JPS63250816A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
- Publication number
- JPS63250816A JPS63250816A JP62086636A JP8663687A JPS63250816A JP S63250816 A JPS63250816 A JP S63250816A JP 62086636 A JP62086636 A JP 62086636A JP 8663687 A JP8663687 A JP 8663687A JP S63250816 A JPS63250816 A JP S63250816A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- wafer
- alignment mark
- mask
- image sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 11
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 abstract description 6
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 235000012976 tarts Nutrition 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
- G03F9/7049—Technique, e.g. interferometric
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は第１基板と第２基板とを位置決めするための位
置決め装置に関し、例えば露光袋ぽ、特に半導体装置製
造用の露光装置に用いることができるものである。
置決め装置に関し、例えば露光袋ぽ、特に半導体装置製
造用の露光装置に用いることができるものである。
露光装置の位置決め装置としては、第１基板としてマス
クが、第２基板としてウェハの如き対象物が用いられる
。そして、マスクと対象物に格子状マークを備え、該マ
ークを重ね合わせた時生ずるモアレ縞の位置をイメージ
センサにより計測してマスクと対象物を位置合せする従
来装置に於いては、モアレ縞を画像情報として取り込む
とき、イメージセンサのクロック周期等に制限されて取
り込みに時間を要し、該時間中に対象物が移動すること
により位置測定精度が劣化する欠点があった。
クが、第２基板としてウェハの如き対象物が用いられる
。そして、マスクと対象物に格子状マークを備え、該マ
ークを重ね合わせた時生ずるモアレ縞の位置をイメージ
センサにより計測してマスクと対象物を位置合せする従
来装置に於いては、モアレ縞を画像情報として取り込む
とき、イメージセンサのクロック周期等に制限されて取
り込みに時間を要し、該時間中に対象物が移動すること
により位置測定精度が劣化する欠点があった。
〔発明が解決しよ１とする問題点〕
本発明では前記位置計測中に対象物を載せたテーブルが
移動、あるいは振動することにより、計測精度が劣化す
ることを防ぐことを目的とする。
移動、あるいは振動することにより、計測精度が劣化す
ることを防ぐことを目的とする。
〔作 用〕
本発明では前記問題点に対し、マスクの如き第１基板及
び対象物の如き第１２基板上の位置合せマークを瞬時照
明し、照明時の位置合せマークを重ねることによって生
じるモアレ縞の像を、イメージセンサ−上に結像して、
電荷のパターントして記憶すると同時に、対象物を載置
した移動テーブルの位置を、干渉計又はエンコーダー等
の位置検出手段で読みとり、前記モアレ縞の位相角より
、対象物の目標位置までの距離と計測時の前記テーブル
の位置とによりテーブルの位置決めを行うことによって
テーブルの移動等により精度を劣化することなく位置合
せを行うものである。
び対象物の如き第１２基板上の位置合せマークを瞬時照
明し、照明時の位置合せマークを重ねることによって生
じるモアレ縞の像を、イメージセンサ−上に結像して、
電荷のパターントして記憶すると同時に、対象物を載置
した移動テーブルの位置を、干渉計又はエンコーダー等
の位置検出手段で読みとり、前記モアレ縞の位相角より
、対象物の目標位置までの距離と計測時の前記テーブル
の位置とによりテーブルの位置決めを行うことによって
