JPS63249152A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14791—Macromolecular compounds characterised by their structure, e.g. block polymers, reticulated polymers, or by their chemical properties, e.g. by molecular weight or acidity
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/14—Inert intermediate or cover layers for charge-receiving layers
- G03G5/147—Cover layers
- G03G5/14708—Cover layers comprising organic material
- G03G5/14713—Macromolecular material
- G03G5/14717—Macromolecular material obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- G03G5/14726—Halogenated polymers
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電子写真複写機、レーザービームプリンター、
CRTプリンター電子写真式製版システムなどの電子写
真応用分野に広く用いることができる電子写真感光体に
関する。更に詳しくは耐湿性、機械的強度の優れた高耐
久性の電子写真感光体に関する。
CRTプリンター電子写真式製版システムなどの電子写
真応用分野に広く用いることができる電子写真感光体に
関する。更に詳しくは耐湿性、機械的強度の優れた高耐
久性の電子写真感光体に関する。
電子写真感光体には、適用される電子写真プロセスに応
じた所定の感度、電気特性、光学特性を備えていること
が要求されるが、さらに繰シ返し使用される感光体にあ
っては、その感光体の表面層、即ち基体より最も離隔す
る層には、コロナ帯電、トナー現像、紙への転写、クリ
ーニング処理などの電気的、機械的外力が直接に加えら
れるため、それらに対する耐久性が要求される。
じた所定の感度、電気特性、光学特性を備えていること
が要求されるが、さらに繰シ返し使用される感光体にあ
っては、その感光体の表面層、即ち基体より最も離隔す
る層には、コロナ帯電、トナー現像、紙への転写、クリ
ーニング処理などの電気的、機械的外力が直接に加えら
れるため、それらに対する耐久性が要求される。
具体的には、摺擦による表面の摩耗や傷の発生、また高
湿下においてコロナ帯電時に発生するオゾンによる表面
の劣化などに対する耐久性が要求されている。
湿下においてコロナ帯電時に発生するオゾンによる表面
の劣化などに対する耐久性が要求されている。
一方、トナーの現像、クリーニングの繰り返しによる表
面層へのトナー付着という問題もあシ、これに対しては
表面1層のクリーニング性を向上することが求められて
いる。
面層へのトナー付着という問題もあシ、これに対しては
表面1層のクリーニング性を向上することが求められて
いる。
上記のような表面層に要求される特性を満た丁ために種
々の方法が検討されているが、その中でもフッ素系樹脂
粉体を表面層中に分散させるという手段は効果的である
。フッ素系樹脂粉体分散によシ表面層の摩擦係数が低下
し、クリーニング性の向上、摩耗や傷に対する耐久性の
向上などに作用する。
々の方法が検討されているが、その中でもフッ素系樹脂
粉体を表面層中に分散させるという手段は効果的である
。フッ素系樹脂粉体分散によシ表面層の摩擦係数が低下
し、クリーニング性の向上、摩耗や傷に対する耐久性の
向上などに作用する。
また表面層の撥水性、離型性も向上する九め高湿下での
表面劣化の防止に対しても有効である。
表面劣化の防止に対しても有効である。
しかしながらフッ素系樹脂粉体分散においては、その分
散性、凝集性に問題があシ、均一で平滑な膜を形成する
ことが困難であるため、得られ次表面層は画像むらやピ
ンホールなどの画像欠陥を有することか避けられなかり
九。
散性、凝集性に問題があシ、均一で平滑な膜を形成する
ことが困難であるため、得られ次表面層は画像むらやピ
ンホールなどの画像欠陥を有することか避けられなかり
九。
またバインダー樹脂あるいは分散助剤の一部にはフッ素
系樹脂粉体を均一に分散し、平滑な膜を形成するものも
あるが、はとんどの場合水酸基、カルボキシル基、エー
テル結合等を有するため特に高温高湿下でキャリアトラ
ップになって電子写真特性の劣化を引きおこし、実用的
に供せるものが見い出せないのが現状である。
系樹脂粉体を均一に分散し、平滑な膜を形成するものも
あるが、はとんどの場合水酸基、カルボキシル基、エー
テル結合等を有するため特に高温高湿下でキャリアトラ
ップになって電子写真特性の劣化を引きおこし、実用的
に供せるものが見い出せないのが現状である。
本発明は前述の要求に答えるべき電子写真感光体を提供
することにある。
することにある。
即ち本発明の目的の第一は、摺擦による表面の摩耗や傷
の発生などに対して耐久性を有する電子写真感光体を提
供することにある。
の発生などに対して耐久性を有する電子写真感光体を提
供することにある。
目的の第二は、高湿下においても安定で高品位な画像を
得られる電子写真感光体を提供することにある。
得られる電子写真感光体を提供することにある。
目的の第三は、クリーニグ性が良好で表面層へのトナー
の付着のない電子写真感光体を提供することにある。
の付着のない電子写真感光体を提供することにある。
目的の第四は、表面の塗膜むらやピンホールがなく、か
つ繰シ返し電子写真プロセスにおいて残留電位の蓄積が
なく常に高品位の画像が得られる電子写真感光体を提供
することである。
つ繰シ返し電子写真プロセスにおいて残留電位の蓄積が
なく常に高品位の画像が得られる電子写真感光体を提供
することである。
本発明者らは上記目的に従って検討した結果フッ素系グ
ラフトポリマーの存在下、フッ素系樹脂粉体が分散され
た表面層を有する電子写真感光体が前述の要求に答える
ものであることを見い出し本発明を完成した。
ラフトポリマーの存在下、フッ素系樹脂粉体が分散され
た表面層を有する電子写真感光体が前述の要求に答える
