同一もしくは異なる芳香族炭化水素基を示し、か
つRは架橋中に少なくとも3個の炭素原子を有する二価
の架′PJ基である]のテトラアリールジホスフィン。
触媒組成物中に成分(C)として使用するのに極めて適
したものは、基R、R、RおよびR4が互いに同一であ
り、したがって一般式(R1)2P−R−P(R1)2
によって示しつるシボスフィン類である。これらジホス
フィンの製造は、アルカリ金属ジアリールホスファイド
(R1)2PMとジハロ化合物X−R−Xと(7)反応
、或いはアリールアルカリ金属化合物R1Mとテトラハ
ロジホスフィンX2P−R−PX2との反応のいずれか
により行なうことができる。
たとえば、1,3−ビス(ジフェニル−ホスフィノ)プ
ロパンは、(CH)  −PNaとCl−(CH)  
−C4)との反応、またはC6H5l iとCI2 P
−(CH2)3−CI 2との反応のいずれかにより製
造することができる。第一の製造方法につき燐含有出発
物質をもたらす一段階合成(すなわち、液体アンモニア
中におけるアルカリ金属Mとトリアリールホスフィン(
R1)3Pとの反応による)の単純性および第二の製造
方法スぷ」 にm燐含有出発物質をもたらす極めて面倒な多段階合成
を考慮すれば、第一の製造方法がずっと好適である。
過去において、本発明者は上記触媒組成物に関する研究
を行なった。この研究が示したところでは、その性能は
成分(C)として一般式R,,R6P−R−PRR[式
中、R,R,、R7およびR8は極性基により置換され
てもされなくてもよい同一もしくは異なる芳香族炭化水
素基を示し、ただしIR,R,RおよびR8の少なくと
ち1つは少なくとも1個の極性置換基を有しかつRは上
記の意味を有する]のジホスフィンを混入してかなり向
上させることができる。触媒組成物の成分(C)として
使用するのに極めて適するものは、基R、R、R7およ
びR8が互いに同一であり、したがって一般式(R5)
2P−R−P(R5)2[式中、R5は極性置換された
芳6族炭化水素基である]によって示しうるジホスフィ
ンである。成分(C)として一般式(R1)2P−R−
P (R1>2のジホスフィンを含有する触媒組成物の
性能と、成分(C)として一般式%式% を含有する対応の触媒組成物との比較は、両組酸物につ
き同様な反応速度において極性置換されたジホスフィン
を含有する組成物がより高分子量を有する重合体を生成
することを示し、或いは等しい分子量の重合体を製造す
るためにこれら2種の組成物を使用する場合極性置換さ
れたジホスフィンを含有する組成物がより高い反応速度
をもたらすことを示す。
本発明者は、式(R5)、P−R−P (R5)2の極
性置換されたジホスフィンの製造につき研究を行なった
。一般式(R5)2P−R−P(R5)2の極性置換さ
れたジホスフィンについても一般式(R,)2P−R−
P (R1)、2の非極性置換されたジホスフィンにつ
いても、アリールアルカリ金属化合物とテトラハロジホ
スフィンとの反応による製造は、所要の燐含有出発物質
の極めて面倒な多段階合成のため、あまり魅力的な方法
でないので、本発明者の行なったこの研究は非極性置換
されたジホスフィンの製造につき先に挙げた方法に向け
られ、すなわちアルカリ金属ジアリールホスファイドを
ジハロ化合物と反応させることにより行なった。
非極性置換されたジホスフィンの製造の検討において上
記したように、その合成に必要とされる燐含有出発物質
は液体アンモニア中においてアルカリ金fiMとトリア
リールホスフィン(R1)3Pとの反応により簡単に得
ることができる。この研究が示したところでは、この方
法はアリール基が、たとえばナトリウムジフェニルホス
フフイドのような置換基を持たないアルカリ金属ジアリ
ールホスファイドの製造、およびアリール基が、たとえ
ばメチル基のような非極性置換基を持っているようなア
ルカリ金属ジアリールホスファイドの製造の両者につき
適している。この種のアルカリ金属ジアリールホスファ
イドの例は、ナトリウムジ(2−メブルーフェニル)ホ
スファイド、ナトリウムジ(3−メチル−フェニル)ホ
スファイドおよびすトリウムジ(4−メチル−フェニル
)ホスファイドである。定量的変換を達成しうるトリフ
ェニルボスフィンからのナトリウムジフェニルホスファ
イドの製造と比較して、アリール基が1個もしくはそれ