テーブルの移動等により精度を劣化することなく位置合
せを行うものである。
第１図は本発明の実施例である。パルス発光光源２から
一部導かれた位置合せマーク照明光Ｉは視野絞り３を通
りレンズ１９、反射鏡扁、半透鏡４を介して、レンズ１
９、対物レンズ５、反射鏡Ｍｔによりマスク２０上のア
ライメントマークＭ７を照明する。照明された該マスク
２０上のアライメントマークＭ、は投影レンズ１１によ
り対象物であるウェハ１４上に投影される。マスク上マ
ークＭ、は第２図（Ａ）に示すように計測方向Ｙにウェ
ハ１４上に投影されたとき格子周期Ｐ１となる格子状マ
ークＭＭＩと、同様に格子周期Ｐ２の格子状マークＭＭ
２よりなる。ウェハ上マークＷ７は第２図（Ｂ）に示す
ように、計測方向Ｙと直角方向Ｘに格子状で計測方向Ｙ
には格子周期Ｐｇの格子状マークＷＭ２と同様に格子周
期Ｐ１の格子状マークＷＭＩの凹凸マークより構成され
、投影レンズ１１を介してマスク上マークＭＭＩとウェ
ハ上マークＷＭ２、及びマスク上マークＭＭ２とウェハ
上マークＷＭＩが同時に重なるように配置されている。
一部導かれた位置合せマーク照明光Ｉは視野絞り３を通
りレンズ１９、反射鏡扁、半透鏡４を介して、レンズ１
９、対物レンズ５、反射鏡Ｍｔによりマスク２０上のア
ライメントマークＭ７を照明する。照明された該マスク
２０上のアライメントマークＭ、は投影レンズ１１によ
り対象物であるウェハ１４上に投影される。マスク上マ
ークＭ、は第２図（Ａ）に示すように計測方向Ｙにウェ
ハ１４上に投影されたとき格子周期Ｐ１となる格子状マ
ークＭＭＩと、同様に格子周期Ｐ２の格子状マークＭＭ
２よりなる。ウェハ上マークＷ７は第２図（Ｂ）に示す
ように、計測方向Ｙと直角方向Ｘに格子状で計測方向Ｙ
には格子周期Ｐｇの格子状マークＷＭ２と同様に格子周
期Ｐ１の格子状マークＷＭＩの凹凸マークより構成され
、投影レンズ１１を介してマスク上マークＭＭＩとウェ
ハ上マークＷＭ２、及びマスク上マークＭＭ２とウェハ
上マークＷＭＩが同時に重なるように配置されている。
ウェハ１４上に投影されたマスクマーク状の照明光は、
ウェハ１４により反射回折されるが、計測方向と直角方
向にはウェハ上マークＷｙに重なった部分のみ回折され
る。ウェハ１４より反射回折された照明光は再び投影レ
ンズ１１を介してマスク上マークＭｖを通過し、反射鏡
Ｍ２、対物レンズ５、反透鏡４、空間フィルタ８及び結
像レンズ６を介してマスク２０上の明暗模様がイメージ
センサ７上に結像されるが、投影レンズ１１の瞳と共役
な位置に配設された空間フィルタ８により、ウェハ１４
及びマスク２０より正反射した照明光は遮断され、ウェ
ハマークＷ、により計測方向に直角に回折された照明光
のみがイメージセンサ７上に到達する。この様子を第６
図に示す。ウェハからの正反射光及びマスクの反射光が
マスクマークＭｖで回折された部分１）ｘ。
ウェハ１４により反射回折されるが、計測方向と直角方
向にはウェハ上マークＷｙに重なった部分のみ回折され
る。ウェハ１４より反射回折された照明光は再び投影レ
ンズ１１を介してマスク上マークＭｖを通過し、反射鏡
Ｍ２、対物レンズ５、反透鏡４、空間フィルタ８及び結
像レンズ６を介してマスク２０上の明暗模様がイメージ
センサ７上に結像されるが、投影レンズ１１の瞳と共役
な位置に配設された空間フィルタ８により、ウェハ１４
及びマスク２０より正反射した照明光は遮断され、ウェ
ハマークＷ、により計測方向に直角に回折された照明光
のみがイメージセンサ７上に到達する。この様子を第６
図に示す。ウェハからの正反射光及びマスクの反射光が
マスクマークＭｖで回折された部分１）ｘ。
は空間フィルタ８で遮断されウェハマークＷＶで回折さ
れ更にマスクマークＭｙで回折されてモアレ縞を形成す
る光束のみが開口８ａ、８ｂを透過する。このとき前述
したように、マスク上マークＭｖとウェハ上マークＷｖ
の計測方向の格子周期の差によりイメージセンサ７上に
モアレ縞を形成する。該モアレ縞の位置を後述する手段
により計測してマスク２０とウェハ１４のずれ量を検出
する。
れ更にマスクマークＭｙで回折されてモアレ縞を形成す
る光束のみが開口８ａ、８ｂを透過する。このとき前述
したように、マスク上マークＭｖとウェハ上マークＷｖ
の計測方向の格子周期の差によりイメージセンサ７上に
モアレ縞を形成する。該モアレ縞の位置を後述する手段
により計測してマスク２０とウェハ１４のずれ量を検出
する。
図示しない周知の例えばステッパーに用いられているグ