ものであることを見い出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、導電性支持体上に感光層を有する電子
写真感光体において、表面層がフッ素系樹脂粉体とフッ
素系ブロックポリマーを含有していることを特徴とする
電子写真感光体から構成される。
写真感光体において、表面層がフッ素系樹脂粉体とフッ
素系ブロックポリマーを含有していることを特徴とする
電子写真感光体から構成される。
本発明に適用するフッ素系樹脂粉体は、四フフ化エチレ
ン樹脂、三7フ化塩化エチレン樹脂、四フフ化エチレン
六フフ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビ
ニリデン樹脂、ニフッ化塩化エチレン樹脂およびそれら
の共重合体の中から一種あるいはそれ以上が適宜選択さ
れるが、特に低分子故グレードで、かつ1次粒子が1μ
以下のものが好ましい。
ン樹脂、三7フ化塩化エチレン樹脂、四フフ化エチレン
六フフ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビ
ニリデン樹脂、ニフッ化塩化エチレン樹脂およびそれら
の共重合体の中から一種あるいはそれ以上が適宜選択さ
れるが、特に低分子故グレードで、かつ1次粒子が1μ
以下のものが好ましい。
表面層に分散されるフッ素系樹脂粉体の含有量は表面層
固形分重量にもとすいて1〜50重量係重量当であシ、
特に2〜30重量係が好ましい。
固形分重量にもとすいて1〜50重量係重量当であシ、
特に2〜30重量係が好ましい。
含有率が1重量%未満ではフッ素系樹脂粉体による表面
層改質効果が十分でなく、一方50重t%をこえると光
透過性が低下しかつキャリヤの移動性も低下する。
層改質効果が十分でなく、一方50重t%をこえると光
透過性が低下しかつキャリヤの移動性も低下する。
本発明に用いるフッ素系ブロックポリマーは、フッ素含
有単量体および非フッ素単量体各々が分子内で連結して
配列し比較的長い単独分子鎖を形成しているものである
。即ちフッ素系ブロックプリマーは、フッ素系セグメン
トと非フッ素系セグメントがそれぞれ局在化しており、
フッ素系セグメントがフッ素系樹脂粉体に、非フッ素系
セグメントが添加された樹脂層に、それぞれ配向した機
能分離形態をとっている。特にフッ素系セグメントが連
続して配列しているため、フッ素系セグメントがフッ素
系樹脂粉体く高密度でかつ効率良く吸着し、更に非7ツ
、素糸セグメントが樹脂層に配向するため従来の分散剤
には見られなかったフッ素系樹脂粉体の分散安定性向上
効果が発現されているものである。また一般にフッ素系
樹脂粉体は、数μオーダーの凝集体で存在しているもの
であるが、本発明のフッ素系グラフドーリマーを分散剤
として用いることにより1μ以下の1次粒子まで均一に
分散されるものである。
有単量体および非フッ素単量体各々が分子内で連結して
配列し比較的長い単独分子鎖を形成しているものである
。即ちフッ素系ブロックプリマーは、フッ素系セグメン
トと非フッ素系セグメントがそれぞれ局在化しており、
フッ素系セグメントがフッ素系樹脂粉体に、非フッ素系
セグメントが添加された樹脂層に、それぞれ配向した機
能分離形態をとっている。特にフッ素系セグメントが連
続して配列しているため、フッ素系セグメントがフッ素
系樹脂粉体く高密度でかつ効率良く吸着し、更に非7ツ
、素糸セグメントが樹脂層に配向するため従来の分散剤
には見られなかったフッ素系樹脂粉体の分散安定性向上
効果が発現されているものである。また一般にフッ素系
樹脂粉体は、数μオーダーの凝集体で存在しているもの
であるが、本発明のフッ素系グラフドーリマーを分散剤
として用いることにより1μ以下の1次粒子まで均一に
分散されるものである。
フッ素系ブロックポリマー中におけるフッ素系セグメン
トの比率は5〜70iift%が好ましく、10〜50
重tqbがさらに好ましい。
トの比率は5〜70iift%が好ましく、10〜50
重tqbがさらに好ましい。
フッ素系セグメントの比率が5重量%未満ではフッ素系
樹脂粉体の分散安定性機能が十分に発揮できず、70]
i量係を超えると添加される表面層樹脂との相溶性が悪
くなる。
樹脂粉体の分散安定性機能が十分に発揮できず、70]
i量係を超えると添加される表面層樹脂との相溶性が悪
くなる。
フッ素系ブロックプリマーの添加iIkはフッ素系樹脂
粉体に対して重量で0.1〜30%が適当であり、特に
1〜20係が好ましい。
粉体に対して重量で0.1〜30%が適当であり、特に
1〜20係が好ましい。
添加量が0.1%未満ではフッ素系樹脂粉体の分散安定
性効果が十分でなく一方30%を超えるとフッ素系ブロ
ックポリマーがフッ素系樹脂に吸着して存在する以外に
フリーの状態で表面層、Il脂層内部に存在する様にな
りくシ返し電子写真グロセスを行なったときに残留電位
の蓄積が生じてくる。
性効果が十分でなく一方30%を超えるとフッ素系ブロ
ックポリマーがフッ素系樹脂に吸着して存在する以外に
フリーの状態で表面層、Il脂層内部に存在する様にな
りくシ返し電子写真グロセスを行なったときに残留電位
の蓄積が生じてくる。
本発明で用いるフッ素系ブロックポリマーは次の様な方
法で得ることができる。
法で得ることができる。
(1)分子末端にラジカル発生基をもつポリマーを合成
し、この末端から別種モノマーのブロックを生長させる
方法。
し、この末端から別種モノマーのブロックを生長させる
方法。
例えばテトラメチルチウラムジサルファイドを開始剤と
してスチレン(St)を重合して、次のようなポリスチ
レンが得られる。この末端からフッ素含有単量体を重合
生長させるとフッ素系ブロックポリマー が得られる。I!念、トリクロルッロムメタンを連鎖移
動剤としてスチレンを光重合させて得られる4リマーは
、紫外線によりて次のようにラジカルを発生する。
してスチレン(St)を重合して、次のようなポリスチ
レンが得られる。この末端からフッ素含有単量体を重合
生長させるとフッ素系ブロックポリマー が得られる。I!念、トリクロルッロムメタンを連鎖移
動剤としてスチレンを光重合させて得られる4リマーは
、紫外線によりて次のようにラジカルを発生する。
買
Cl2O(St)nBr 4 cz、c(st)n・+
Br・そこで、このポリスチレンを光増感剤として、フ
ッ素含有単量体を光重合させるとフッ素系ブロックポリ
マーが得られる。
Br・そこで、このポリスチレンを光増感剤として、フ
ッ素含有単量体を光重合させるとフッ素系ブロックポリ
マーが得られる。
(ii)生長中のポリマーの活性末端へ別種モノマーを
