JPS6324327B2 - - Google Patents
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- JPS6324327B2 JPS6324327B2 JP557680A JP557680A JPS6324327B2 JP S6324327 B2 JPS6324327 B2 JP S6324327B2 JP 557680 A JP557680 A JP 557680A JP 557680 A JP557680 A JP 557680A JP S6324327 B2 JPS6324327 B2 JP S6324327B2
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 53
- 230000005669 field effect Effects 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- 230000003044 adaptive effect Effects 0.000 description 3
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H15/00—Transversal filters
- H03H15/02—Transversal filters using analogue shift registers
Landscapes
- Filters That Use Time-Delay Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電荷転送型トランスバーサルフイルタ
に関する。さらに詳しくは多数の転送段を有する
電荷転送素子(Charge Transfer Device、以下
CTDという)の転送段中に信号電荷を非破壊的
に検出する浮遊電極(フローテイングゲート)や
浮遊拡散層等の検出手段、そして検出手段毎に設
けた電界効果トランジスタ(以下FETという)
で構成されたアナログ信号の乗算器(あるいは乗
算回路)、該乗算器の乗算結果を加算する加算器
(あるいは加算回路)、加算結果を一時記憶・保持
する記憶(メモリ)回路、メモリ回路の出力と加
算器の出力の差を得る減算器(あるいは減算回
路)で構成される電荷転送型(以下CTDという)
トランスバーサルフイルタおよび駆動方法に関す
るものである。
に関する。さらに詳しくは多数の転送段を有する
電荷転送素子(Charge Transfer Device、以下
CTDという)の転送段中に信号電荷を非破壊的
に検出する浮遊電極(フローテイングゲート)や
浮遊拡散層等の検出手段、そして検出手段毎に設
けた電界効果トランジスタ(以下FETという)
で構成されたアナログ信号の乗算器(あるいは乗
算回路)、該乗算器の乗算結果を加算する加算器
(あるいは加算回路)、加算結果を一時記憶・保持
する記憶(メモリ)回路、メモリ回路の出力と加
算器の出力の差を得る減算器(あるいは減算回
路)で構成される電荷転送型(以下CTDという)
トランスバーサルフイルタおよび駆動方法に関す
るものである。
この種のフイルタは任意の重み係数を外部より
制御することが可能であるから、重み係数を変更
することにより、1個の該CTDトランスバーサ
ルフイルタで、適宜多数の異る周波数特性を持つ
フイルタを構成することができる。即ち、重み係
数を外部より設定し、一定期間中だけ半固定にす
るプログラマブルフイルタや、入力信号の状態に
応じて重み係数を随時、自動的に計算し、設定す
るアダプテイブフイルタ等、広い分野に応用する
ことができる。ところが、従来のCTDトランス
バーサルフイルタは、電荷の非破壊検出手段と乗
算器で構成されるタツプ回路が複雑で集積化が困
難な上、消費電力が多大であるなどの欠点があつ
た。さらにアナログ入力信号とアナログ値の重み
係数の乗算には2個のMOS型FET(以下
MOSFETと言う)で構成された乗算器が用いら
れていたため、該2個のMOSFETのサイズ、即
ち、ゲート幅Wに対するゲート長L(W/L)や
特性の差に起因して、真のアナログ乗算機能を満
足することができなかつた。従つて、ダイナミツ
クレンジが広い高性能なプログラマブルあるいは
アダプテイブフイルタの実現が困難であつた。
制御することが可能であるから、重み係数を変更
することにより、1個の該CTDトランスバーサ
ルフイルタで、適宜多数の異る周波数特性を持つ
フイルタを構成することができる。即ち、重み係
数を外部より設定し、一定期間中だけ半固定にす
るプログラマブルフイルタや、入力信号の状態に
応じて重み係数を随時、自動的に計算し、設定す
るアダプテイブフイルタ等、広い分野に応用する
ことができる。ところが、従来のCTDトランス
バーサルフイルタは、電荷の非破壊検出手段と乗
算器で構成されるタツプ回路が複雑で集積化が困
難な上、消費電力が多大であるなどの欠点があつ
た。さらにアナログ入力信号とアナログ値の重み
係数の乗算には2個のMOS型FET(以下
MOSFETと言う)で構成された乗算器が用いら
れていたため、該2個のMOSFETのサイズ、即
ち、ゲート幅Wに対するゲート長L(W/L)や
特性の差に起因して、真のアナログ乗算機能を満
足することができなかつた。従つて、ダイナミツ
クレンジが広い高性能なプログラマブルあるいは
アダプテイブフイルタの実現が困難であつた。
第1図は従来のCTDフイルタの構成を示した
ものである。1は、一例として、電荷結合素子
(Charge−Coupled Device以下、CCDと言う)
を用いた遅延線の電荷転送段を示している。な
お、CCDの入力部等は省略されている。
ものである。1は、一例として、電荷結合素子
(Charge−Coupled Device以下、CCDと言う)
を用いた遅延線の電荷転送段を示している。な
お、CCDの入力部等は省略されている。
ここでは一例として、一転送段が転送電極2,
3および信号電荷を非破壊的に検出する手段とし
て用いた検出電極4から成る3相構造を示してい
る。さらに該検出手段である検出電極は各転送手
段毎に設けてある。転送電極2,3はそれぞれ配
線2A,3Aより供給される電圧パルスにより駆
動される。検出電極4の電位は信号検出時にはフ
ロート状態となるように設定されるので、通常浮
遊電極を呼ばれている。電極4の出力信号はタツ