ローバルアライメント装置等の粗位置合せ機構により、
マスク２０とウェハ１４が位置合せ格子状マークＭＶ、
、ＷＶの±η格子周期以下のずれ量で重ね合せられると
、タイミング回路ｌに精密位置合せの開始信号（ＳＴＡ
ＲＴ信号）が与えられる。 ５ＴＡＲＴ信号が入力され
るとタイミング回路１はイメージセンサ７を１度走査し
、センサ７上に蓄積されている電荷を放出する０次にタ
イミング回路１はパルス発光する照明光源２とウェハ１
４を載置して移動するウェハテーブル１５の位置を計測
する干渉計９の読みとり値を記憶するホールド回路１７
とにトリガを発生し、照明光源２を発光させると同時に
ウェハテーブル１５の位［を読みだす。前述したように
、照明された位１合せマークはＭｖ、、ＷＶはモアレ縞
をイメージセンサ−７上に生じせしめ、かかるモアレ縞
は電荷量としてイメージセンサ７上に蓄積される。モア
レ縞の細かい格子周期成分はイメージセンサ一部６．７
．８を第１図のＡ方向より見た第３図及び第６図に示し
たように空間フィルタ８により取り除かれる。第４図は
位置合せマークの像（モアレ縞）がイメージセンサ７上
に重った様子を示す図であり、ＭＡはマスク上マークＭ
ＭＩとウェハ上マークＷＭ２が重って得られるモアレ縞
でＭＢはマスク上マークＭＭ２とウェハ上マークＷＭＩ
が重って得られるモアレ縞である。ＭＡ、ＭＢはそれぞ
れモアレ縞を形成しているが、位置合せマークＭＭｌ、
ＭＭ２、ＷＭＩ、ＷＭ２の格子周期がＰｌ＞Ｐ２であれ
ば、モアレ縞ＭＡはウェハ１４の移動方向と同方向に移
動し、モアレ縞ＭＢはウェハ１４の移動方向と逆方向に
移動する。モアレ縞の位置はイメージセンサ７よりフレ
ームメモリ１２上に読みだされた後、演算器１６によっ
てフーリエ解析によりモアレ縞基本周期成分が抽出され
、その位相角が演算される。該演算（基本周期成分の抽
出）によりモアレ縞の周期と異るイメージセンサの感度
ムラ、照明ムラ等のノイズが除去され、位置読み取り精
度が向上する。
ローバルアライメント装置等の粗位置合せ機構により、
マスク２０とウェハ１４が位置合せ格子状マークＭＶ、
、ＷＶの±η格子周期以下のずれ量で重ね合せられると
、タイミング回路ｌに精密位置合せの開始信号（ＳＴＡ
ＲＴ信号）が与えられる。 ５ＴＡＲＴ信号が入力され
るとタイミング回路１はイメージセンサ７を１度走査し
、センサ７上に蓄積されている電荷を放出する０次にタ
イミング回路１はパルス発光する照明光源２とウェハ１
４を載置して移動するウェハテーブル１５の位置を計測
する干渉計９の読みとり値を記憶するホールド回路１７
とにトリガを発生し、照明光源２を発光させると同時に
ウェハテーブル１５の位［を読みだす。前述したように
、照明された位１合せマークはＭｖ、、ＷＶはモアレ縞
をイメージセンサ−７上に生じせしめ、かかるモアレ縞
は電荷量としてイメージセンサ７上に蓄積される。モア
レ縞の細かい格子周期成分はイメージセンサ一部６．７
．８を第１図のＡ方向より見た第３図及び第６図に示し
たように空間フィルタ８により取り除かれる。第４図は
位置合せマークの像（モアレ縞）がイメージセンサ７上
に重った様子を示す図であり、ＭＡはマスク上マークＭ
ＭＩとウェハ上マークＷＭ２が重って得られるモアレ縞
でＭＢはマスク上マークＭＭ２とウェハ上マークＷＭＩ
が重って得られるモアレ縞である。ＭＡ、ＭＢはそれぞ
れモアレ縞を形成しているが、位置合せマークＭＭｌ、
ＭＭ２、ＷＭＩ、ＷＭ２の格子周期がＰｌ＞Ｐ２であれ
ば、モアレ縞ＭＡはウェハ１４の移動方向と同方向に移
動し、モアレ縞ＭＢはウェハ１４の移動方向と逆方向に
移動する。モアレ縞の位置はイメージセンサ７よりフレ
ームメモリ１２上に読みだされた後、演算器１６によっ
てフーリエ解析によりモアレ縞基本周期成分が抽出され
、その位相角が演算される。該演算（基本周期成分の抽
出）によりモアレ縞の周期と異るイメージセンサの感度
ムラ、照明ムラ等のノイズが除去され、位置読み取り精
度が向上する。
演算器１６より出力されるモアレ縞ＭＡの位相角をφ、
−φ、＋φ。＋Δφ モアレ縞ＭＢの位相角をφ、＝φ
２＋φ。＋Δφとすると、φ。はマスク２０とウェハ１
４が所望の位置に重なったときのイメージセンサ７上の
基準点に対する位相角であり、Δφはイメージセンサ７
の位置の移動量に伴う位相角である。φ２、φ２はマス
ク２０に対しウェハ１４が移動した量に相当する位相角
であり、モアレ縞ＭＡ及びＭＢの位相角の読み取り値の