重合させる方法。ラジカル重合の場合、水溶性モノマー
と油溶性モノマーの乳化重合、生長反応させつつ毛管を
流下させて別種モノマー中へ導く方法などがある。また
、リビングポリマーをつくりうるモノマーでは、アニオ
ンの場合、逐次モノマーを加えていけばよい。またカチ
オン、アニオン両リビングポリマーの結合も可能である
。リビングポリマーによる方法は、その単分散性やブロ
ック長を自由に変えうる点で、モデル化合物の合成法と
して非常に有用である。
重合させる方法。ラジカル重合の場合、水溶性モノマー
と油溶性モノマーの乳化重合、生長反応させつつ毛管を
流下させて別種モノマー中へ導く方法などがある。また
、リビングポリマーをつくりうるモノマーでは、アニオ
ンの場合、逐次モノマーを加えていけばよい。またカチ
オン、アニオン両リビングポリマーの結合も可能である
。リビングポリマーによる方法は、その単分散性やブロ
ック長を自由に変えうる点で、モデル化合物の合成法と
して非常に有用である。
(iii)適当な開始剤を用いて、末端に水酸基、カル
?キシル基のような官能基をもつポリマーを合成し、こ
のようなポリマー二種を2官能性の化合物で連結する方
法。
?キシル基のような官能基をもつポリマーを合成し、こ
のようなポリマー二種を2官能性の化合物で連結する方
法。
フッ素含有単量体の好ましい具体例を以下に示すが使用
できる化合物の範囲はここに挙げた範囲に何ら限定され
るものではない。
できる化合物の範囲はここに挙げた範囲に何ら限定され
るものではない。
フッ素系単量体の具体例
化合物部
(1) CH2= CHF
(2) 0M2=CF2
(3) CHF = CF2
(4) CF2=CF2
(5) CF2=CF2A
(6) CF2=CF2F。
(7) CF2=CF−R。
(8) CF2=CF ORf
(9) CH2=CH−R。
叫 CH2=CH−0−Rf
R,O
R,0H
CF2−CF−CF3
上記化合物中R1は水素原子、ハロダン原子ま九はメチ
ル基を表わす。R2は水素原子、ハロダン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはニトリル基を表わし、その数
種類の組合せでもよく、kは1〜4の整数、mは1〜5
の整数であシ、k + m = 5である− R7は少
なくとも1ヶ以上フッ素原子に置換されたアルキル基を
示す。
ル基を表わす。R2は水素原子、ハロダン原子、アルキ
ル基、アルコキシ基またはニトリル基を表わし、その数
種類の組合せでもよく、kは1〜4の整数、mは1〜5
の整数であシ、k + m = 5である− R7は少
なくとも1ヶ以上フッ素原子に置換されたアルキル基を
示す。
又、非フッ素系単量体としては低分子量直鎖状不飽和炭
化水素ハロダン化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビ
ニル芳香族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エス
テル類、N−ビニル化合物、ビニルクイ素化合物、無水
マレイン酸、マレイン酸及びフマル酸のエステル類等の
1種あるいは2種以上のものを用いることができるが形
成されたフッ素系ブロックポリマーが添加される表面層
の樹脂層と相溶するものあるいは完全に相溶しないまで
も類似構造を有し両者間に少しでも親和性があるものを
選択することが必要である。
化水素ハロダン化ビニル、有機酸のビニルエステル、ビ
ニル芳香族化合物、アクリル酸およびメタクリル酸エス
テル類、N−ビニル化合物、ビニルクイ素化合物、無水
マレイン酸、マレイン酸及びフマル酸のエステル類等の
1種あるいは2種以上のものを用いることができるが形
成されたフッ素系ブロックポリマーが添加される表面層
の樹脂層と相溶するものあるいは完全に相溶しないまで
も類似構造を有し両者間に少しでも親和性があるものを
選択することが必要である。
例えば表面層樹脂層がポリ(メタ)アクリル酸エステル
類であれば非フッ素系単量体としても(メア)アクリル
酸エステル類が好ましく、又、ポリスチレンやポリカー
?ネートの場合KW−1スチレン系化合物が選択される
のが好ましい。
類であれば非フッ素系単量体としても(メア)アクリル
酸エステル類が好ましく、又、ポリスチレンやポリカー
?ネートの場合KW−1スチレン系化合物が選択される
のが好ましい。
表面層を形成するためのバインダー樹脂は成膜性のある
高分子であればよいが、単独でもある程度の硬さを有す
ること、キャリヤー輸送を妨害しないことなどの点から
ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、メタクリル
酸エステル/スチレン共重合体、ポリカー?ネート、ボ
リアリレート、ポリエステル、ポリスルホン等が好まし
い。
高分子であればよいが、単独でもある程度の硬さを有す
ること、キャリヤー輸送を妨害しないことなどの点から
ポリメタクリル酸エステル、ポリスチレン、メタクリル
酸エステル/スチレン共重合体、ポリカー?ネート、ボ
リアリレート、ポリエステル、ポリスルホン等が好まし
い。
本発明の電子写真感光体を製造号る場合、導電性支持体
は、アルミニウム、ステンレスなどの金属や紙、プラス
チックなどの支持体上に導電性粒子を適当なバインダー
樹脂に分散した導電層を設は九円筒状シリンダーま次は
、フィルムが用いられる。ただし、支持体自身が導電性
の場合には、導電性支持体は、導電層を設けていなくて
もよい。
は、アルミニウム、ステンレスなどの金属や紙、プラス
チックなどの支持体上に導電性粒子を適当なバインダー
樹脂に分散した導電層を設は九円筒状シリンダーま次は
、フィルムが用いられる。ただし、支持体自身が導電性
の場合には、導電性支持体は、導電層を設けていなくて
もよい。
これらの導電性支持体の上にはバリアー機能と下引機能
をもつ下引層(接着層)を設けることができる。
をもつ下引層(接着層)を設けることができる。
下引層は感光層の接着性改良、塗工性改良、導電性支持
体の保護、導電性支持体上の欠陥の被覆、導電性支持体
からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対テる保
護などのために形成される。
体の保護、導電性支持体上の欠陥の被覆、導電性支持体
からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対テる保
護などのために形成される。
下引層の材料としては、?リビニルアルコール、yj?