以上の非極性置換基を有するようなジアリールホスファ
イドの対応する製造は一般により低収率で進行するが、
この製造方法についてはこのような低収率でも工業規模
で充分有用であることが判明した。アリール基が1個も
しくはそれ以上の極性置換基を有するアルカリ金属ジア
リールホスファイドの製造に上記製造方法を応用する研
究が示したところでは、燐原子に対し極性置換基が存在
する位置は極めて重要である。たとえば、アルカリ金属
ジアリールホスファイドの生成は、たとえばジアルキル
アミノ基のような成る種の極性基が燐に対しバラの位置
で存在することにより完全に抑制されることが判明した
。燐に対しバラ位置の、たとえばアルコキシ基のような
他の極性基の存在は、アルカリ金属ジアリールホスファ
イドの生成を低収率で進行さゼた。同様に、2個もしく
は3個の極性置換基がアリール基に存在すると、これら
極性置換基が燐に対し存在する位置はアルカリ金属ジア
リールホスファイドの好適な製造につき極めて重要であ
る。たとえば燐に対しオルト位置の2個のアルコキシ基
の存在で、アルカリ金属ジアリールホスファイドの生成
が低収率で進行するのに充分であるのに対し、アルカリ
金属ジアリールホスファイドの生成は燐に対しパラ位置
に他の第3のアルコキシ基が存在すると完全に阻止され
ることが判明した。さらに、2個のメトキシ麩が燐に対
しオルトおよびバラの位置で存在するとアルカリ金属ジ
アリールホスファイドの生成が全く生じなかった。驚く
べきことに、この研究に際し、アルカリ金属ジアリール
スルフ1イド合成の進行に影響を与ええることなく、燐
に結合したアリール基は1個もしくはそれ以上の極性置
換基を、ただ°しこれらの極性置換基が2つのメタ位置
および一方のオルト位置とは異なる位置には存在しない
ならば、有しうろことが判明した。上記基準を満たすト
リアリールホスフィンから出発し、極性置換されたアリ
ール基を有するアルカリ金属ジアリールホスファイドが
高収率乃至極めて高収率で製造することができる。成る
場合には、これらのトリアリールホスフィンは対応のア
ルカリ金属ジアリールホスファイドにほぼ定量的にさえ
も変換することができる。
したがって本発明は、アルカリ金属ジアリールホスファ
イドの製造方法に関し、この74においては一般式(R
9)2PMのアルカリ金属ジアリールホスファイドを、
液体アンモニア中にてアルカリ金ff1Mを一般式(R
9)3P[この一般式中、R9は1個もしくはそれ以上
の極性置換基を有するアリール基を示す]のトリアリー
ルホスフィンと反応させて製造され、前記極性置換基は
燐原子に対し2個のメタ位置および一方のオルト位置以
外の位置を占めない。本発明により製造される一般式(
R9)2PMのアルカリ金属ジアリールホスファイドに
おいてMがカリウムを示さずかつ同時にR9が2−メト
キシフェニル基を示す限り、これらのアルカリ金属ジア
リールホスファイドは新規な化合物である。さらに本発
明は、新規化合物としてのこれらアルカリ金属ジアリー
ルホスファイドにも関するものである。
これら新規なアルカリ金属ジアリールホスファイドの例
はナトリウムジ(2−メトキシ−フェニル)ホスファイ
ド、ナトリウムジ(3−メトキシ−フェニル)ホスファ
イド、ナトリウムジ(3−tert−ブト1−シーフェ
ニル)ホスファイド、ナトリウムジ(2,3−ジメトキ
シ−フェニル)ホスフアイト、ナトリウムジ(2,5−
ジメトキシ−フェニル)ホスファイドおよびナトリウム
ジ(2−メトキシ−5−メチルフェニル)ホスファイド
である。
本発明により!FJ造される一般式(R9)2PMのア
ルカリ金属ジアリールホスファイドは、先ず第1に、一
般式(R9)2P−R−P (R9>2のテトラアリー
ルジホスフィン、すなわち4個のアリール基が互いに同
一であるテトラアリールジホスフィンを製造するための
出発物質として使用する目的を有する。この目的で、ア
ルカリ金属ジアリールホスファイドを一般式X−R−X
 [式中、Xは塩素もしくは臭素を示す]のシバO化合
物と反応させることができる。一般式(R9>2p−R
−P(R9)2のテトラアリールジホスフィンにおいて
Rが架橋中に3個の炭素原子を持たずに同時+−R9が
2−メトキシ−フェニル基を示す限り、これらのテトラ
アリルジホスファイドは新規な化合物である。さらに、
本発明により製造される一般式(R9)2PMのアルカ
