JPS6324616Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6324616Y2 JPS6324616Y2 JP1980039724U JP3972480U JPS6324616Y2 JP S6324616 Y2 JPS6324616 Y2 JP S6324616Y2 JP 1980039724 U JP1980039724 U JP 1980039724U JP 3972480 U JP3972480 U JP 3972480U JP S6324616 Y2 JPS6324616 Y2 JP S6324616Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- sample
- rays
- ray
- converging lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 28
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案はＸ線分析装置に関し、特に電子線を試
料上に細く収束し、該試料から発生したＸ線を検
出するようにしたＸ線分析装置に関する。
料上に細く収束し、該試料から発生したＸ線を検
出するようにしたＸ線分析装置に関する。
第１図は従来のＸ線分析装置の一例を示してお
り、電子線EBは第１の収束レンズ１及び第２の
収束レンズ２によつて試料３上に細く収束され
る。該試料３への電子線照射によつて発生したＸ
線はＸ線検出器４によつて検出される。ここで第
２の収束レンズ２内には例えばモリブデンから成
る電子線絞り板５が設けられているが、該絞り板
５への電子線の照射によつて該絞り板からＸ線が
発生する。該Ｘ線の試料３への照射を防止するた
めの各々電子線通過口６及び７が穿たれた例えば
鉛から成る第１及び第２のＸ線遮蔽板８及び９が
光軸に沿つて配置されている。しかしながら該開
口６及び７を通つて絞り板５から発生したＸ線が
漏洩して試料３上に到達する。その結果試料３か
らは試料の電子線照射点以外の部分からも漏洩Ｘ
線の入射によつて特性Ｘ線が発生し、該Ｘ線が試
料の電子線照射点から発生したＸ線と共にＸ線検
出器に入射するため、試料３の微小部の精密なＸ
線分析が困難となる。
り、電子線EBは第１の収束レンズ１及び第２の
収束レンズ２によつて試料３上に細く収束され
る。該試料３への電子線照射によつて発生したＸ
線はＸ線検出器４によつて検出される。ここで第
２の収束レンズ２内には例えばモリブデンから成
る電子線絞り板５が設けられているが、該絞り板
５への電子線の照射によつて該絞り板からＸ線が
発生する。該Ｘ線の試料３への照射を防止するた
めの各々電子線通過口６及び７が穿たれた例えば
鉛から成る第１及び第２のＸ線遮蔽板８及び９が
光軸に沿つて配置されている。しかしながら該開
口６及び７を通つて絞り板５から発生したＸ線が
漏洩して試料３上に到達する。その結果試料３か
らは試料の電子線照射点以外の部分からも漏洩Ｘ
線の入射によつて特性Ｘ線が発生し、該Ｘ線が試
料の電子線照射点から発生したＸ線と共にＸ線検
出器に入射するため、試料３の微小部の精密なＸ
線分析が困難となる。
本考案は上述した従来の欠点に鑑みてなされた
もので、収束レンズと試料との間に電子線を一旦
光軸から外すための第１、第２、第３の電子線偏
向手段を設け、該第１と第２の電子線偏向手段の
各々の近傍に電子線通過開口を有した第１と第２
のＸ線遮蔽板を配置するようにしており、試料へ
のＸ線の入射を防止し得、精密な試料のＸ線分析
が可能なＸ線分析装置を提供する。
もので、収束レンズと試料との間に電子線を一旦
光軸から外すための第１、第２、第３の電子線偏
向手段を設け、該第１と第２の電子線偏向手段の
各々の近傍に電子線通過開口を有した第１と第２
のＸ線遮蔽板を配置するようにしており、試料へ
のＸ線の入射を防止し得、精密な試料のＸ線分析
が可能なＸ線分析装置を提供する。
以下第２図に基づき本考案の一実施例を詳述す
る。
る。
第２図において第１図と同一構成要素に対して
は同一番号を附し、その詳細な説明を省略する。
図中第２の収束レンズ５と試料３との間には光軸
に沿つて第１、第２、第３の電子線偏向コイル１
０，１１，１２が配置されており、第２の収束レ
ンズ５の絞り板２を通過した電子線は第１の偏向
コイル１０によつて光軸から外され、第２の偏向
コイル１１によつて第１の偏向コイルによる偏向
方向と逆方向に偏向され、第３の偏向コイル１２
によつて再び光軸に沿つて進行される。該第１、
第２、第３の偏向コイル１０，１１，１２の夫々
の近傍には、各々電子線通過開口１３，１４，１
５が設けられた第１、第２、第３のＸ線遮蔽板１
６，１７，１８が配置されている。
は同一番号を附し、その詳細な説明を省略する。
図中第２の収束レンズ５と試料３との間には光軸
に沿つて第１、第２、第３の電子線偏向コイル１
０，１１，１２が配置されており、第２の収束レ
ンズ５の絞り板２を通過した電子線は第１の偏向
コイル１０によつて光軸から外され、第２の偏向
コイル１１によつて第１の偏向コイルによる偏向
方向と逆方向に偏向され、第３の偏向コイル１２
によつて再び光軸に沿つて進行される。該第１、
第２、第３の偏向コイル１０，１１，１２の夫々
の近傍には、各々電子線通過開口１３，１４，１
５が設けられた第１、第２、第３のＸ線遮蔽板１
６，１７，１８が配置されている。
上述した如き構成において、電子線絞り板５へ
の電子線照射によつて発生したＸ線は第１のＸ線