I) −N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキ
シド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン
−アクリル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重
合ナイロン、にかわ、ゼラチンなどが知られている。
I) −N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキ
シド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン
−アクリル酸コポリマー、カゼイン、ポリアミド、共重
合ナイロン、にかわ、ゼラチンなどが知られている。
これらはそれぞれに適した溶剤に廖解されて基体上に塗
布される。その膜厚は0.2〜2μ程度である。
布される。その膜厚は0.2〜2μ程度である。
電荷発生物質としてはシアニン系染料、アズレン系染料
、スクグアリリウム系染料、ピリリウム系染料、チアピ
リリウム系染料、フタロシアニン系顔料、アントアント
ロン系顔料、ジベンズピレンキノン系顔料、ビラントロ
ン系顔料、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔
料等のアゾ系顔料、インジブ9系顔料、キナクリドン系
顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンなどを用いる
ことができる。
、スクグアリリウム系染料、ピリリウム系染料、チアピ
リリウム系染料、フタロシアニン系顔料、アントアント
ロン系顔料、ジベンズピレンキノン系顔料、ビラントロ
ン系顔料、モノアゾ顔料、ジスアゾ顔料、トリスアゾ顔
料等のアゾ系顔料、インジブ9系顔料、キナクリドン系
顔料、非対称キノシアニン、キノシアニンなどを用いる
ことができる。
電荷輸送物質としては、ピレン、N−xチルカルバゾー
ル、N−イソプロピルカルバゾール、N−メチル−N−
フェニルヒドラジノ−3−メチリ・テン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N −ジフェニルヒドラジノ−3−メ
チリデン−9−エチルカルバソール、N、N−ジフェニ
ルヒドラジ/−3−メチリデン−10−二チルフェノチ
アジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデ
ン−10−エチルフェノキサジン、p−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p
−ジエチルアミノペンズアルデヒドーN−a−す7チル
ーN−7エニルヒドラゾン、p−ピクリジノペンズアル
デヒドーN、N−ジフェニルヒドラゾン、 1,3.3
− ) IJメチルインドレニン−ω−アルデヒド−N
、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチルベンズアル
デヒド−3−メチルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾ
ンなどのヒドラゾン類、2゜5−ビス(p−ジエチルア
ミノフェニル) −1,3゜4−オキサジアゾール、l
−7エニルー3− (p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェール)ピラゾリン、1−
〔キノリル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2) ) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシビリジル(2)
) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p
−ジエチルアミノフェニルピラゾリン、1−〔ピリジル
(3) ) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
(レピジル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2) ) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p−ジエチル
アミノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2)
〕−3−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4
−メチル−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ビラゾ
!Jン、1−7エニルー3−(a−ベンジル−p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン
類、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチ
ルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
5−(2−10ロフエニル)オキvシー#などのオキサ
ゾール系化合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル)
−6−ジニチルアミノペンズチアゾールなどのチアゾー
ル系化合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフ
ェニル)フェニルメタンなどのトリアリールメタン系化
合物、1.1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2
−メチルフェニル)へブタン、1,1,2.2−テトラ
キス(4−N、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニ
ル)エタンなどのポリアリールアルカン類、5−(4−
ジフェニルアミノベンジリデン)−5Hゾベンゾ[:a
、d]シクロヘプテン、1.2−ベンゾ−3−(d−フ
ェニルスチリル)−9−n−ブチルカルバゾール等のス
チルベン化合物などを用いることができる。
ル、N−イソプロピルカルバゾール、N−メチル−N−
フェニルヒドラジノ−3−メチリ・テン−9−エチルカ
ルバゾール、N、N −ジフェニルヒドラジノ−3−メ
チリデン−9−エチルカルバソール、N、N−ジフェニ
ルヒドラジ/−3−メチリデン−10−二チルフェノチ
アジン、N、N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデ
ン−10−エチルフェノキサジン、p−ジエチルアミノ
ベンズアルデヒド−N、N−ジフェニルヒドラゾン、p
−ジエチルアミノペンズアルデヒドーN−a−す7チル
ーN−7エニルヒドラゾン、p−ピクリジノペンズアル