差をとってφ−φ、−φ８＝φ、−φ２とすればイメー
ジセンサ７の位置によらずマスク２０とウェハ１４の相
対移動量を知ることができる。
−φ、＋φ。＋Δφ モアレ縞ＭＢの位相角をφ、＝φ
２＋φ。＋Δφとすると、φ。はマスク２０とウェハ１
４が所望の位置に重なったときのイメージセンサ７上の
基準点に対する位相角であり、Δφはイメージセンサ７
の位置の移動量に伴う位相角である。φ２、φ２はマス
ク２０に対しウェハ１４が移動した量に相当する位相角
であり、モアレ縞ＭＡ及びＭＢの位相角の読み取り値の
差をとってφ−φ、−φ８＝φ、−φ２とすればイメー
ジセンサ７の位置によらずマスク２０とウェハ１４の相
対移動量を知ることができる。
マスク２０に対しウェハ１４がＹ０移動したときのモア
レ縞ＭＡの基本周期成分は 同様にモアレ縞ＭＢの基本周期成分は で表わされるから前記位相角の差は でありこれよりマスクに対するウエノ１の位置Ｙ０Ｐ＋
Ｐｚ 梯 ｐｌ＋ｐ！ ２ π で求められる。
レ縞ＭＡの基本周期成分は 同様にモアレ縞ＭＢの基本周期成分は で表わされるから前記位相角の差は でありこれよりマスクに対するウエノ１の位置Ｙ０Ｐ＋
Ｐｚ 梯 ｐｌ＋ｐ！ ２ π で求められる。
求められたＹｏと照明光発光時に干渉計９から読み取っ
たウェハテーブル１５の位置より、マスク２０とウェハ
１４とが所望の位置にて重ね合うウェハテーブル１５の
位置が、加算器１８により求められる該演算の間もウェ
ハテーブルの位置は干渉計９から駆動回路ｌＯに常時読
みとられており、求められた重ね合せ位置までウェハテ
ーブル１５を移動するようにウェハテーブル駆動回路１
０により駆動モータ１３が制御され、ウェハテーブル１
５が位置決めされる。位置合せマークは第５図（Ａ）、
（Ｂ）に示すようにマスク２０及びウェハ１４の周囲３
ケ所に配置され、Ｘ、Ｙ方向及び回転方向を検出するた
めに配設されており（それぞれ添字として、ｘ、ｙ、θ
を付した）、上述の説明はＹ方向のみの検出であったが
、Ｘ方向、回転方向についても同様の手段で位置決めさ
れる。以上によってマスク２０とウェハ１４は位置計測
中はウェハテーブル１５は移動していても停止していて
もよく該テーブルの移動、振動、イメージセンサ７の位
置設定誤差による影響を避けて高精度に所望の位置に重
ね合すことができる。
たウェハテーブル１５の位置より、マスク２０とウェハ
１４とが所望の位置にて重ね合うウェハテーブル１５の
位置が、加算器１８により求められる該演算の間もウェ
ハテーブルの位置は干渉計９から駆動回路ｌＯに常時読
みとられており、求められた重ね合せ位置までウェハテ
ーブル１５を移動するようにウェハテーブル駆動回路１
０により駆動モータ１３が制御され、ウェハテーブル１
５が位置決めされる。位置合せマークは第５図（Ａ）、
（Ｂ）に示すようにマスク２０及びウェハ１４の周囲３
ケ所に配置され、Ｘ、Ｙ方向及び回転方向を検出するた
めに配設されており（それぞれ添字として、ｘ、ｙ、θ
を付した）、上述の説明はＹ方向のみの検出であったが
、Ｘ方向、回転方向についても同様の手段で位置決めさ
れる。以上によってマスク２０とウェハ１４は位置計測
中はウェハテーブル１５は移動していても停止していて
もよく該テーブルの移動、振動、イメージセンサ７の位
置設定誤差による影響を避けて高精度に所望の位置に重
ね合すことができる。
また以上の一連の動作を繰り返すことにより目標精度以
内にマスクとウェハが重ね合わせられたことを確認する
ことができる。
内にマスクとウェハが重ね合わせられたことを確認する
ことができる。
本実施例では周期の異なる格子マークを用いたが同周期
の僅かに互に方向の傾いたマークをマスクとウェハ上に
それぞれ逆の関係で設けることにより同様の・効果期待
できる。またエキシマレーザ−を露光用光源として用い
る露光器ではエキシマレーザ−光の一部を位置合せ照明
用光源として導いてもよい。
の僅かに互に方向の傾いたマークをマスクとウェハ上に
それぞれ逆の関係で設けることにより同様の・効果期待
できる。またエキシマレーザ−を露光用光源として用い
る露光器ではエキシマレーザ−光の一部を位置合せ照明
用光源として導いてもよい。
第１図は本発明の一実施例を示す図、第２図（Ａ）、（
Ｂ）は位置合せマークの形状を示す図、第３図は第１図
のＡ矢視図、第４図はイメージセンサ上のモアレ縞を示
す図、第５図（Ａ）、（Ｂ）はマスクとウェハの平面図
、第６図は空間フィルタ８による回折光の分離の様子を