リ金属ジアリールホスファイドは、一般式(R9>2P
−R−P(R)(R11)  [式中、RloおよびR
11は同1〇 −もしくは異なるアリール基であって、極性置換基を有
することができる]のテトラアリールジホスフィンを製
造するための出発物質として使用するのに適している。
この目的では、アルカリ金属ジアリールホスファイドを
一般式X−R−P (R、。)(R,1)のモノ八日化
合物と反応させることができる。一般式(R9)2P−
R−P(Rlo)(R11)[式中、アリールMR1o
およびR11のいずれか一方は適宜R9と同一とするこ
とができる1のテトラアリールジホスフィンも新規な化
合物である。さらに本発明は、新規化合物としての一般
式(R9)2P−R−P (R9)2、ただしこの式に
おいてRは架橋中に3個の炭素原子を持たず、同時にR
9は2−メトキシ−フェニル基を示す、の上記テトラア
リールジホスフィンにも関し、さらに一般式(R9)2
P−R−P(Rlo)(R11)[式中、アリール基R
1oおよびRのいずれか一方は適宜R9と同一とするこ
とができる1の新規な化合物としての上記テトラアリー
ルジホスフィンにも関するものである。
さらに本発明は、 (a)パラジウム化合物、 (b)6未満のpKaを有する酸の陰イオンと、(C)
前記新規なテトラアリールジホスフィンの1種と に基づく新規な触媒組成物にも関する。
最後に本発明は、−酸化炭素と1種もしくはそれ以上の
オレフィン系不飽和化合物との重合体を製造する際のこ
れら新規な触媒組成物の使用、並びにこれにより製造さ
れる重合体および少なくともこれら重合体より部分的に
なる成形物品に関するものである。
本発明の方法において、一般式(R9)2PMの化合物
は一般式(R9)3Pの化合物から出発して¥J3¥i
される。これら一般式において、極性置換されたアリー
ル19は好ましくは極性置換されたフェニル基である。
この極性置換されたフにル基は最高3個の極性置換基を
有することができる。その個数に応じて、極性置換基は
次のようにフェニル基に結合することができる(燐は1
−位置を占める)。1個の置換基が存在する場合、これ
は2−位置もしくは3−位置を占めることができる。2
個の極性置換基が存在する場合、これらは2−位置およ
び3−位置、2−位置および5−位置、または3−位置
および5−位置を占めることができる。3個の極性置換
基7が存在する場合、これらは必ず2,3および5−位
置を占めねばならない。極性買換されたアリールIR9
が2個もしくは3個の極性置換基を有する場合、これら
の極性置換基は同一もしくは異なるものとすることがで
きる。好ましくは同一の極性置換基である。
1個もしくはそれ以上の橿性叫換塁に加え、極性置換さ
れたアリール基R9は、さらにアルキル基特にメチル基
のような非極性置換基を右しうる。
好適な極性置換基には、たとえばジメチル−アミノ基の
ようなジアルキル−アミノ基およびたとえばメトキシお
よびt−ブトキシ基のようなアルコキシ基がある。アリ
ール基R9に存在する好適な極性置換基はアルコキシ括
、特にメトキシ基である。
本発明によるアルカリ金属ジアリールホスファイドの製
造は、液体アンモニア中におけるアルカリ金属Mとトリ
アリールスルフィンとの反応により行なわれる。使用し
つるアルカリ金属はリヂウム、カリウムおよびナトリウ
ムである。好ましくはアルカリ金属としてナトリウムを
使用する。変換すべきトリアリールホスフィン1モル当
り約2モルのアルカリ金属を使用するのが好適である。
液体アンモニアの聞は広範囲で変化することができる。
アルカリ金属1ミリモル当り 1〜125m。
特に10〜40dの液体アンモニアを使用するのが好適
である。液体アンモニアは大気圧にて約−33℃で沸騰
するため、本発明の方法は大気圧で行なう場合−33℃
未満で行なわねばならない。好ましくは、本発明の方法
は−100〜−35℃、特に−80〜−35℃の温度に
て行なわれる。本発明の方法を加圧下で行う場合、−3
3℃以上の温度を所望により使用することができる。研
究に際し、成る場合にはアルカリ金属ジアリールホスフ
ァイドの収率を反応が行なわれる液体アンモニアにエー
テルを添加してずっと向上させうろことが判明した。極
めて適するエーテルは環式エーテル、特にテトラヒドロ
フランである。好ましくは液体アンモニアioo m!