デヒドーN、N−ジフェニルヒドラゾン、 1,3.3
− ) IJメチルインドレニン−ω−アルデヒド−N
、N−ジフェニルヒドラゾン、p−ジエチルベンズアル
デヒド−3−メチルベンズチアゾリノン−2−ヒドラゾ
ンなどのヒドラゾン類、2゜5−ビス(p−ジエチルア
ミノフェニル) −1,3゜4−オキサジアゾール、l
−7エニルー3− (p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェール)ピラゾリン、1−
〔キノリル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2) ) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔6−メドキシビリジル(2)
) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p
−ジエチルアミノフェニルピラゾリン、1−〔ピリジル
(3) ) −3−(p−ジエチルアミノスチリル)−
5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
(レピジル(2) ) −3−(p−ジエチルアミノス
チリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾ
リン、1−〔ピリジル(2) ) −3−(p−ジエチ
ルアミノスチリル)−4−メチル−5−(p−ジエチル
アミノフェニル)ピラゾリン、1−〔ピリジル(2)
〕−3−(α−メチル−p−ジエチルアミノスチリル)
−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1
−フェニル−3−(p−ジエチルアミノスチリル)−4
−メチル−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ビラゾ
!Jン、1−7エニルー3−(a−ベンジル−p−ジエ
チルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)ピラゾリン、スピロピラゾリンなどのピラゾリン
類、2−(p−ジエチルアミノスチリル)−6−ジニチ
ルアミノベンズオキサゾール、2−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)−4−(p−ジメチルアミノフェニル)−
5−(2−10ロフエニル)オキvシー#などのオキサ
ゾール系化合物、2−(p−ジエチルアミノスチリル)
−6−ジニチルアミノペンズチアゾールなどのチアゾー
ル系化合物、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフ
ェニル)フェニルメタンなどのトリアリールメタン系化
合物、1.1−ビス(4−N、N−ジエチルアミノ−2
−メチルフェニル)へブタン、1,1,2.2−テトラ
キス(4−N、N−ジメチルアミノ−2−メチルフェニ
ル)エタンなどのポリアリールアルカン類、5−(4−
ジフェニルアミノベンジリデン)−5Hゾベンゾ[:a
、d]シクロヘプテン、1.2−ベンゾ−3−(d−フ
ェニルスチリル)−9−n−ブチルカルバゾール等のス
チルベン化合物などを用いることができる。
本発明の電子写真感光体の調製方法を電荷発生層上に電
荷輸送層を積層する機能分離型感光体の場合を例として
説明する。
荷輸送層を積層する機能分離型感光体の場合を例として
説明する。
前記の電荷発生物質を0.3〜10倍量の結着剤樹脂お
よび溶剤と共にホモジナイザー、超音波、メールミル、
振動?−ルミル、−!11″ンドミル、アトライター、
ロールミルなどの方法でよく分散する。
よび溶剤と共にホモジナイザー、超音波、メールミル、
振動?−ルミル、−!11″ンドミル、アトライター、
ロールミルなどの方法でよく分散する。
この分散液を前記下引層を塗布した基体上に塗布、乾燥
し、0.1〜1μ程度の塗膜を形成させる。
し、0.1〜1μ程度の塗膜を形成させる。
この例においては、表面層が電荷輸送層となるのでここ
にフッ素系樹脂粉体を分散する・即ち、バインダー樹脂
、フッ素系樹脂粉体及びフッ素系グラフトポリマーを溶
剤と共にホモジナイザー、超音波、メールミル、サンド
ミル、アトライター、ロールミルなどで分散し、これに
電荷輸送物質と結着剤樹脂の溶液を添加し所望の電荷輸
送層液を調合する。
にフッ素系樹脂粉体を分散する・即ち、バインダー樹脂
、フッ素系樹脂粉体及びフッ素系グラフトポリマーを溶
剤と共にホモジナイザー、超音波、メールミル、サンド
ミル、アトライター、ロールミルなどで分散し、これに
電荷輸送物質と結着剤樹脂の溶液を添加し所望の電荷輸
送層液を調合する。
フッ素系ブロックポリマーは、フッ素系樹脂粉体分散時
に添加するほうがフッ素系樹脂粉体の安定性寄与の点で
最も・効果がある。しかしながら、フッ素系樹脂粉体を
あらかじめ分散しておいて、その後、フッ素系樹脂粉体
を添加しても良い。
に添加するほうがフッ素系樹脂粉体の安定性寄与の点で
最も・効果がある。しかしながら、フッ素系樹脂粉体を
あらかじめ分散しておいて、その後、フッ素系樹脂粉体
を添加しても良い。
電荷輸送物質とバインダー樹脂との混合割合は2:1〜
1:4程度である。
1:4程度である。
溶剤としてはトルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素
類、ジクロルメタン、クロルベンゼン、クロロホルム、
四塩化炭素などの塩素系炭化水素類などが用いられる。
類、ジクロルメタン、クロルベンゼン、クロロホルム、
四塩化炭素などの塩素系炭化水素類などが用いられる。
この溶液を塗布する際には、例えば浸漬コーティング法
、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法
、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、カ
ーテンコーティング法などのコーティング法を用いるこ
とができ、乾燥は10〜200℃、好ましくは20〜1
50℃の範囲の温度で5分〜5時間、好ましくは10分
〜2時間の時間で送風乾燥または静止乾燥下で行なうこ
とができる。形成した電荷輸送層の膜厚は10〜30μ
程度である。
、スプレーコーティング法、スピンナーコーティング法
、ビードコーティング法、ブレードコーティング法、カ
ーテンコーティング法などのコーティング法を用いるこ
とができ、乾燥は10〜200℃、好ましくは20〜1
50℃の範囲の温度で5分〜5時間、好ましくは10分
〜2時間の時間で送風乾燥または静止乾燥下で行なうこ
とができる。形成した電荷輸送層の膜厚は10〜30μ
程度である。
又、電荷発生層を電荷輸送層上に塗設する感光体の場合
には電荷発生層が表面層になるのでここにフッ素系ブロ
ックポリマーで分散安定化されたフッ素樹脂粉体が含有
される。この電荷発生層分散液は、電荷発生層に用いる