説明するための図、である。 （主要部分の符号の説明） １・・・タイミング回路、 ２・・・パルス発光光源、
５・・・対物レンズ、 ６・・・レンズ、 ７・・・
イメージセンサ、 ９・・・干渉計、 １０・・・ウ
ェハテーブル駆動回路、 １１・・・投影レンズ、
１４・・・ウェハ、１５・・・ウェハテーブル、
１６・・・演算器、 １７・・・ホールド回路、 ２
０・・・マスク、 ＭＹ・・・マスクアライメントマー
ク、 ＷＹ・・・ウェハアライメントマーク。
Ｂ）は位置合せマークの形状を示す図、第３図は第１図
のＡ矢視図、第４図はイメージセンサ上のモアレ縞を示
す図、第５図（Ａ）、（Ｂ）はマスクとウェハの平面図
、第６図は空間フィルタ８による回折光の分離の様子を
説明するための図、である。 （主要部分の符号の説明） １・・・タイミング回路、 ２・・・パルス発光光源、
５・・・対物レンズ、 ６・・・レンズ、 ７・・・
イメージセンサ、 ９・・・干渉計、 １０・・・ウ
ェハテーブル駆動回路、 １１・・・投影レンズ、
１４・・・ウェハ、１５・・・ウェハテーブル、
１６・・・演算器、 １７・・・ホールド回路、 ２
０・・・マスク、 ＭＹ・・・マスクアライメントマー
ク、 ＷＹ・・・ウェハアライメントマーク。
Claims (2)
- （１）第１基板の第１位置合せマークと第２基板の第２
位置合せマークとを用いて、前記第１基板と前記第２基
板とを位置決めするための位置決め装置において、 前記第１位置合せマークの面と前記第２位置合せマーク
の面とを共役面になす光学系と、前記第１位置合せマー
クと前記第２位置合せマークとを照明するためのパルス
発光光源と、前記第１位置合せマークの面と前記第２位
置合せマークの面とにほぼ共役に受光面が設けられた電
荷蓄積型のイメージセンサ手段と、 前記第１基板と前記第２基板の少くとも一方を前記位置
決めのために移動する移動テーブルと、前記第１基板と
前記第２基板との相対位置を読取る読取手段と、 該発光に同期して前記読取手段の読取値を記憶する同期
手段と、 前記イメージセンサ手段に蓄積された画像情報を読出し
、前記同期手段に記憶された読取値による前記第１基板
と前記第２基板との相対位置と、所定の目標位置との差
に応じた信号を演算する演算手段と、 を有することを特徴とする位置決め装置。 - （２）前記第１位置合せマークは２つの格子状マークで
あり、前記第２位置合せマークは前記２つの格子状マー
クにそれぞれ重なって、２組の逆方向へ移動するモアレ
縞を生じせしめる２つの格子状マークであり、前記演算
手段は、前記２つのモアレ縞の位相の差により前記第１
基板と前記第２基板との位置の差を検出することを特徴
とする特許請求の範囲第（１）項記載の位置決め装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086636A JP2569544B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 位置決め装置 |
| US07/176,760 US4880308A (en) | 1987-04-08 | 1988-04-01 | Aligning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62086636A JP2569544B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63250816A true JPS63250816A (ja) | 1988-10-18 |
| JP2569544B2 JP2569544B2 (ja) | 1997-01-08 |
Family
ID=13892507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62086636A Expired - Lifetime JP2569544B2 (ja) | 1987-04-08 | 1987-04-08 | 位置決め装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4880308A (ja) |
| JP (1) | JP2569544B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06232026A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置 |