当り2.5〜75m、特に5〜50mのエーテルを添加
する。
上記したように、本発明により製造されるアルカリ金属
ジアリールホスファイドはテトラアリールジホスフィン
の製造に出発物質として使用するのに興味があり、これ
は−酸化炭素を1種もしくはそれ以上のオレフィン系不
飽和化合物との重合体を製造する目的の触媒組成物の成
分として使用することができる。本発明のアルカリ金属
ジアリールホスファイドから!J Bしうる多数のテト
ラアリールジホスフィンは新規な化合物である。これは
一般式(R9)2P−R−P (R9)(R2)[ここ
でRは架橋中に3個の炭素原子を含有せず、同時にR9
は2−メトキシフェニル阜を示す]の化合物の場合に妥
当し、さらに一般式(R9)2P−R−P (Rlo)
(R11)の化合物の場合に妥当する。
上記したように、本発明はさらに一酸化炭素と1種もし
くはそれ以上のオレフィン系不飽和化合物との重合体を
製造するための新規な触媒組成物にも関し、この触奴組
成物は (a)パラジウム化合物と、 (b)6未満のpKaを有する酸の陰イオンと、(C)
上記1′i現なテトラアリールジホスフィンの1種と にMづいている。
成分(a)として触媒組成物中に用いられるパラジウム
化合物は、好ましくはカルボン酸のパラジウム塩、特に
酢酸パラジウムである。触媒組成物中に使用する成分(
b)は、好ましくは4未満のpKa (水溶液中18℃
で測定)を有する酸の陰イオンであり、特に2未満のp
Kaを有する酸の陰イオンである。より具体的には、た
とえばバラ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸の
陰イオン、或いはたとえばトリフルオル酢酸のような力
ルボン酸の陰イオンである。成分(b)は触媒組成物中
に酸としておよび/または塩として混入することができ
る。適する塩類は、たとえば銅塩のような非負金属の遷
移金属塩である。触媒組成物中に好適に使用される成分
(C)は、二価の架!I M Rが−(CH2)3−基
であるようなテトラアリールジホスフィンである。所望
ならば、成分(a)と(b)とを単一化合物として組合
せることもできる。
この種の化合物の例は錯体Pd(CH3CN)2(OS
−CH−CI−13)2であり、これは塩化パラジウム
とパラトルエンスルホン酸の銀塩とのアセトニトリルを
溶剤とする反応により製造することができる。成分(a
)、(b)および(C)の他に、触媒組成物は促進剤を
含むこともできる。好ましくは、この目的で1.4−キ
ノンを使用する。
上記触媒組成物を用いて一酸化炭素と重合させうる適当
なオレフィン系不飽和化合物は、炭素と水素とよりなる
化合物および炭素と水素との他に1個もしくはそれ以上
の異原子をも含有する化合物である。好ましくは、−酸
化炭素と1種もしくはそれ以上のオレフィン系不飽和炭
化水素との重合体の製造が挙げられる。適害な炭化水素
単吊体の例はブテンおよび他のα−オレフィン、たとえ
ばプロペン、ブテン−1、ヘキセン−1およびオクテン
−1である。本発明の触媒組成物は、−酸化炭素とブテ
ンとの共重合体を製造するため、および−酸化炭素とブ
テンおよび他のオレフィン系不飽和炭化水N(たとえば
プロペン)との三元重合体を製造するのに特に適してい
る。好ましくは、重合は20〜200℃の温度かつ1〜
200バールの圧力、特に30〜150℃の温度かつ2
0〜100バールの圧力にて行なわれる。典型的には、
Q!@体を重合体が不溶性である有機液体の、触媒組成
物の溶液と接触させて重合を行なう。所望ならば、重合
は気相で行なうこともできる。
以下、実施例により本発明をさらに説明する。
実施例 1 すトリウムジフェニルホスファイドを次のように作成し
た。冷却により一78℃に保たれた機械攪拌されている
反応容器に存在する100dの液体アンモニアへ、順次
に8ミリモルのナトリウムと4ミリモルのトリフェニル