結着樹脂中にフッ素系ブロックプリマーを分散剤として
フッ素系樹脂粉体を分散させた分散液を前述の様に調製
した電荷発生物質の分散液に添加・混合する方法によつ
て調製することができ、この分散液を電荷輸送層上に塗
布して本発明の感光体を得ることができる。
には電荷発生層が表面層になるのでここにフッ素系ブロ
ックポリマーで分散安定化されたフッ素樹脂粉体が含有
される。この電荷発生層分散液は、電荷発生層に用いる
結着樹脂中にフッ素系ブロックプリマーを分散剤として
フッ素系樹脂粉体を分散させた分散液を前述の様に調製
した電荷発生物質の分散液に添加・混合する方法によつ
て調製することができ、この分散液を電荷輸送層上に塗
布して本発明の感光体を得ることができる。
感光層が保護層を有する場合には、保護層が感光層の表
面層となシ、この保護層中にフッ素系ブロックポリマー
で分散安定化されたフッ素樹脂粉体が含有される。この
保護層は前述の様に保護層を形成する樹脂中にフッ素系
ブロックポリマーで分散安定化されたフッ素系樹脂粉体
の分散液を感光層上に塗布することによりて得ることが
できる。
面層となシ、この保護層中にフッ素系ブロックポリマー
で分散安定化されたフッ素樹脂粉体が含有される。この
保護層は前述の様に保護層を形成する樹脂中にフッ素系
ブロックポリマーで分散安定化されたフッ素系樹脂粉体
の分散液を感光層上に塗布することによりて得ることが
できる。
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1
80φX300mのアルミニウムシリンダーを基体とし
た。これにポリアミド樹脂(商品名:アεランCN−8
000,東し製)の5%メタノール溶液を浸漬法で塗布
し、1μ厚の下引き層をもうけ九。
た。これにポリアミド樹脂(商品名:アεランCN−8
000,東し製)の5%メタノール溶液を浸漬法で塗布
し、1μ厚の下引き層をもうけ九。
次に下記構造式のジスアゾ顔料を10部(重量部、以下
同様)、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレッ
クBXL、覆水化学■製)8部およびシクロヘキサノン
50部を1φガラスピーズを用いたサンドミル装置で2
0時間分散した。この分散液にメチルエチルケトン70
〜120(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、膜厚
0.15μの電荷発生層を形成した。
同様)、ポリビニルブチラール樹脂(商品名:エスレッ
クBXL、覆水化学■製)8部およびシクロヘキサノン
50部を1φガラスピーズを用いたサンドミル装置で2
0時間分散した。この分散液にメチルエチルケトン70
〜120(適宜)部を加えて下引き層上に塗布し、膜厚
0.15μの電荷発生層を形成した。
次にポリスチレン(商品名:HF−55三菱モンサント
■製)10部、ポリ4フッ化エチレン(平均粒径0.4
μ、分子量約1万)10部及び前記フッ素原子含有重合
性単量体Fa4のフルオロアクリレート(R4=H0n
=8.10,12.14の混合物)とスチレンから合成
されたフッ素系ブロックポリマー(フルオロアクリレー
ト/スチレン重量比=2/8 、 )リクロルプロムメ
タンを連鎖移動剤としてスチレンを光重合させ、更にフ
ルオロアクリレートを共重合させて得られたブロック4
リマ一分子量My : 4.5 X 10 ) 0.5
部をシクロへキサノン708(S中に溶解し、ステンレ
ス製メールミルで50時間分散した。得られた分散液1
0部に対し、で示される構造式のヒドラゾン化合物10
部とポリスチレン(HF−55,三菱モンサント製)1
0部をシクロヘキサノン60部に溶解し九樹脂溶液70
部を混合し電荷輸送層溶液を調製した。この電荷輸送層
溶液中のポリ4フッ化エチレン粉体の平均粒径は粒度分
布測定機(CAPA −500堀場製作場製)によれば
0.41μであり九。
■製)10部、ポリ4フッ化エチレン(平均粒径0.4
μ、分子量約1万)10部及び前記フッ素原子含有重合
性単量体Fa4のフルオロアクリレート(R4=H0n
=8.10,12.14の混合物)とスチレンから合成
されたフッ素系ブロックポリマー(フルオロアクリレー
ト/スチレン重量比=2/8 、 )リクロルプロムメ
タンを連鎖移動剤としてスチレンを光重合させ、更にフ
ルオロアクリレートを共重合させて得られたブロック4
リマ一分子量My : 4.5 X 10 ) 0.5
部をシクロへキサノン708(S中に溶解し、ステンレ
ス製メールミルで50時間分散した。得られた分散液1
0部に対し、で示される構造式のヒドラゾン化合物10
部とポリスチレン(HF−55,三菱モンサント製)1
0部をシクロヘキサノン60部に溶解し九樹脂溶液70
部を混合し電荷輸送層溶液を調製した。この電荷輸送層
溶液中のポリ4フッ化エチレン粉体の平均粒径は粒度分
布測定機(CAPA −500堀場製作場製)によれば
0.41μであり九。
この溶液を上記電荷発層上に塗布し、110℃90分熱
風乾燥して18μの電荷輸送層を形成した。これを試料
lとする。
風乾燥して18μの電荷輸送層を形成した。これを試料
lとする。
この試料1の表面は均一かつ平滑であシ、表面層の平均
面粗さは0.2μ以下とフッ素系樹脂粉体が含有されて
いない□電荷輸送材料とバインダー樹脂から形成される
電荷輸送層表面の平均面粗さと同等であった。比較の九
めフッ素系ブロックポリマーを添加しないものを上記と
同様にして作成した。これを試料2とする。
面粗さは0.2μ以下とフッ素系樹脂粉体が含有されて
いない□電荷輸送材料とバインダー樹脂から形成される
電荷輸送層表面の平均面粗さと同等であった。比較の九
めフッ素系ブロックポリマーを添加しないものを上記と
同様にして作成した。これを試料2とする。
試料2は表面層のプリ4フッ化エチレン粉体の凝集がは
なはだしく、画像評価に値しない状態であった。
なはだしく、画像評価に値しない状態であった。
一方ポリ4フッ化エチレンとフッ素系ブロックポリマー
を添加しないものを上記と同様に作成し次。これを試料
3とする。
を添加しないものを上記と同様に作成し次。これを試料
3とする。
これらの試料に対し、−5,5kVコロナ帯電、画像露
光、乾式トナー現像普通紙へのトナー転写、ウレタンコ
0ムブレードによるクリーニングからなる電子写真プロ
セスにて10000枚の耐久性評価を行なった。その結
果を表1に示す。
光、乾式トナー現像普通紙へのトナー転写、ウレタンコ
0ムブレードによるクリーニングからなる電子写真プロ
セスにて10000枚の耐久性評価を行なった。その結
果を表1に示す。
実施例 2
前記フッ素原子含有重合性単量体随1のフルオロメタク
リレート(R,: CH,)、Na 2のフルオロアク
リルアミド(R1:H) 、N[L 4のフルオロメタ
クリルアミド(R: CHs 、 n =8.10 e
12−14の混合物)NI15のテトラフルオoフェ
ニルメタクリレート(R,:CH,R2:H、m=4
