JPS63255900A - 書込み可能な読出し専用メモリの書込方法 - Google Patents

書込み可能な読出し専用メモリの書込方法

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Publication number
JPS63255900A
JPS63255900A JP62091172A JP9117287A JPS63255900A JP S63255900 A JPS63255900 A JP S63255900A JP 62091172 A JP62091172 A JP 62091172A JP 9117287 A JP9117287 A JP 9117287A JP S63255900 A JPS63255900 A JP S63255900A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
current pulse
pulse
writing
memory cell
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP62091172A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Masuda
増田 肇
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP62091172A priority Critical patent/JPS63255900A/ja
Publication of JPS63255900A publication Critical patent/JPS63255900A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は書込み可能な読出し専用メモリの書込方法に関
し、特に接合破壊型のメモリセルを有する書込み可能な
読出し専用メモリの書込方法に関する。
〔従来の技術〕
最近の書込み可能な読出し専用メモリ(プログラマブル
・リード・オンリー・メモリ、以下PROMという)、
特に接合破壊型PROMは、ユーザーが1個毎に自由に
記憶させる内容を書込める融通性のゆえに、極めて広汎
な各種情報処理、制御用途等に多用されている。
かかるFROMのメモリセルとしては、第4図(a)に
示されるように、ベース開放型のトランジスタQのエミ
ッタを列線Bに、コレクタを行線Wに接続し、第4図(
b)の等価回路に示されるようにダイオードD1.D2
を互いに逆方向に直列接続した接合破壊型のものがある
この接合破壊型のメモリセルは、書込まれる前の列線B
・行線W量弁導通状態を、ダイオードD2.D、に適切
な大きさの電流パルスを通過させてダイオードD2を低
抵抗とすることにより導通させ、第4図(C)に示すよ
うに低抵抗RとダイオードD1の直列回路とし書込がな
されるものである。
従来のこの種のFROMの書込方法について、第5図に
示された流れ図により説明する。
まず、ステップ311において、所定のメモリセルに書
込電流パルスを印加した後、ステップS12において書
込まれたか否かの判定を行なう。
この判定がNoの場合は、ステップSl 4 * Sl
 55S I I + S 12におて、再度書込電流
パルスを印加して書込まれたか否かの判定を行なうが、
この書込電流パルスの印加する回数n(nは整数)は、
ステップS14.S15において規定の回数m(例えば
100回)以上となった時にはそのPROMのメモリセ
ルは書込不良と判断され、次の工程へ移る。
ステップS12の判定がYesの場合には、第4゜図(
C)に示すように、ダイオードD2は書込電流パルスが
通過したことにより低抵抗Rとなっなことを示している
さらに、ステップS13において、この低抵抗Rが十分
に小さい値であることを保証する為に、電流値、パルス
幅が書込電流パルスと等しい追加電流パルスを低抵抗R
にに回印加して書込みを終了し次の工程へ移る。
第6図は従来のFROMの書込方法を時間経過に対応し
て説明するための書込電流パルス及び追加電流パルスの
波形図である。
電流値11パルス幅T1の書込電流パルスWPlを印加
して時間t1で書込まれたか否かの判定を行い、NOと
判定され、再度書込電流パルスWP2を印加して時間t
2で書込まれたか否かの判定を行いYesと判定され、
その後、電流値11+パルス幅T1の追加電流パルスA
P、’ 。
AP2′を印加して書込みを完了したことを示している
〔発明が解決しようとする問題点〕
上述した従来の書込み可能な読出し専用メモリの書込方
法は、書込電流パルスにより書込まれた後、この書込電
流パルスと等しい電流値、パルス幅の追加電流パルスを
印加して書込を完了させる方法となっているので、製造
ばらつき等により書込まれたメモリセルの低抵抗Rが十
分に小さい値(例えば数Ω)にならないことがあり(例
えば数100Ω)、この場合には書込まれたメモリセル
が正常な特性を示さず誤動作が発生するという問題点が
ある。
本発明の目的は、書込まれたメモリセルの抵抗値を十分
小さい値にすることができて正常な特性が得られ、誤動
作を防止することができる書込み可能な読出し専用メモ
リの書込方法を提供することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の書込み可能な読出し専用メモリの書込方法は、
ベース開放トランジスタで構成された複数のメモリセル
を備えた書込み可能な読出し専用メモリの所定のメモリ
セルに所定の電流値及びパルス幅の書込電流パルスを印
加する手順と、このメモリセルが前記書込電流パルスに
より書込まれたかどうかを判定する手順と、この判定結
果が書込まれたと出たときこのメモリセルに電流値及び
パルス幅の値の少なくとも一方が前記書込電流パルスよ
り大きい追加電流パルスを印加する手順とを含んで構成
される。
〔実施例〕
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の一実施例を説明するための流れ図であ
る。
まず、ステップS、において、所定のメモリセルに電流
値11+パルス幅T、の書込電流パルスを印加する。
次に、ステップS2において、前記メモリセルが書込み
パルスにより書込まれたかどうかを判定する。