プ回路5に印加される。該タツプ回路5は以下に
述べるように、ソースホロア等のバツフア回路
9,10、リセツト素子6、乗算器11,12よ
り構成されている。MOSFET等のスイツチ6は
配線7に印加されるパルスにより周期的に開閉
し、検出電極4の電位を配線8に印加された直流
電位に設定し、次に浮遊(フロート)状態にす
る。MOSFET9,10で構成されるソースホロ
アは検出電極4と乗算器11,12との間に設け
るバツフア回路であり、その入力端子は検出電極
4と接続している。11,12はMOSFETで2
個のアナログ信号の乗算器を構成し、両
MOSFETのドレイン(あるいはソース)は共に
ソースホロアの出力端子10Aに接続される。
MOSFET11のゲートは配線13に接続され、
直流電位が供給される。一方、MOSFET12の
ゲートは端子14より重み係数等のアナログ信号
が供給される。MOSFET11と12のソース
(あるいはドレイン)はそれぞれ配線15と16
を介し、それぞれ演算増幅器17と18の非反転
入力端子に結ばれる。演算増幅器17,18の反
転入力端子は端子21と結ばれ、直流電位が供給
される。さらに抵抗19および20は、それぞれ
対応する演算増幅器17および18と共に加算回
路を形成し、該加算回路は配線15あるいは16
に流れる電流を電圧に変換する、即ち、電流−電
圧変換器を構成する。両演算増幅器17,18の
出力端子は減算器22に接続され、その減算結
果、即ち、CTDフイルタの出力信号は端子23
より得ることができる。
3および信号電荷を非破壊的に検出する手段とし
て用いた検出電極4から成る3相構造を示してい
る。さらに該検出手段である検出電極は各転送手
段毎に設けてある。転送電極2,3はそれぞれ配
線2A,3Aより供給される電圧パルスにより駆
動される。検出電極4の電位は信号検出時にはフ
ロート状態となるように設定されるので、通常浮
遊電極を呼ばれている。電極4の出力信号はタツ
プ回路5に印加される。該タツプ回路5は以下に
述べるように、ソースホロア等のバツフア回路
9,10、リセツト素子6、乗算器11,12よ
り構成されている。MOSFET等のスイツチ6は
配線7に印加されるパルスにより周期的に開閉
し、検出電極4の電位を配線8に印加された直流
電位に設定し、次に浮遊(フロート)状態にす
る。MOSFET9,10で構成されるソースホロ
アは検出電極4と乗算器11,12との間に設け
るバツフア回路であり、その入力端子は検出電極
4と接続している。11,12はMOSFETで2
個のアナログ信号の乗算器を構成し、両
MOSFETのドレイン(あるいはソース)は共に
ソースホロアの出力端子10Aに接続される。
MOSFET11のゲートは配線13に接続され、
直流電位が供給される。一方、MOSFET12の
ゲートは端子14より重み係数等のアナログ信号
が供給される。MOSFET11と12のソース
(あるいはドレイン)はそれぞれ配線15と16
を介し、それぞれ演算増幅器17と18の非反転
入力端子に結ばれる。演算増幅器17,18の反
転入力端子は端子21と結ばれ、直流電位が供給
される。さらに抵抗19および20は、それぞれ
対応する演算増幅器17および18と共に加算回
路を形成し、該加算回路は配線15あるいは16
に流れる電流を電圧に変換する、即ち、電流−電
圧変換器を構成する。両演算増幅器17,18の
出力端子は減算器22に接続され、その減算結
果、即ち、CTDフイルタの出力信号は端子23
より得ることができる。
次に第1図の動作を説明する。信号電荷が各転
送段の電極3直下から検出電極4直下に転送され
る直前に、配線7に印加されたパルスにより、ス
イツチ6が閉じると、検出電極4は配線8に印加
された直流電位にセツトされる。次に転送電極3
直下に蓄積された電荷は電極3に印加されたパル
スが低いレベルに戻ると検出電極4直下に転送さ
れ、ここで蓄積される。電荷は、蓄積期間中、電
極4により非破壊的に検出される。次に電極2へ
印加されたパルスが高レベルとなると、検出電極
4直下の信号電荷は転送電極2直下へ転送され
る。以下同様に配線2A,3A,7に印加された
周期的なパルスにより信号電荷はCCD1の内部
を右方向へ順次転送されて行く。検出電極4直下
の蓄積電荷がバイアス電荷のみのとき、即ち、入
力信号が零のとき、検出電極4の電位がVd/G
であつたとする。一方、入力信号が検出されたと
き、電極4の電位が(Va+Vik)/Gとなつたと
する。ここでVdは直流成分、vikは正、負の信号
を含む信号成分で、サツフイツクスkはCTDフ
イルタのタツプ番号(k=1、N)、Gはソース
ホロア9,10のゲインである。従つてソースホ
ロアの出力端子10Aの電位はVdあるいはVd+
vikとなる。今、配線13に直流電位Vg、端子1
4にVg+Vgk、端子21にVdを印加する。但し
これらの電位はMOSFET11,12が3極領域
で動作する範囲内に設定されているとする。なお
Vgkは正、負の符号を含む重み係数等に対応する
アナログ信号である。vikが正で、Vg>Vdのと
き、端子10Aから抵抗19あるいは20へ向つ
て、MOSFET12,11に流れる電流をI1k,I2k
とする。
送段の電極3直下から検出電極4直下に転送され
る直前に、配線7に印加されたパルスにより、ス
イツチ6が閉じると、検出電極4は配線8に印加
された直流電位にセツトされる。次に転送電極3
直下に蓄積された電荷は電極3に印加されたパル
スが低いレベルに戻ると検出電極4直下に転送さ
れ、ここで蓄積される。電荷は、蓄積期間中、電
極4により非破壊的に検出される。次に電極2へ
印加されたパルスが高レベルとなると、検出電極
4直下の信号電荷は転送電極2直下へ転送され
る。以下同様に配線2A,3A,7に印加された
周期的なパルスにより信号電荷はCCD1の内部
を右方向へ順次転送されて行く。検出電極4直下
の蓄積電荷がバイアス電荷のみのとき、即ち、入
力信号が零のとき、検出電極4の電位がVd/G
であつたとする。一方、入力信号が検出されたと
き、電極4の電位が(Va+Vik)/Gとなつたと
する。ここでVdは直流成分、vikは正、負の信号
を含む信号成分で、サツフイツクスkはCTDフ
イルタのタツプ番号(k=1、N)、Gはソース
ホロア9,10のゲインである。従つてソースホ
ロアの出力端子10Aの電位はVdあるいはVd+
vikとなる。今、配線13に直流電位Vg、端子1
4にVg+Vgk、端子21にVdを印加する。但し