) 、N16のテトラフルオロシアノフェニルアクリル
アミド(R,:H。
リレート(R,: CH,)、Na 2のフルオロアク
リルアミド(R1:H) 、N[L 4のフルオロメタ
クリルアミド(R: CHs 、 n =8.10 e
12−14の混合物)NI15のテトラフルオoフェ
ニルメタクリレート(R,:CH,R2:H、m=4
) 、N16のテトラフルオロシアノフェニルアクリル
アミド(R,:H。
R2:CNlm=4)各々とスチレンとのブロックポリ
マー(スチレン70重量%)を実施例1と同様の方法で
合成した。それぞれの試料をa 、b 、 C+ d
*Cとする。
マー(スチレン70重量%)を実施例1と同様の方法で
合成した。それぞれの試料をa 、b 、 C+ d
*Cとする。
これらのブロックポリマーを用い実施例1と同様にして
電荷輸送層溶液を調製した。この電荷輸送層溶液中のポ
リ4フッ化エチレン粉体の平均粒径はそれぞれ0.40
、0.45 、0.41 、0.48 、0.50μ
であった。次に実施例1と同様にして感光体を作成した
。
電荷輸送層溶液を調製した。この電荷輸送層溶液中のポ
リ4フッ化エチレン粉体の平均粒径はそれぞれ0.40
、0.45 、0.41 、0.48 、0.50μ
であった。次に実施例1と同様にして感光体を作成した
。
これらをそれぞれ試料4〜8とする、表面粗さはいずれ
も0.2μ以下であった。これらの試料に対し実施例1
と同様にして耐久性評価をしたがいずれも高品位で安定
な画像が得られ九。
も0.2μ以下であった。これらの試料に対し実施例1
と同様にして耐久性評価をしたがいずれも高品位で安定
な画像が得られ九。
実施例 3
80φX300mのアルミニウムシリンダを基体とし、
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東しW)の5係メタノール溶液を浸漬法で竜布し、
1μ厚の下引き層をもうけた。
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東しW)の5係メタノール溶液を浸漬法で竜布し、
1μ厚の下引き層をもうけた。
次に下記構造式のピラゾリン化合物12部とポリカーゲ
ネート樹脂(ニーピロンS−2000三菱ガス化学製)
10部をジクロルエタン60sに溶解した。この液を上
記下引き層上に浸漬塗布し、100℃、1時間の乾燥を
して14μの電荷輸送層と形成した。
ネート樹脂(ニーピロンS−2000三菱ガス化学製)
10部をジクロルエタン60sに溶解した。この液を上
記下引き層上に浸漬塗布し、100℃、1時間の乾燥を
して14μの電荷輸送層と形成した。
次に下記構造式のビスアゾ顔料10部、ポリフッ化ビニ
リデン平均粒子径0.5μ分子量約10万5部、実施例
1のフッ素系ブロックポリマー0.3H(l−ジクロル
エタン100MK溶解シ、ステンレスメールミルにて5
0時間分散を行なった。この分散液中のポリフッ化ビニ
IJデン粉体の平均粒径は0.52μであった。
リデン平均粒子径0.5μ分子量約10万5部、実施例
1のフッ素系ブロックポリマー0.3H(l−ジクロル
エタン100MK溶解シ、ステンレスメールミルにて5
0時間分散を行なった。この分散液中のポリフッ化ビニ
IJデン粉体の平均粒径は0.52μであった。
この溶液を電荷輸送層上に突き上げ塗布し、100℃2
0分間乾燥して2μ厚の電荷発生層を形成した。これを
試料とする。表面粗さは0.2μ以下でありた。比較の
ためフッ素系ブロックポリマーおよびポリフッ化ビニリ
デンを加えない試料を同様にして作成した。これらを試
料10.11とする。
0分間乾燥して2μ厚の電荷発生層を形成した。これを
試料とする。表面粗さは0.2μ以下でありた。比較の
ためフッ素系ブロックポリマーおよびポリフッ化ビニリ
デンを加えない試料を同様にして作成した。これらを試
料10.11とする。
こうして得られ次試料を+5.6kVコロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレード、によるクリーニング工程等を有する電
子写真複写機に取りつけて。
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンゴムブレード、によるクリーニング工程等を有する電
子写真複写機に取りつけて。
10000枚の耐久性試検を行なりた。結果を表2に示
す。
す。
実施例 4
80φX300mmのアルミニウムシリンダを基体とし
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東し製)の5係メタノール溶液を浸漬法で塗布し、
1μ厚の下引き層をもうけた。
これにポリアミド樹脂(商品名:アミランCN−800
0、東し製)の5係メタノール溶液を浸漬法で塗布し、
1μ厚の下引き層をもうけた。
次にアルミクロライドフタロシアニン(東洋インキ類)
1部、ポリカーゴネート樹脂(ニーピロンS−3000
三菱ガス化学)10部ポリ三フフ化塩化エチレン干均粒
径0.5分子量約10万4部及び実施例2のフッ素系ブ
ロックポリマーeO,2部をジクロルメタン40部、T
HF 10部に溶解、混合しステンレス?−ルミルで5
0時間分散し、更に実施例1のヒドラゾン化合物6部を
添加、溶解し、感光液を調製した。
1部、ポリカーゴネート樹脂(ニーピロンS−3000
三菱ガス化学)10部ポリ三フフ化塩化エチレン干均粒
径0.5分子量約10万4部及び実施例2のフッ素系ブ
ロックポリマーeO,2部をジクロルメタン40部、T
HF 10部に溶解、混合しステンレス?−ルミルで5
0時間分散し、更に実施例1のヒドラゾン化合物6部を
添加、溶解し、感光液を調製した。
この分散液中のポリ三フッ化塩化エチレン粉体の平均粒
径は0.54μであった。
径は0.54μであった。
この液を前記下引き層上に浸漬塗布し、100℃60分
乾燥し12μの感光層をもっけ九。これを試料12とす
る。
乾燥し12μの感光層をもっけ九。これを試料12とす
る。
表面粗さは0.2μ以下であうた。
比較のため、ポリ三フフ化塩化エチレンとフッ素系ブロ
ックポリマーを添加しない試料を同様に作成した。これ
を試料13とする。
ックポリマーを添加しない試料を同様に作成した。これ
を試料13とする。
こうして得られた試料を+5.6kVコロナ帯電、画像
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンコ9ムブレード、によるクリー二ング工程等を有する
電子写真複写機に取りつけて、5000枚の耐久性評価
を行り危。その結果を表3に示す。
露光、乾式トナー現像、普通紙へのトナー転写、ウレタ
ンコ9ムブレード、によるクリー二ング工程等を有する
電子写真複写機に取りつけて、5000枚の耐久性評価
を行り危。その結果を表3に示す。
表 3
実施例 5
実施例1で用い九ポリスチレン、ポリ4フッ化エチレン
、フッ素系ブロックポリマーを用い実施例1と同様にし