| JP2010267682A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Bondtech Inc | アライメント装置、アライメント方法および半導体装置 |
| JP2013254780A (ja) * | 2012-06-05 | 2013-12-19 | Canon Inc | 位置検出システム、インプリント装置、デバイス製造方法、および位置検出方法 |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2734004B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1998-03-30 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置 |
| JPH05127364A (ja) * | 1991-10-30 | 1993-05-25 | Nikon Corp | フオトマスク |
| JP3244783B2 (ja) * | 1992-07-17 | 2002-01-07 | キヤノン株式会社 | 位置合わせ装置及び方法、並びにこれを用いた露光装置と半導体デバイス製造方法 |
| DE69535516T2 (de) * | 1994-01-24 | 2007-10-04 | Asml Holding, N.V. | Gitter-Gitter interferometrisches Ausrichtungssystem |
| KR950033689A (ko) * | 1994-03-02 | 1995-12-26 | 오노 시게오 | 노광장치 및 이를 이용한 회로패턴 형성방법 |
| US5698843A (en) * | 1995-09-12 | 1997-12-16 | Phak; Hee Jae | Apparatus for measuring motion errors of five degrees of freedom along guideway |
| JPH11211415A (ja) * | 1998-01-29 | 1999-08-06 | Canon Inc | 位置検出装置及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
| JP3013837B2 (ja) * | 1998-04-27 | 2000-02-28 | 日本電気株式会社 | ステージ位置計測装置およびその計測方法 |
| JP4578674B2 (ja) * | 2000-12-18 | 2010-11-10 | 富士フイルム株式会社 | 分離された領域を持つ縞画像の解析方法 |
| US6535280B1 (en) * | 2001-08-31 | 2003-03-18 | Advanced Micro Devices, Inc. | Phase-shift-moiré focus monitor |
| JP4651886B2 (ja) * | 2001-09-14 | 2011-03-16 | 東北パイオニア株式会社 | 電子機器及び電子機器の製造方法 |
| US20060047462A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-02 | Picciotto Carl E | Displacement estimation system and method |
| JP4854998B2 (ja) * | 2005-07-05 | 2012-01-18 | 三菱電機株式会社 | 液晶表示装置の製造方法 |
| US8345242B2 (en) * | 2008-10-28 | 2013-01-01 | Molecular Imprints, Inc. | Optical system for use in stage control |
| CN115893309A (zh) * | 2021-08-20 | 2023-04-04 | 华为技术有限公司 | 制造微机电系统梳齿结构的方法、系统和梳齿结构 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7606548A (nl) * | 1976-06-17 | 1977-12-20 | Philips Nv | Werkwijze en inrichting voor het uitrichten van een i.c.-patroon ten opzichte van een halfgelei- dend substraat. |