遮蔽板１６によつて大部分吸収されるが遮蔽板１
６の開口１３からＸ線が漏洩する。該開口１３か
らの漏洩Ｘ線は光軸から外れた位置に電子線通過
開口１４が設けられた第２のＸ線遮蔽板１７によ
つてその大部分が吸収される。該開口１４からは
ほとんどＸ線は漏洩しないが、僅かに漏洩Ｘ線が
存在しても、光軸に電子線通過開口１５を有した
第３のＸ線遮蔽板１８によつてそのＸ線は吸収さ
れ試料３への絞り板５から発生したＸ線の入射を
完全に防止することができる。従つてＸ線検出器
４には試料３上の電子線照射点から発生したＸ線
のみが入射し、精密な微小部のＸ線分析を行い得
る。
の電子線照射によつて発生したＸ線は第１のＸ線
遮蔽板１６によつて大部分吸収されるが遮蔽板１
６の開口１３からＸ線が漏洩する。該開口１３か
らの漏洩Ｘ線は光軸から外れた位置に電子線通過
開口１４が設けられた第２のＸ線遮蔽板１７によ
つてその大部分が吸収される。該開口１４からは
ほとんどＸ線は漏洩しないが、僅かに漏洩Ｘ線が
存在しても、光軸に電子線通過開口１５を有した
第３のＸ線遮蔽板１８によつてそのＸ線は吸収さ
れ試料３への絞り板５から発生したＸ線の入射を
完全に防止することができる。従つてＸ線検出器
４には試料３上の電子線照射点から発生したＸ線
のみが入射し、精密な微小部のＸ線分析を行い得
る。
以上本考案を詳述したが、本考案は上述した実
施例に限定されることなく幾多の変形が可能であ
る。例えば第３のＸ線遮蔽板１８は必ずしも必要
ではなく、該遮蔽板１８は設けなくても、第１及
び第２のＸ線遮蔽板１６及び１７によつて所期の
目的を達成することができる。
施例に限定されることなく幾多の変形が可能であ
る。例えば第３のＸ線遮蔽板１８は必ずしも必要
ではなく、該遮蔽板１８は設けなくても、第１及
び第２のＸ線遮蔽板１６及び１７によつて所期の
目的を達成することができる。
第１図は従来のＸ線分析装置の一例を示す図、
第２図は本考案の一実施例を示す図である。 １，２：収束レンズ、３：試料、４：Ｘ線検出
器、５：電子線絞り板、８，９，１６，１７，１
８：Ｘ線遮蔽板、１０，１１，１２：電子線偏向
コイル。
第２図は本考案の一実施例を示す図である。 １，２：収束レンズ、３：試料、４：Ｘ線検出
器、５：電子線絞り板、８，９，１６，１７，１
８：Ｘ線遮蔽板、１０，１１，１２：電子線偏向
コイル。
Claims (1)
- 収束レンズによつて試料上に電子線を細く収束
し該試料から発生したＸ線を検出するようにした
Ｘ線分析装置において、該収束レンズと試料との
間に電子線を一旦光軸から外すための第１、第
２、第３の電子線偏向手段を設け、該第１と第２
の電子線偏向手段の各々の近傍に電子線通過開口
を有した第１と第２のＸ線遮蔽板を配置して成る
Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980039724U JPS6324616Y2 (ja) | 1980-03-26 | 1980-03-26 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1980039724U JPS6324616Y2 (ja) | 1980-03-26 | 1980-03-26 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56142455U JPS56142455U (ja) | 1981-10-27 |
| JPS6324616Y2 true JPS6324616Y2 (ja) | 1988-07-06 |
Family
ID=29635167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1980039724U Expired JPS6324616Y2 (ja) | 1980-03-26 | 1980-03-26 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6324616Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5072081B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-11-14 | 株式会社リコー | 感光体静電潜像の測定装置、画像形成装置及び感光体静電潜像の測定方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5271354A (en) * | 1975-12-11 | 1977-06-14 | Nippon Electric Co | Electron beam welding machine |
-
1980
- 1980-03-26 JP JP1980039724U patent/JPS6324616Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5271354A (en) * | 1975-12-11 | 1977-06-14 | Nippon Electric Co | Electron beam welding machine |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56142455U (ja) | 1981-10-27 |
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