これらの電位はMOSFET11,12が3極領域
で動作する範囲内に設定されているとする。なお
Vgkは正、負の符号を含む重み係数等に対応する
アナログ信号である。vikが正で、Vg>Vdのと
き、端子10Aから抵抗19あるいは20へ向つ
て、MOSFET12,11に流れる電流をI1k,I2k
とする。
MOSFETの3極管領域でのドレイン電流I
は、柳井久義と永田穣共著の集積回路工学(2)回路
技術編(コロナ社)の頁99の(11.4)式 ID=β{(VGS−VT)VDS−VDS 2/2} で与えられる。ここでβはMOSFETの特性で決
まる定義、VGSはゲートとソース間の電圧、VDS
はドレインとソース間の電圧、VTは閾値電圧で
ある。従つて、MOSFET12のゲート電位およ
びソース電位はそれぞれ(Vg+vgk)および端子
21の電位Vdであるから、該MOSFET12のゲ
ートとソース間の電位は(Vg+vgk−Vd)とな
る。同様に該MOSFET12のドレイン電位は
(Vd+vik)であるから、該MOSFET12のドレ
インとソース間の電位はvikとなる。従つて、3
極管領域で、該MOSFET12に流れるドレイン
電流I1kは I1k=β1{Vg+vgk−Vd−VT1)vik−vik 2/2} (1) で与えられる。ここでβ1は主としてMOSFET1
2の特性により定まる定数、VT1はMOSFET1
2の閾値電圧である。MOSFET11に流れるド
レイン電流I2kも同様に与えられる。MOSFET1
1のゲートとソース間電位は(Vg−Vd)、ドレイ
ンとソース間の電位はvikであるから、I2kは I2k=β2{(Vg−Vd−VT2)vik−vik 2/2} (2) で与えられる。ここでβ2は主としてMOSFET1
1の特性により定まる定数、VT2はMOSFET1
1の閾値電圧である。今、抵抗19,20の抵抗
値を1Ωとすれば演算増幅器18,17の出力電
圧v1およびv2はそれぞれ v1=Vd−N 〓k=1 I1k (3) v2=Vd−N 〓k=1 I2k (4) となる。従つて、差動増幅器のゲインを1とすれ
ば、端子23より得られる信号電圧v0はv1−v2と
なる。即ち、 v0=N 〓k=1 {β1vikVgk−vik(β1VT1−β2VT2) +vik(Vg−Vd)(β1−β2)+vik 2(β1−β2)/
2}
(5) となる。今、MOSFET12と11のサイズ
(W/L)が全く等しく、即ち、β1=β2で、閾値
電圧も全く等しいとすれば(VT1=VT2)、上式は v0=β1N 〓k=1 vikVgk (6) となり畳み込み演算機能を満足し、CTDフイル
タがトランスバーサルフイルタ機能を満たすこと
がわかる。
は、柳井久義と永田穣共著の集積回路工学(2)回路
技術編(コロナ社)の頁99の(11.4)式 ID=β{(VGS−VT)VDS−VDS 2/2} で与えられる。ここでβはMOSFETの特性で決
まる定義、VGSはゲートとソース間の電圧、VDS
はドレインとソース間の電圧、VTは閾値電圧で
ある。従つて、MOSFET12のゲート電位およ
びソース電位はそれぞれ(Vg+vgk)および端子
21の電位Vdであるから、該MOSFET12のゲ
ートとソース間の電位は(Vg+vgk−Vd)とな
る。同様に該MOSFET12のドレイン電位は
(Vd+vik)であるから、該MOSFET12のドレ
インとソース間の電位はvikとなる。従つて、3
極管領域で、該MOSFET12に流れるドレイン
電流I1kは I1k=β1{Vg+vgk−Vd−VT1)vik−vik 2/2} (1) で与えられる。ここでβ1は主としてMOSFET1
2の特性により定まる定数、VT1はMOSFET1
2の閾値電圧である。MOSFET11に流れるド
レイン電流I2kも同様に与えられる。MOSFET1
1のゲートとソース間電位は(Vg−Vd)、ドレイ
ンとソース間の電位はvikであるから、I2kは I2k=β2{(Vg−Vd−VT2)vik−vik 2/2} (2) で与えられる。ここでβ2は主としてMOSFET1
1の特性により定まる定数、VT2はMOSFET1
1の閾値電圧である。今、抵抗19,20の抵抗
値を1Ωとすれば演算増幅器18,17の出力電
圧v1およびv2はそれぞれ v1=Vd−N 〓k=1 I1k (3) v2=Vd−N 〓k=1 I2k (4) となる。従つて、差動増幅器のゲインを1とすれ
ば、端子23より得られる信号電圧v0はv1−v2と
なる。即ち、 v0=N 〓k=1 {β1vikVgk−vik(β1VT1−β2VT2) +vik(Vg−Vd)(β1−β2)+vik 2(β1−β2)/
2}
(5) となる。今、MOSFET12と11のサイズ
(W/L)が全く等しく、即ち、β1=β2で、閾値
電圧も全く等しいとすれば(VT1=VT2)、上式は v0=β1N 〓k=1 vikVgk (6) となり畳み込み演算機能を満足し、CTDフイル
タがトランスバーサルフイルタ機能を満たすこと
がわかる。
vikが負の値のときも同様な結果が得られる。
以上、従来のCTDフイルタの構成と駆動方法
を説明した。従来のCTDフイルタのタツプ回路
5は2個のMOSFET9,10で構成されたバツ
フア用ソースホロアとやはり2個のMOSFET1
1,12で構成されたアナログ信号乗算器で構成
されていた。信号検出電極4の出力信号をより正
しく乗算回路の入力端子10Aに伝達するために
はソースホロアの電流供給能力を十分大きくする
とともに出力インピーダンスを小さくする必要が
あつた。このためMOSFET9,10のサイズ
(W/L)を非常に大きく設定する必要があり、
集積化には好ましくなかつた。さらに電流供給能
力が大きいため多大な電力を消費した。
を説明した。従来のCTDフイルタのタツプ回路
5は2個のMOSFET9,10で構成されたバツ
フア用ソースホロアとやはり2個のMOSFET1
1,12で構成されたアナログ信号乗算器で構成
されていた。信号検出電極4の出力信号をより正
しく乗算回路の入力端子10Aに伝達するために
はソースホロアの電流供給能力を十分大きくする
とともに出力インピーダンスを小さくする必要が
あつた。このためMOSFET9,10のサイズ
(W/L)を非常に大きく設定する必要があり、
集積化には好ましくなかつた。さらに電流供給能
力が大きいため多大な電力を消費した。
このため多数のタツプを必要とするフイルタを