-
1987
- 1987-04-08 JP JP62086636A patent/JP2569544B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1988
- 1988-04-01 US US07/176,760 patent/US4880308A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06232026A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 露光装置 |
| JP2010267682A (ja) * | 2009-05-12 | 2010-11-25 | Bondtech Inc | アライメント装置、アライメント方法および半導体装置 |
| JP2013254780A (ja) * | 2012-06-05 | 2013-12-19 | Canon Inc | 位置検出システム、インプリント装置、デバイス製造方法、および位置検出方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4880308A (en) | 1989-11-14 |
| JP2569544B2 (ja) | 1997-01-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS63250816A (ja) | 位置決め装置 | |
| JP7147738B2 (ja) | 計測装置及び計測方法、並びに露光装置 | |
| JP2003042736A (ja) | ３次元計測方法および装置 | |
| KR100911697B1 (ko) | 형상측정장치, 형상측정방법, 및 노광장치 | |
| JP3218581B2 (ja) | 位置決め方法、該方法を用いた露光方法及びデバイス製造方法、並びに前記製造方法で製造されたデバイス | |
| JPH09312251A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH02188907A (ja) | 面位置検出装置 | |
| JP3848586B2 (ja) | 表面検査装置 | |
| JP2555651B2 (ja) | アライメント方法及び装置 | |
| JP5473574B2 (ja) | 露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP3555666B2 (ja) | 位置検出方法及び装置、並びに露光方法及び装置 | |
| JP3259348B2 (ja) | アライメント方法及び装置、露光方法及び装置、前記露光方法を用いたデバイス製造方法、並びに前記露光装置により製造されたデバイス | |
| JP3237022B2 (ja) | 投影露光装置 | |
| JP2778231B2 (ja) | 位置検出装置 | |
| JPH01180405A (ja) | 傾き検出方法 | |
| JP3170717B2 (ja) | 投影露光装置及び方法 | |
| KR20220138803A (ko) | 노광 장치, 노광 방법 및 물품의 제조 방법 | |
| JPH05332730A (ja) | 位置検出装置 | |
| JP2643270B2 (ja) | 間隔測定装置 | |
| JPH10270346A (ja) | 位置検出方法及びその装置、並びに露光装置 | |
| JP2002267429A (ja) | 表面形状測定方法及び表面形状測定装置 | |
| JPH08306613A (ja) | アライメント方法及び該方法に使用される投影露光装置 | |
| JPH0766115A (ja) | 露光装置 | |
| JPH04217260A (ja) | 位置合わせ方法、投影露光方法、位置合わせ装置、投影露光装置 | |
| JPH05152190A (ja) | 位置合わせ装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071024 Year of fee payment: 11 |