てポリ4フッ化エチレン分散液を得た。この分散液を実
施例1で作製した試料30表面層上に突き上げ塗布し、
100℃30分熱風乾燥して3μの保護層を形成した、
これを試料14とする。表面粗さは0.2μ以下であり
九。この試料を実施例1と同様にして10000枚の耐
久試験を行なったが、23℃55%R,H,32,5℃
90%R,Hとも10000枚まで高品位で安定な画像
が得られ次。
、フッ素系ブロックポリマーを用い実施例1と同様にし
てポリ4フッ化エチレン分散液を得た。この分散液を実
施例1で作製した試料30表面層上に突き上げ塗布し、
100℃30分熱風乾燥して3μの保護層を形成した、
これを試料14とする。表面粗さは0.2μ以下であり
九。この試料を実施例1と同様にして10000枚の耐
久試験を行なったが、23℃55%R,H,32,5℃
90%R,Hとも10000枚まで高品位で安定な画像
が得られ次。
本発明によればフッ素系樹脂粉体とフッ素系ブロックポ
リマーを表面層に含有する電子写真感光体は、フッ素系
樹脂粉体が均一に分散され、その分散安定性が向上され
ているため常に均一な表面層が得られ、その結果初期画
像はもちろんのこと繰)返し耐久後も傷や画像流れが発
生せず常に高品位の画像を得ることができるものである
。
リマーを表面層に含有する電子写真感光体は、フッ素系
樹脂粉体が均一に分散され、その分散安定性が向上され
ているため常に均一な表面層が得られ、その結果初期画
像はもちろんのこと繰)返し耐久後も傷や画像流れが発
生せず常に高品位の画像を得ることができるものである
。
Claims (11)
- (1)導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体
において、表面層がフッ素樹脂粉体とフッ素系ブロック
ポリマーを含有していることを特徴とする電子写真感光
体。 - (2)前記フッ素樹脂粉体が四フッ化エチレン樹脂、三
フッ化塩化エチレン樹脂、四フッ化エチレン六フッ化プ
ロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹
脂、二フッ化二塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合
体から選ばれたものである特許請求の範囲第1項記載の
電子写真感光体。 - (3)フッ素系ブロックポリマーがフッ素含有単量体に
由来するフッ素含有ブロックセグメントと非フッ素単量
体に由来するブロックセグメントから構成される特許請
求の範囲第1項記載の電子写真感光体。 - (4)前記フッ素含有単量体がフッ素置換低分子量直鎖
状不飽和炭化水素、フッ素置換ハロゲン化ビニル、フッ
素置換有機酸のビニルエステル、フッ素置換アルキルビ
ニルエーテル、アクリル酸およびメタクリル酸のフッ素
置換アルキルエステルおよびアミド、アクリル酸および
メタクリル酸のフッ素置換芳香族含有エステルおよびア
ミド、フッ化無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル
酸のフッ素置換アルキルエステル、およびα−フッ化ス
チレンα,β,βフッ化スチレンである特許請求の範囲
第3項記載の電子写真感光体。 - (5)前記フッ素系ブロックポリマーを構成するフッ素
含有ブロックセグメントが5〜70重量%である特許請
求の範囲第3項記載の電子写真感光体。 - (6)前記フッ素系樹脂粉体の含有量が、重量分率で表
面構成成分の1〜50%である特許請求の範囲第1項記
載の電子写真感光体。 - (7)前記フッ素系ブロックポリマーの添加量がフッ素
系樹脂粉体に対して0.1〜30重量%である特許請求
の範囲第1項記載の電子写真感光体。 - (8)前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層の積層構造
を有しており、かつ電荷発生層の上に電荷輸送層が積層
されている特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体
。 - (9)前記感光層が電荷発生層と電荷輸送層の積層構造
を有しており、かつ電荷輸送層の上に電荷発生層が積層
されている特許請求の範囲第1項記載の電子写真感光体
。 - (10)前記感光層が電荷発生物質と電荷輸送物質を含
有する単一層からなる特許請求の範囲第1項記載の電子
写真感光体。 - (11)前記感光層が表面層として保護層を有する特許
請求の範囲第1項記載の電子写真感光体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62082979A JPS63249152A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 電子写真感光体 |
US07/177,349 US4863823A (en) | 1987-04-06 | 1988-04-01 | Electrophotographic member with the surface layer having a fluorine type resin powder and a fluorine type block polymer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62082979A JPS63249152A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63249152A true JPS63249152A (ja) | 1988-10-17 |
Family
ID=13789331
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62082979A Pending JPS63249152A (ja) | 1987-04-06 | 1987-04-06 | 電子写真感光体 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4863823A (ja) |
JP (1) | JPS63249152A (ja) |
Cited By (3)
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-
1987
- 1987-04-06 JP JP62082979A patent/JPS63249152A/ja active Pending
-
1988
- 1988-04-01 US US07/177,349 patent/US4863823A/en not_active Expired - Lifetime
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---|---|
US4863823A (en) | 1989-09-05 |
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