構成することはほとんど不可能であつた。さらに
ソースホロアの歪特性は悪く、フイルタのダイナ
ミツクレンジを低下させた。さらにMOSFET1
2のβ1とMOSFET11のβ2あるいはMOSFET1
2のVT1とMOSFET11のVT2を互いに全く等し
くすることはほとんど不可能であるから、CTD
フイルタの出力信号は(6)式で示した真の乗算結果
が得られず、(5)式のようになり、非線形項が付加
された。
構成することはほとんど不可能であつた。さらに
ソースホロアの歪特性は悪く、フイルタのダイナ
ミツクレンジを低下させた。さらにMOSFET1
2のβ1とMOSFET11のβ2あるいはMOSFET1
2のVT1とMOSFET11のVT2を互いに全く等し
くすることはほとんど不可能であるから、CTD
フイルタの出力信号は(6)式で示した真の乗算結果
が得られず、(5)式のようになり、非線形項が付加
された。
この結果、トランスバーサルフイルタの基本式
「畳み込み」演算式を満足せず、誤差や歪を大き
くする等の欠点を生じ、実際には性能の高い
CTDフイルタを実現することはほとんど不可能
であつた。
「畳み込み」演算式を満足せず、誤差や歪を大き
くする等の欠点を生じ、実際には性能の高い
CTDフイルタを実現することはほとんど不可能
であつた。
本発明は従来のCTDフイルタの欠点を除去す
ることにより、高性能のCTDトランスバーサル
フイルタを提供するものであり、さらに本発明は
従来のCTDフイルタのタツプ回路を大幅に簡略
化し、プログラマブルフイルタやアダプテイブフ
イルタの実現を可能にするものである。即ち、従
来のCTDフイルタのタツプ回路を複雑にしてい
たソースホロアバツフア回路を除去すると共に、
アナログ信号乗算器の2個のMOSFETのうち1
個を削除した。その結果消費電力の低減や真のア
ナログ乗算を実現なさしめ、さらに集積化を容易
にさせた。
ることにより、高性能のCTDトランスバーサル
フイルタを提供するものであり、さらに本発明は
従来のCTDフイルタのタツプ回路を大幅に簡略
化し、プログラマブルフイルタやアダプテイブフ
イルタの実現を可能にするものである。即ち、従
来のCTDフイルタのタツプ回路を複雑にしてい
たソースホロアバツフア回路を除去すると共に、
アナログ信号乗算器の2個のMOSFETのうち1
個を削除した。その結果消費電力の低減や真のア
ナログ乗算を実現なさしめ、さらに集積化を容易
にさせた。
第2図は本発明のCTDトランスバーサルフイ
ルタの具体的な構成を示す一例である。第3図は
第2図のCTDフイルタを駆動するための基本的
なパルス波形列の一例と、タツプ出力波形の一例
を示したものである。
ルタの具体的な構成を示す一例である。第3図は
第2図のCTDフイルタを駆動するための基本的
なパルス波形列の一例と、タツプ出力波形の一例
を示したものである。
第2図において、31は信号の遅延段を示し、
ここでも一例としてCCDを用いている。例えば、
CCD31は転送電極32,33、電荷検出手段
としての信号検出電極34から成る転送段と転送
電極232,233,235から成る転送段が交
互に配列されたものとする。ここでも一例とし
て、3相構造を用いている。転送電極32,23
2,332,432および33,233,33
3,433はそれぞれ共通配線32Aおよび33
Aより周期的にオンオフし、第3図に示した、パ
ルス70,71がそれぞれ印加される。同様に電
極35,235,435は共通配線35Aより直
流電位VFが印加される。MOSFET40はリセツ
トスイツチで、MOSFET40のゲートは共通配
線40Aより、やはり周期的にオンオフするパル
ス72が印加されることにより、該MOSFET4
0を開閉し、検出電極34,334を周期的に共
通配線35Aに印加された直流電位VFにセツト
する。41はMOSFETで、2個の異なるアナロ
グ信号を乗算する機能がある。MOSFET41の
ゲートは該検出電極34に接続され、そのソース
(あるいはドレイン)端は共通配線41Aに接続
されている。一方、ドレイン(あるいはソース)
端は重み係数に対応するアナログ信号v′dkを印加
する端子43に接続される。36はCCDの入力
部で入力電圧信号をサンプリングし、電荷に変換
する。37,38はスイツチで、それぞれ端子3
7A,38Aに印加される信号を交互にCCDの
入力部36へ印加する。50は演算増幅器51、
抵抗52より構成される加算回路である。該演算
増幅器51の反転入力端子は共通配線41Aを介
し、各タツプ回路42および42Aの乗算回路、
即ち、MOSFET41のソース(あるいはドレイ
ン)端に接続され、非反転入力端子は端子53よ
り直流電位V′dが印加される。加算回路50の出
力端子は、一方のスイツチ54を介し、サンプル
ホールルド回路等のアナログ記憶回路55と、他
方のスイツチ56を介し、他方の記憶回路57と
それぞれ結合している。該記憶回路55,57の
出力端子は減算器58に接続される。なお、後述
するように、前記記憶回路55,57のうち、一
方を削除してもかまわない。
ここでも一例としてCCDを用いている。例えば、
CCD31は転送電極32,33、電荷検出手段
としての信号検出電極34から成る転送段と転送
電極232,233,235から成る転送段が交
互に配列されたものとする。ここでも一例とし
て、3相構造を用いている。転送電極32,23
2,332,432および33,233,33
3,433はそれぞれ共通配線32Aおよび33
Aより周期的にオンオフし、第3図に示した、パ
ルス70,71がそれぞれ印加される。同様に電
極35,235,435は共通配線35Aより直
流電位VFが印加される。MOSFET40はリセツ
トスイツチで、MOSFET40のゲートは共通配
線40Aより、やはり周期的にオンオフするパル
ス72が印加されることにより、該MOSFET4
0を開閉し、検出電極34,334を周期的に共
通配線35Aに印加された直流電位VFにセツト
する。41はMOSFETで、2個の異なるアナロ
グ信号を乗算する機能がある。MOSFET41の
ゲートは該検出電極34に接続され、そのソース
(あるいはドレイン)端は共通配線41Aに接続
されている。一方、ドレイン(あるいはソース)
端は重み係数に対応するアナログ信号v′dkを印加
する端子43に接続される。36はCCDの入力
部で入力電圧信号をサンプリングし、電荷に変換
する。37,38はスイツチで、それぞれ端子3