ホスフィンとを加えた。
4時間後、4ミリモルの塩化アンモニウムを反応混合物
へ添加した。15分間゛後、アンモニアを蒸発させた。
得られた残沼物の分析は、トリフェニルホスフィンが定
量的にナトリウムジフェニルホスファイドまで変換した
ことを示した。
実施例 2 プトリウムジ(2−メチル−フェニル)ホスファイドを
実施例1のナトリウムジフェニルホスファイドと実質的
に同様に作成し、ただしトリフェニルホスフィンの代り
にトリ(2−メブルーフェニル)ホスフィンを使用した
。トリ(2−メチル−フェニル)ホスフィンのうち、5
5%がプトリウムジ(2−メチル−フェニル)ホスファ
イドに変換したことが判明した。
実施例 3 ナトリウムジ(3−メチル−フェニル)ホスファイドを
実施例1のナトリウムジフェニルホスファイドと実質的
に同様にして作成し、ただしトリフェニルホスフィンの
代りにトリ(3−メチル−フェニル)ホスフィンを使用
した。トリ(3−メヂルーフェニル)ホスフィンのうち
、84%がナトリウムジ(3−メチル−フェニル)ホス
ファイドに変換したことが判明した。
実施例 4 ナトリウムジ(4−メヂルーフェニル)ホスファイドを
実施例1のナトリウムシフ1ニルホスフ7イドと実質的
に同様に作成し、ただしトリフェニルホスフィンの代り
にトリ(4−メチル−フェニル)ホスフィンを使用した
。トリ(4−メチル−フェニル)ホスフィンのうち、7
9%がナトリウムジ(4−メチル−フェニル)ホスファ
イドに変換したことが判明した。
実施例 5 ナトリウムジ(4−メトキシ−フェニル)ホスファイド
を実施例1のナトリウムジフェニルホスファイドと実質
的に同様に作成し、ただしトリフェニルホスフィンの代
りにトリ(4−メトキシ−フェニル)小スフィンを使用
した。トリ(4−メトキシ−フェニル)ホスフィンのう
ち、2%がナトリウムジ(4−メトキシ−フェニル)ホ
スファイドに変換したことが判明した。
実施例 6 実施例1を反復したが、ただしトリフェニルホスフィン
の代りにトリ(4−ジメチル−アミノ−フェニル)ホス
フィンを使用した。ナリトウムジ(4−ジメヂルーアミ
ノーフェニル)ホスファイドへのトリ(4−ジメヂルー
アミノーフェニル)ホスフィンの変換は生じなかったと
思われる。
実施例 7 ナトリウムジ(2,6−シメトキシーフエニル)ホスフ
ァイドを実施例1のナトリウムジフェニルホスファイド
と実質的に同様に作成したが、ただしトリフェニルホス
フィンの代りにトリ(2,6−シメトキシーフエニル)
ボスフィンを使用した。トリ(2,6−シメトキシーフ
エニル)ホスフィンのう15.20%がナトリウムジ(
2,6−シメトキシーフエニル)ホスファイドに変換し
たことが判明した。
実施例 8 ナトリウムジ(2,6−シメトキシーフエニル)ホスフ
ァイドを実施例7と実質的に同様に作成したが、ただし
i〜リアリールホスフィンと共に10dのテトラヒドロ
フランを添加した。
トリ(2,6−シメトキシーフエニル)ホスフィンのう
ち、20%がナトリウムジ(2,6−シメトキシーフエ
ニル)ホスファイドに変換したことが判明しIご 。
実施例 9 実施例1を実質的に反復したが、ただしトリフェニルホ
スフィンの代りにトリ(2,4−ジメトキシ−フェニル
)ホスフィンを使用した。ナトリウムジ(2,4−ジメ
トキシフェニル)ホスファイドへのトリ(2,4−ジメ
トキシ−フェニル)ホスフィンの変換は生じなかったこ
とが判明した。
実施例 10 実施例1を実質的に反復したが、ただしトリフェニルホ
スフィンの代りにトリ(2,4,6−1〜リメトキシー
フエニル)ホスフィンを使用した。ナトリウムジ(2,
4,6−1−リメトキシーフェニル)ホスファイドへの
トリ(2,4,6−トリメトシキーフエニル)小スフィ
ンの変換は生じなかったことが判明した。
実施例 11 実施例10を実質的に反復したが、ただしトリアリール