ステップS2において書込まれたと判定された場合は、
ステップS3において、前記メモリセルに、電流値及び
パルス幅の値の少なくとも一方が書込電流パルスより大
きい追加電流パルスを所定の回数印加することによりこ
のメモリセルへの書込みを終了し次の工程へ進む。
ステップS2において、書込まれていないと判定された
場合は、ステップs4+s、+31+82において、書
込電流パルスを印加することをくり返し、このくり返し
が規定の回数(m)以上になったときこのメモリセルは
書込不良として次の工程へ移る。
第2図は本発明の一実施例を時間経過に対応して説明す
るための書込電流パルス及び追加電流パルスの波形図で
ある。
まず、所定のメモリセルに電流値11.パルス幅T1の
書込電流パルスwp’1を印加し、時間11で書込まれ
たかどうか判定する。
その結果NOと判定され、再度書込電流パルスWP2か
印加されて時間t2で書込まれたかどうか判定する。
その結果Yesと判定され、パルス幅T2が書込電流パ
ルスwp1.wp2のパルス幅T1より広い追加電流パ
ルスAP1.AP2が前記メモリセルに印加されこのメ
モリセルの書込みを終了する。
第3図は追加電流パルスの電流値I2を書込電流パルス
の電流値■1より大きくした場合の例を示したものであ
る。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、書込電流パルスにより書
込まれたと判定されたメモリセルに電流値及びパルス幅
の値の少なくとも一方がこの書込電流パルスより大きい
追加電流パルスを印加することにより、製造ばらつきが
あっても書込まれたメモリセルの抵抗値を十分小さい値
にすることができるので、書込まれたメモリセルとして
の正常な特性を得ることができ、誤動作を防止し信頼性
の高い読出し専用メモリを得ることができる効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を説明するための流れ図、第
2図及び第3図はそれぞれ本発明の一実施例を時間経過
に対応して説明するための書込電流パルス及び追加電流
パルスの波形図、第4図(a)〜(C)はそれぞれ従来
の書込み可能な読出し専用メモリの書込み前のメモリセ
ルの回路図1等価回路図及び書込み後の等価回路図、第
5図は従来の書込み可能な読出し専用メモリの書込方法
の一例を説明するための流れ図、第6図は従来の書込み
可能な読出し専用メモリの書込方法を時間経過に対応し
て説明するための書込電流パルス及び追加電流パルスの
波形図である。 B・・・列線、Dl、D2・・・ダイオード、Q・・・
トランジスタ、R・・・低抵抗、S工〜S5.s、□〜
S15・・・ステップ、W ・・・行線、APt 、A
P2 、APol、 AP02. AP I ’ 、 
AP2 ’ −追加電流パルス、wpl、wp2・・・
書込電流パルス。 箔S@ 第4図 箭Z図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  ベース開放トランジスタで構成された複数のメモリセ
    ルを備えた書込み可能な読出し専用メモリの所定のメモ
    リセルに所定の電流値及びパルス幅の書込電流パルスを
    印加する手順と、このメモリセルが前記書込電流パルス
    により書込まれたかどうかを判定する手順と、この判定
    結果が書込まれたと出たときこのメモリセルに電流値及
    びパルス幅の値の少なくとも一方が前記書込電流パルス
    より大きい追加電流パルスを印加する手順とを含むこと
    を特徴とする書込み可能な読出し専用メモリの書込方法
JP62091172A 1987-04-13 1987-04-13 書込み可能な読出し専用メモリの書込方法 Pending JPS63255900A (ja)

Priority Applications (1)

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JP62091172A JPS63255900A (ja) 1987-04-13 1987-04-13 書込み可能な読出し専用メモリの書込方法

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JPS63255900A true JPS63255900A (ja) 1988-10-24

Family

ID=14019048

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JP62091172A Pending JPS63255900A (ja) 1987-04-13 1987-04-13 書込み可能な読出し専用メモリの書込方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436913A (en) * 1992-06-02 1995-07-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor memory device using successively longer write pulses

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6154585A (ja) * 1984-08-24 1986-03-18 Toppan Printing Co Ltd Icカ−ドのデ−タ書込方式

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6154585A (ja) * 1984-08-24 1986-03-18 Toppan Printing Co Ltd Icカ−ドのデ−タ書込方式

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5436913A (en) * 1992-06-02 1995-07-25 Kabushiki Kaisha Toshiba Non-volatile semiconductor memory device using successively longer write pulses

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