7A,38Aに印加される信号を交互にCCDの
入力部36へ印加する。50は演算増幅器51、
抵抗52より構成される加算回路である。該演算
増幅器51の反転入力端子は共通配線41Aを介
し、各タツプ回路42および42Aの乗算回路、
即ち、MOSFET41のソース(あるいはドレイ
ン)端に接続され、非反転入力端子は端子53よ
り直流電位V′dが印加される。加算回路50の出
力端子は、一方のスイツチ54を介し、サンプル
ホールルド回路等のアナログ記憶回路55と、他
方のスイツチ56を介し、他方の記憶回路57と
それぞれ結合している。該記憶回路55,57の
出力端子は減算器58に接続される。なお、後述
するように、前記記憶回路55,57のうち、一
方を削除してもかまわない。
次に第2図に示した一実施例について第3図に
示した駆動パルスのタイミングを参照して動作を
説明する。CTDフイルタの入力端子37A,3
8Aにそれぞれ直流電位V″g、該直流電位V″gに
重畳した入力信号V′iを印加する。スイツチ37,
38は共にクロツクパルス70,71,72の2
周期で1回閉じ、さらに該スイツチ37,38は
互いに交互に開閉させ、直流電位V″gおよび信号
V″g+V′iを交互に該CCDの入力36へ印加させ
る。こうすることにより、該直流電位V″gおよび
信号V″g+V′iにそれぞれ対応した電荷Qgおよび
QiがCCDの転送段31の各転送段に交互に存在
する。今、第k番目のタツプ回路42および対応
するCTD31の転送段に注目する。今パルス7
1が高レベルとなる期間80で、転送電極33直
下に直流電位V″gに対応した電荷Qgが蓄積され
ているとする。このときパルス72も高レベルで
あるから、スイツチ40が閉じて、検出電極34
の電位は73で示すように共通配線35Aより印
加された直流電位VFに設定される。ここで前記
VFのレベルは、パルス71の高レベルの値より
十分低い値を持つとすれば、電極33直下の電荷
Qgは検出電極34直下へ転送されることはない。
次の期間81ではパルス72が低レベルに戻るか
ら、スイツチ40は閉じて、該検出電極34の電
位はVFで、フロート状態となる。ところが電極
33への印加パルス71も低レベルに戻るため、
該電極33直下の電荷Qgは検出電極34直下へ
全部転送される。従つて、フロート状態にある検
出電極34の電位は73に示すように変位する。
即ち、検出電極34と該検出電極34直下の半導
体基板内に蓄積された電荷Qgとの間の絶縁膜容
量を介して、フロート状態の該電極34の電位は
VFよりV′gへ変化する。変化分(VF−V′g)は検
出電極34直下に蓄積されたV″gに対応する電荷
Qgに比例する。
示した駆動パルスのタイミングを参照して動作を
説明する。CTDフイルタの入力端子37A,3
8Aにそれぞれ直流電位V″g、該直流電位V″gに
重畳した入力信号V′iを印加する。スイツチ37,
38は共にクロツクパルス70,71,72の2
周期で1回閉じ、さらに該スイツチ37,38は
互いに交互に開閉させ、直流電位V″gおよび信号
V″g+V′iを交互に該CCDの入力36へ印加させ
る。こうすることにより、該直流電位V″gおよび
信号V″g+V′iにそれぞれ対応した電荷Qgおよび
QiがCCDの転送段31の各転送段に交互に存在
する。今、第k番目のタツプ回路42および対応
するCTD31の転送段に注目する。今パルス7
1が高レベルとなる期間80で、転送電極33直
下に直流電位V″gに対応した電荷Qgが蓄積され
ているとする。このときパルス72も高レベルで
あるから、スイツチ40が閉じて、検出電極34
の電位は73で示すように共通配線35Aより印
加された直流電位VFに設定される。ここで前記
VFのレベルは、パルス71の高レベルの値より
十分低い値を持つとすれば、電極33直下の電荷
Qgは検出電極34直下へ転送されることはない。
次の期間81ではパルス72が低レベルに戻るか
ら、スイツチ40は閉じて、該検出電極34の電
位はVFで、フロート状態となる。ところが電極
33への印加パルス71も低レベルに戻るため、
該電極33直下の電荷Qgは検出電極34直下へ
全部転送される。従つて、フロート状態にある検
出電極34の電位は73に示すように変位する。
即ち、検出電極34と該検出電極34直下の半導
体基板内に蓄積された電荷Qgとの間の絶縁膜容
量を介して、フロート状態の該電極34の電位は
VFよりV′gへ変化する。変化分(VF−V′g)は検
出電極34直下に蓄積されたV″gに対応する電荷
Qgに比例する。
次の期間82でパルス70が高レベルとなる
と、電極34直下の直荷Qgは次段の電極232
直下へ転送されるから、該電極34の電位は73
の様に変化する。次に、期間83でパルス71も
高レベルとなり、パルス70が低レベルに戻るか
ら電荷Qgは転送電極233直下に蓄積される。
同時にパルス72が高レベルとなり、電極34は
再び電位VFにセツトされる。
と、電極34直下の直荷Qgは次段の電極232
直下へ転送されるから、該電極34の電位は73
の様に変化する。次に、期間83でパルス71も
高レベルとなり、パルス70が低レベルに戻るか
ら電荷Qgは転送電極233直下に蓄積される。
同時にパルス72が高レベルとなり、電極34は
再び電位VFにセツトされる。
以上第k番目のタツプ回路42に注目してきた
が、期間81では、全ての検出電極34,334
直下に蓄積される電荷は、V″gに対応した値Qg
となることは明らかである。従つて、全ての検出
電極34,334の電位および全タツプ回路の
MOSFET41のゲート電位はV″gとなつている。
一方、端子43より印加される電位を直流電位
V′dに重畳したアナログ信号成分v′dk(k=1、
N)とし、端子53にV′dを印加する。但し、
V′g,V′d等はMOSFET41が3極管領域で動作
する範囲に設定されているものとする。
が、期間81では、全ての検出電極34,334
直下に蓄積される電荷は、V″gに対応した値Qg
となることは明らかである。従つて、全ての検出
電極34,334の電位および全タツプ回路の
MOSFET41のゲート電位はV″gとなつている。
一方、端子43より印加される電位を直流電位
V′dに重畳したアナログ信号成分v′dk(k=1、
N)とし、端子53にV′dを印加する。但し、
V′g,V′d等はMOSFET41が3極管領域で動作
する範囲に設定されているものとする。