ホスフィンと共に107のテトラヒドロフランを添加し
た。ナトリウムジ(2,4,6−トリメトキシーフエニ
ル)ホスファイドへのトリ(2,4,G−hリメトキシ
ーフェニル)ボスフィンの変換は生じなかったことが判
明した。
実施例 12 ナトリウムジ(2−メトキシーフェニ、ル)ホスファイ
ドを実施例1のナトリウムジフェニルホスファイドと実
質的に同様に作成したが、ただしトリフェニルホスフィ
ンの代りにトリ(2−メトキシ−フェニル)ホスフィン
を使用した。トリ(2−メトキシ−フェニル)ホスフィ
ンのうち、88%がナトリウムジ(2−メ1−キシ−フ
ェニル)ボスファイドに変換したことが判明した。
実施例 13 ナトリウムジ(2−メトキシ−フェニル)ホスファイド
を実施例12におけると実質的に同様に作成したが、た
だし次の相違点を設けた: (a)トリアリールホスフィンと共に10dのテトラヒ
ドロフランを添加し、かつ (b)塩化アンモニウムの添加を4時間後でなく6時間
後に行なった。
トリ(2−メトキシ−フェニル)ホスフィンは、ナトリ
ウムジ(2−メトキシ−フェニル)ホスファイドに定量
的に変換したことが判明した。
実流例 14 ナトリウムジ(2−メトキシ−フェニル)ホスファイド
を実施例13におけると実質的に同様に作成したが、た
だし次の相違点を設けた: (a)反応を一78℃でなり一40℃で行ない、かつ(
b)塩化アンモニウムの添加を6時間後でなく1時間後
に行なった。
トす(2−メトキシ−フェニル)ホスフィンは、ナトリ
ウムジ(2−メトキシ−フェニル)ホスファイドに定量
的に変換したことが判明した。
実施例 15 ナトリウムジ(3−メトキシ−フェニル)ホスファイド
を実施例1のナトリウムジフェニルホスファイドと実質
的に同様に作成したが、ただしトリフェニルホスフィン
の代りにトリ(3−メトキシ−フェニル)ホスフィンを
使用した。トリ(3−メトキシ−フェニル)ホスフィン
のうち、76%がナトリウムジ(3−メトキシ−フェニ
ル)ホスファイドに変換したことが判明した。
実施例 16 ナトリウムジ(3−tert、ブトキシ−フェニル)ホ
スファイドを実施例1のナトリウムジフェニルポスファ
イドと実質的に同様に作成したが、ただしトリフェニル
ホスフィンの代りにトリ(3−tert。
ブ1〜キシ−フェニル)ホスフィンを使用した。トリ(
3−1ert、ブトキシ−フェニル)ホスフィンのうち
、85%がナトリウムジ(3−tert、ブトキシ−フ
ェニル)ホスファイドに変換したことが判明した。
実施例 17 ナトリウムジ(3−tert、ブトキシ−フェニル)ホ
スファイドを実施例16におけると実質的に同様に作成
したが、ただし次の相違点を設けた:(a)トリアリー
ルホスフィンと共に10IIiのテトラヒドロフランを
添加し、かつ (b)塩化アンモニウムの添加を4時間後でなり16時
間後に行なった。
トリ(3−tert、ブトキシ−フェニル)ホスフィン
は、ナトリウムジ(3−t13rt、ブトキシ−フェニ
ル)ホスファイドに定量的に変換したことが判明した。
実施例 18 ナトリウムジ(2,3−ジメトキシ−フェニル)ホスフ
ァイドを実施例1のナトリウムジフェニルホスファイド
と実質的に同様に作成したが、ただしトリフェニルホス
フィンの代りにトリ(2,3−ジメトキシ−フェニル)
ホスフィンを使用した。トリ(2,3−ジメトキシ−フ
ェニル)ホスフィンのうち、72%がナトリウムジ(2
,3−ジメトキシ−フェニル)ホスファイドに変換した
ことが判明した。
実施例 19 ナトリウムジ(2,5−ジメトキシ−フェニル)ホスフ
ァイドを実施例1のナトリウムジフェニルホスファイド
と実質的に同様に作成したが、ただしl・リフェニルホ
スフィンの代りにトリ(2,5−ジメトキシーフェニル
)ホスフィンを使用した。トリ(2,5−ジメトキシ−
フェニル)ホスフィンは、ナトリウムジ(2,5−ジメ
トキシ−フェニル)ホスファイドに定置的に変換したこ