今、v′dkを正の値とすれば、期間81で、端子
43から配線41Aへ向つてMOSFET41に流
れる、3極管領域での、ドレイン電流I1は、(1)式
と同様に、 β′N 〓k=1 {V′g−V′d−V′T)V′dk−(v′dk)2/2} (7) で与えられる。加算回路50の出力電圧v1は抵抗
52を1Ωとすれば、 v′1=V′d−I1 (8) となる。ここでβ′はMOSFET41のサイズ
(W/L)で決まる定数、V′TはMOSFET41の
閾値電圧である。該期間81でスイツチ54を閉
じて、スイツチ56を開いておけば、上記電圧
v′1は記憶回路55に保持される。
43から配線41Aへ向つてMOSFET41に流
れる、3極管領域での、ドレイン電流I1は、(1)式
と同様に、 β′N 〓k=1 {V′g−V′d−V′T)V′dk−(v′dk)2/2} (7) で与えられる。加算回路50の出力電圧v1は抵抗
52を1Ωとすれば、 v′1=V′d−I1 (8) となる。ここでβ′はMOSFET41のサイズ
(W/L)で決まる定数、V′TはMOSFET41の
閾値電圧である。該期間81でスイツチ54を閉
じて、スイツチ56を開いておけば、上記電圧
v′1は記憶回路55に保持される。
期間83では、前記V″gに対応した電荷Qgは
電極233直下に蓄積されている。また前述した
ように転送パルス70,71の一周期毎にそれぞ
れV″gおよびVi+V″gに対応した電荷Qgおよび
Qiが交互にCCDの入力部36を経由して、CCD
31に注入される。従つて、期間83ではVi+
V″gに対応した電荷Qiがタツプ回路42に対応す
る電極33直下に蓄積されることが明らかであ
る。次の期間84ではパルス71,72が低レベ
ルに戻るから、電荷Qgは直流電位VFが常時印加
されている電極235直下へ、電荷Qiは検出電
極34直下へそれぞれ注入される。従つて、前記
同様に、フロート状態にある検出電極34の電位
VFは電荷Qiに比例した電位の変化を受け73に
示すようにV′g+v′gkとなる。ここでv′gkは前記
入力信号Viに比例しているから、期間84では
検出電極34、従つてMOSFET41のゲート、
の電位はV′gを中心にv′gkだけ変動する。v′gkは正
負の符号を含んでいるので、第3図ではゲート電
位がV′gより高くなる場合も低くなる場合も
「V′g+v′gk」と示してある。期間85でパルス7
0が高レベルとなると、電荷Qiは転送電極23
2直下へ、電荷Qgは転送電極332直下へそれ
ぞれ転送される。以下同様にパルス70,71,
72が周期的に印加されることにより、検出電極
34,334の電位はVgに対応した電荷Qgによ
つて決まる電位VgとV″g+Vi′に対応した電荷Qi
によつて決まる電位V′g+v′gkに、それぞれ交互
に設定される。期間84でも端子43より印加さ
れる電位がV′d+v′dk(k=1、N)に設定されて
いれば、前記同様、端子43から配線41Aへ向
つてMOSFET41に流れる、3極管領域での、
ドレイン電流I2は(2)式と同様に、 I2=β′N 〓k=1 {(V′g+v′gk−V′d−VT)v′dk−(v′dk)2/
2} (9) で与えられるから、加算回路50の出力電圧v′2
は、抵抗52が1Ωとしたから v′2=V′d−I2 (10) となる。期間84でスイツチ56を開き、スイツ
チ54を閉じれば、出力電圧v′2は記憶回路57
に保持される。一方記憶回路55には前記v′1が
保持されているから、前記期間84では、減算器
58のゲインを1とすれば、端子59より得られ
る信号電圧voは減算器48のゲインを1とすれ
ば、(8)式と(10)式の差、即ち、 v′o=β′N 〓k=1 v′gk+v′dk (11) で与えられ、トランスバーサルフイルタの基本演
算式「畳み込み」を達成することができる。なお
全タツプ(k=1、N)におけるv′dkの値が負の
場合、あるいは各タツプ毎に負あるいは正の場合
も上記と同様な結果が得られることは明きらかで
ある。なおV′i,v′gkの他も正、負いずれの値で
あつてもかまわないことも明きらかである。また
この場合、記憶回路57を省いて、加算器50の
出力端子と減算器58の非反転入力端子をスイツ
チ54,56を介して接続することにより、前記
v′1とv′2の差が得られることも明きらかである。
さらに前記説明ではクロツクパルスの2周期にわ
たり、即ち期間81と84で端子43に加える電
位V′d+v′dkを一定に保持したが、一周期ずらし
て、周期84と87で該電圧V′d+v′dkを一定に
保持してもかまわない。この場合、加算回路の出
力v′2を記憶回路に保持するように考慮すれば、
前記同様記憶回路を1個省くことができる。
電極233直下に蓄積されている。また前述した
ように転送パルス70,71の一周期毎にそれぞ
れV″gおよびVi+V″gに対応した電荷Qgおよび
Qiが交互にCCDの入力部36を経由して、CCD
31に注入される。従つて、期間83ではVi+
V″gに対応した電荷Qiがタツプ回路42に対応す
る電極33直下に蓄積されることが明らかであ
る。次の期間84ではパルス71,72が低レベ
ルに戻るから、電荷Qgは直流電位VFが常時印加
されている電極235直下へ、電荷Qiは検出電
極34直下へそれぞれ注入される。従つて、前記
同様に、フロート状態にある検出電極34の電位
VFは電荷Qiに比例した電位の変化を受け73に
示すようにV′g+v′gkとなる。ここでv′gkは前記
入力信号Viに比例しているから、期間84では
検出電極34、従つてMOSFET41のゲート、
の電位はV′gを中心にv′gkだけ変動する。v′gkは正
負の符号を含んでいるので、第3図ではゲート電
位がV′gより高くなる場合も低くなる場合も
「V′g+v′gk」と示してある。期間85でパルス7
0が高レベルとなると、電荷Qiは転送電極23
2直下へ、電荷Qgは転送電極332直下へそれ
ぞれ転送される。以下同様にパルス70,71,
72が周期的に印加されることにより、検出電極
34,334の電位はVgに対応した電荷Qgによ
つて決まる電位VgとV″g+Vi′に対応した電荷Qi
によつて決まる電位V′g+v′gkに、それぞれ交互
に設定される。期間84でも端子43より印加さ
れる電位がV′d+v′dk(k=1、N)に設定されて
いれば、前記同様、端子43から配線41Aへ向
つてMOSFET41に流れる、3極管領域での、
ドレイン電流I2は(2)式と同様に、 I2=β′N 〓k=1 {(V′g+v′gk−V′d−VT)v′dk−(v′dk)2/
2} (9) で与えられるから、加算回路50の出力電圧v′2
は、抵抗52が1Ωとしたから v′2=V′d−I2 (10) となる。期間84でスイツチ56を開き、スイツ
チ54を閉じれば、出力電圧v′2は記憶回路57
に保持される。一方記憶回路55には前記v′1が
保持されているから、前記期間84では、減算器
58のゲインを1とすれば、端子59より得られ
る信号電圧voは減算器48のゲインを1とすれ
ば、(8)式と(10)式の差、即ち、 v′o=β′N 〓k=1 v′gk+v′dk (11) で与えられ、トランスバーサルフイルタの基本演
算式「畳み込み」を達成することができる。なお
全タツプ(k=1、N)におけるv′dkの値が負の
場合、あるいは各タツプ毎に負あるいは正の場合
も上記と同様な結果が得られることは明きらかで
ある。なおV′i,v′gkの他も正、負いずれの値で
あつてもかまわないことも明きらかである。また
この場合、記憶回路57を省いて、加算器50の
出力端子と減算器58の非反転入力端子をスイツ
チ54,56を介して接続することにより、前記
v′1とv′2の差が得られることも明きらかである。
さらに前記説明ではクロツクパルスの2周期にわ
たり、即ち期間81と84で端子43に加える電
位V′d+v′dkを一定に保持したが、一周期ずらし
て、周期84と87で該電圧V′d+v′dkを一定に
保持してもかまわない。この場合、加算回路の出
力v′2を記憶回路に保持するように考慮すれば、
前記同様記憶回路を1個省くことができる。
第4図は第2図に示した本発明のCTDトラン
スバーサルフイルタの入力部および転送段の一例
を詳細に示したものである。第5図は第4図を駆
動するためのパルスの一例を示している。以下で
は、第4、第5図を参照して、CTDトランスバ
ーサルフイルタの構造と駆動方法を詳細に説明す
る。第4図において、第2図と同一要素は同一番
号で示してある。102〜106,111〜11
4はpoly−SiあるいはAl等で構成される金属電
極で、図示していないが、半導体基板(例えば、
p形−Si)上に形成した、薄い絶縁層(例えば、
SiO2等)の上に配置されている。101は例え
ばn形不純物をドープした拡散層で、第5図に示
したパルス121(例えば、低レベル=1V、高
レベル10V)が印加される。電極102は直流電
位VL(例えば、2V)が印加される。電極103
には、前記直流電位V″g(例えば、5V)が印加さ
れ、電極105には前記V″g+V′iが印加される。
電極104,106へはそれぞれ第5図122,
123に示したパルス(例えば、低レベル=0V、
高レベル=9V)を印加する。同図から明きらか
なように、該パルスは転送パルス70,71の二
周期で1回高レベルとなり、電極104,106
が互いに交互に高レベルとなるように設定し、電
極103,105に注入された電荷が交互に転送
段に転送されるようになつている。即ち、電極1
04,106はそれぞれ第2図に示したスイツチ
37,38に対応している。電極111,112
はそれぞれ第1相、第2相の転送電極でパルス7
0,71(例えば高レベル=16V、低レベル=
0V)が印加される。113は第3相の電極で、
共通配線より直流電位VF(例えば8V)が印加さ
れる。信号検出電極114はMOSFET40がパ
ルス72(例えば低レベル=0V)高レベル10V)
が高レベルとなり、導通すると、前記直流電位
VFが印加され、該パルス72が低レベルとなり、
該MOSFET40が開状態となるとフロート状態
となる。今、第5図に示したタイミング130で
パルス121が低レベルとなり、(以下、オフす
ると言う)次に高レベルとなると(以下オンする
と言う)、電荷(本例では電子)が電極102直
下のバリアを越えて電極103,105直下の電
位の井戸へ注入される。電極103直下に注入さ
れた電荷量QgはV″g−VLに、電極105直下に
注入された電荷量QiはV″g+V′i−VLに、それぞ
れほぼ比例した値となる。次の時該131でパル
ス122,70がオンし、つづいてパルス122
がオフすると、電極103直下の該電荷Qgのみ
が、電極104直下のバリアを越えて、電極11
1直下の電位の井戸に転送され、蓄積される。次
に時刻132でパルス71がオンすると電極11
2直下にも電位の井戸が形成され、該電荷Qgの
一部は該電極112直下に転送される。時刻13
3でパルス70がオフすると電荷Qgは全部電極
112直下に蓄積され、次の時刻134でパルス
71がオフすると、該電荷Qgは電極113直下
に転送され、時刻136でパルス70がオンする
まで該電極113直下に蓄積される。時刻135
で再びパルス121がオフし、次にオンするか
ら、電極103,105直下に電荷の注入が行な
われる。時刻136で、パルス123がオンし、
次にオフし、パルス70がオンするから、今度は
電極105直下に注入された電荷Qiが電極11
1直下へ転送される。以下同様にパルス70,7
1により該電荷Qiは転送電極下を第4図の右方
向へ転送され、時刻139で、パルス71がオフ
すると該電荷Qiは電極113直下に蓄積される。
一方先に転送された電荷Qgも同様に転送され、
パルス72のオンにより電位VFに設定され、該
パルス72のオフによりフロート状態となつてい
る検出電極114直下の電位の井戸に蓄積され
る。以下同様にパルスの周期毎に電荷Qgと電荷
Qiが交互に該CTDの転送段に注入され、転送さ
れる。従つて、CTDの各転送段には該電荷Qgと
Qiが交互に存在する。以上の説明から明らかな
ように、該電荷QgとQiはCTDの2転送段毎に設
けられた検出電極114直下に、2周期に1度交
互に蓄積され、検出される。該検出方法について
は第2図、第3図を用いてすでに詳細に説明した
ので、ここでは省く。
スバーサルフイルタの入力部および転送段の一例
を詳細に示したものである。第5図は第4図を駆
動するためのパルスの一例を示している。以下で
は、第4、第5図を参照して、CTDトランスバ
ーサルフイルタの構造と駆動方法を詳細に説明す
る。第4図において、第2図と同一要素は同一番
号で示してある。102〜106,111〜11
4はpoly−SiあるいはAl等で構成される金属電
極で、図示していないが、半導体基板(例えば、
p形−Si)上に形成した、薄い絶縁層(例えば、