とが判明した。
実施例 20 1.3−ビス〔ジ(2−メトキシ−フェニル)ホスフィ
ノ〕ブOパンを次のように作成した。冷却により一78
℃に保たれた攪拌反応容器に存在する250成の液体ア
ンモニアへ、順次に35ミリモルのナトリウムと17.
5ミリモルのトリ(2−メトキシ−フェニル)ホスフィ
ンと25mのテトラヒドロフランとを添加した。6時間
後、17.5ミリモルの塩化アンモニウムを反応混合物
へ添加し、かつ15分間接に8.7ミリモルの1,3−
ジクロルプロパンを添加した。
100 mのテトラヒドロフランを添加した後、アンモ
ニアを蒸発により除去し、かつ残留物をさらに1時間遠
流させた。溶剤を減圧除去した後、ジクロルメタンおよ
び塩化アンモニウムの水溶液を残留物に添加した。有機
層を分離し、乾燥しかつ濾過した。溶剤を除去すると、
4.6gの1.3−ビス[ジ〈2−メトキシ−フェニル
)ホスフィノコプロパンが17られた。
実施例1〜20のうち、実施例12〜20は本発明によ
るものである。実施例12〜19においては、一般式(
R9)2PNaのナトリウムジアリールホスファイドが
液体アンモニア中でのナトリウムと一般式(R9)3P
のトリアリールホスフィンとの反応により高収率で作成
された。実施例20は一般式(Rg )2 PNaのナ
トリウムジアリールホスファイドと1,3−ジクロルプ
ロパンとの反応による一般式(R)  P−(CH) 
 −P(R9)2のテトラ゛アリールジホスフィンの製
造に関するものである。実施例1〜11は本発明の範囲
外である。
これらは、比較のため本明aS中に含ませた。実施例1
は、トリフェニルホスフィンからジフェニルホスファイ
ドへの定岱的変換を示している。実施例2〜4から明ら
かなように、アリール基が燐に対しオルト、メタもしく
はパラ位置に非極性置換基としてメチル基を有するトリ
アリールホスフィンから出発して、ジアリールホスファ
イドを良好な収率で製造することができる。実施例5〜
11は、出発トリアリールホスフィンにおいて燐原子に
対しパラ位置に極性置換基が存在しかつ/または燐に対
しオルト位置に2個の極性置換基が存在すれば、ジアリ
ールホスファイドの生成が低収率で進行し、或いは全く
阻止されるのに充分であることを示している。実施例7
と9および実施例10と11の結果を比較すれば判るよ
うに、この状態はテトラヒドロフランを液体アンモニア
へ添加することにより改善することができない。
本発明の実施例12〜19は、一般式(Ro)3Pのト
リアリールホスフィンが出発物質である場合、ジアリー
ルホス71イドが極めて高収率で作成されうろことを示
している。実施例12.13および14の結果と実施例
16および17の結果とを比較すれば明らかなように、
ジアリールホスファイドの収率はテトラヒドロフランを
液体アンモニアへ添加することにより相当に向上させる
ことができる。
実施例 21 ナトリウム−ジー(2−メトキシ−5−メチルフェニル
)ホスファイドを実施例1に示した手順で作成したナト
リウムシボスフフィトと実質的に同様に作成し、ただし
トリフェニルホスフィンの代りにトリー(2−メトキシ
−5−メチルフェニル)ホスフィンを使用した。収率は
92%であった。
実施例 22 プトリウムージ(2−メトキシ−5−メチルフェニル)
ホスファイドを実施例21に示したと実質的に同様に作
成したが、ただし次の相違点を設けたニトリアリールホ
スフィンとTHF(テトラヒドロフラン)、との混合物
を使用し、かつ4時間後でなく3時間後に塩化アンモニ
ウムを添加した。
収率は99,9%であった。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルカリ金属ジアリールホスファイドの製造法で
    あって、式(R_9)_2PMのアルカリ金属ジアリー
    ルホスファイドを、液体アンモニア中でアルカリ金属M
    を式(R_9)_2P[前記式中、R_9は燐原子に対
    して2つのメタ位置および一方のオルト位置とは異なる
    位置を占め得ない1個もしくはそれ以上の極性置換基を
    有するアリール基を示す]のトリアリールホスフィンと
    反応させることにより製造することを特徴とする方法。
  2. (2)R_9が極性置換されたフェニル基であることを
    特徴とする請求項1記載の方法。
  3. (3)R_9が2個もしくは3個の極性置換基を有する
    ときは、これらが互いに同一であることを特徴とする請
    求項1または2記載の方法。
  4. (4)R_9が1個もしくはそれ以上のアルコキシ基を
    極性置換基として有することを特徴とする請求項1〜3
    のいずれか1項に記載の方法。
  5. (5)R_9が1個もしくはそれ以上のメトキシ基を極
    性置換基として有することを特徴とする請求項4記載の
    方法。
  6. (6)ナトリウムをアルカリ金属として使用することを
    特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の方法。
  7. (7)変換すべきトリアリールホスフィン1モル当り約
    2モルのアルカリ金属を使用することを特徴とする請求
    項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
  8. (8)アルカリ金属1ミルモル当り10〜40モルの液
    体アンモニアを使用することを特徴とする請求項1〜7
    のいずれか1項に記載の方法。
  9. (9)反応を−100〜−35℃の温度で行なうことを
    特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の方法。
  10. (10)請求項18記載の新規なアルカリ金属ジアリー
    ルホスファイドとしての、ナトリウムジ(2−メトキシ
    −フェニル)ホスファイド、ナトリウムジ(3−メトキ
    シ−フェニル)ホスファイド、ナトリウムジ(3−te
    rt.ブトキシ−フェニル)ホスファイド、ナトリウム
    ジ(2,3−ジメトキシ−フェニル)ホスファイド、ナ
    トリウムジ(2,5−ジメトキシ−フェニル)ホスファ
    イドおよびナトリウムジ(2,5−ジメトキシ−5−メ
    チルフェニル)ホスファイド。
  11. (11)一般式(R_9)_2P−R−P(R_9)_
    2[式中、R_9はR_9が結合している燐原子に対し
    2つのメタ位置および一方のオルト位置とは異なる位置
    を占め得ない1個もしくはそれ以上の極性置換基を有す
    るアリール基を示し、かつRは架橋中に少なくとも3個
    の炭素原子を有する二価の架橋基を示し、ただしこれら
    テトラアリールジホスフィンにおいてRは架橋中に3個
    の炭素原子を含有してはならず、同時にR_9は2−メ
    トキシフェニル基を示す]の新規なテトラアリールジホ
    スフィン。
  12. (12)一般式(R_9)_2P−R−P(R_1_0
    )(R_1_1)[式中、R_9はR_9が結合してい
    る燐原子に対し2個メタ位置および一方のオルト位置と
    は異なる位置を占め得ない1個もしくはそれ以上の極性
    置換基を有するアリール基を示し、かつR_1_0およ
    びR_1_1は必要に応じ1個がR_9と同一であって
    もよい極性置換基を有しうる同一もしくは異なるアリー
    ル基を示し、さらにRは架橋中に少なくとも3個の炭素
    原子を有する二価の架橋基を示す]の新規なテトラアリ
    ールジホスフィン。
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