SiO2等)の上に配置されている。101は例え
ばn形不純物をドープした拡散層で、第5図に示
したパルス121(例えば、低レベル=1V、高
レベル10V)が印加される。電極102は直流電
位VL(例えば、2V)が印加される。電極103
には、前記直流電位V″g(例えば、5V)が印加さ
れ、電極105には前記V″g+V′iが印加される。
電極104,106へはそれぞれ第5図122,
123に示したパルス(例えば、低レベル=0V、
高レベル=9V)を印加する。同図から明きらか
なように、該パルスは転送パルス70,71の二
周期で1回高レベルとなり、電極104,106
が互いに交互に高レベルとなるように設定し、電
極103,105に注入された電荷が交互に転送
段に転送されるようになつている。即ち、電極1
04,106はそれぞれ第2図に示したスイツチ
37,38に対応している。電極111,112
はそれぞれ第1相、第2相の転送電極でパルス7
0,71(例えば高レベル=16V、低レベル=
0V)が印加される。113は第3相の電極で、
共通配線より直流電位VF(例えば8V)が印加さ
れる。信号検出電極114はMOSFET40がパ
ルス72(例えば低レベル=0V)高レベル10V)
が高レベルとなり、導通すると、前記直流電位
VFが印加され、該パルス72が低レベルとなり、
該MOSFET40が開状態となるとフロート状態
となる。今、第5図に示したタイミング130で
パルス121が低レベルとなり、(以下、オフす
ると言う)次に高レベルとなると(以下オンする
と言う)、電荷(本例では電子)が電極102直
下のバリアを越えて電極103,105直下の電
位の井戸へ注入される。電極103直下に注入さ
れた電荷量QgはV″g−VLに、電極105直下に
注入された電荷量QiはV″g+V′i−VLに、それぞ
れほぼ比例した値となる。次の時該131でパル
ス122,70がオンし、つづいてパルス122
がオフすると、電極103直下の該電荷Qgのみ
が、電極104直下のバリアを越えて、電極11
1直下の電位の井戸に転送され、蓄積される。次
に時刻132でパルス71がオンすると電極11
2直下にも電位の井戸が形成され、該電荷Qgの
一部は該電極112直下に転送される。時刻13
3でパルス70がオフすると電荷Qgは全部電極
112直下に蓄積され、次の時刻134でパルス
71がオフすると、該電荷Qgは電極113直下
に転送され、時刻136でパルス70がオンする
まで該電極113直下に蓄積される。時刻135
で再びパルス121がオフし、次にオンするか
ら、電極103,105直下に電荷の注入が行な
われる。時刻136で、パルス123がオンし、
次にオフし、パルス70がオンするから、今度は
電極105直下に注入された電荷Qiが電極11
1直下へ転送される。以下同様にパルス70,7
1により該電荷Qiは転送電極下を第4図の右方
向へ転送され、時刻139で、パルス71がオフ
すると該電荷Qiは電極113直下に蓄積される。
一方先に転送された電荷Qgも同様に転送され、
パルス72のオンにより電位VFに設定され、該
パルス72のオフによりフロート状態となつてい
る検出電極114直下の電位の井戸に蓄積され
る。以下同様にパルスの周期毎に電荷Qgと電荷
Qiが交互に該CTDの転送段に注入され、転送さ
れる。従つて、CTDの各転送段には該電荷Qgと
Qiが交互に存在する。以上の説明から明らかな
ように、該電荷QgとQiはCTDの2転送段毎に設
けられた検出電極114直下に、2周期に1度交
互に蓄積され、検出される。該検出方法について
は第2図、第3図を用いてすでに詳細に説明した
ので、ここでは省く。
本発明のCTDトランスバーサルフイルタは信
号の遅延と非破壊検出を行なうCTD、およびリ
セツトスイツチと1個のMOSFETから成るアナ
ログ信号乗算回路を電荷の非破壊検出手段毎に設
けた簡単な構造で実現される。即ち、従来の
CTDフイルタのタツプ回路を構成していたソー
スホロアバツフア回路を削除しさらに2個の
MOSFETで構成された乗算器を1個の
MOSFETで構成することにより、以下に述べる
多くの特徴を持つている。構造が簡単であるか
ら、集積化が容易である。ソースホロアのバツフ
ア回路が削除されるため、消費電力の大幅な低減
ができ、乗算回路に影響をおよぼしていた高いソ
ースホロアの出力インピーダンスの影響を考慮す
る必要が全くない。さらにMOSFETのサイズ
(W/L)や特性、たとえば閾値VTに依存する乗
算器の誤差がないので、真のアナログ乗算機能を
達成できる。このような長所を持つ本発明の
CTDフイルタを用いれば、従来のCTDフイルタ
ではほとんど実現不可能であつた複雑なプログラ
マブルフイルタやアダプテイブフイルタをデジタ
ル処理を行なわず、アナログ信号処理のみで実現
することが可能である。
号の遅延と非破壊検出を行なうCTD、およびリ
セツトスイツチと1個のMOSFETから成るアナ
ログ信号乗算回路を電荷の非破壊検出手段毎に設
けた簡単な構造で実現される。即ち、従来の
CTDフイルタのタツプ回路を構成していたソー
スホロアバツフア回路を削除しさらに2個の
MOSFETで構成された乗算器を1個の
MOSFETで構成することにより、以下に述べる
多くの特徴を持つている。構造が簡単であるか
ら、集積化が容易である。ソースホロアのバツフ
ア回路が削除されるため、消費電力の大幅な低減
ができ、乗算回路に影響をおよぼしていた高いソ
ースホロアの出力インピーダンスの影響を考慮す
る必要が全くない。さらにMOSFETのサイズ
(W/L)や特性、たとえば閾値VTに依存する乗
算器の誤差がないので、真のアナログ乗算機能を
達成できる。このような長所を持つ本発明の
CTDフイルタを用いれば、従来のCTDフイルタ
ではほとんど実現不可能であつた複雑なプログラ
マブルフイルタやアダプテイブフイルタをデジタ
ル処理を行なわず、アナログ信号処理のみで実現
することが可能である。
以上、CTDトランスバーサルフイルタを詳細
に説明した。ここでは一例として、半導体基板に
p形シリコンを用いた表面4チヤネルのCCDを
用いたが、正常な機能が満たせればn形シリコン
あるいはその他の半導体基板でもかまわない。さ
らに信号の遅延と非破壊検出に浮遊電極を用いた
CCDを一例に用いたが、浮遊拡散層を用いた
CCDあるいはタツプ付BBD(Bucket Brigade
Device)等、前記機能が満たせればどのような
タイプのCTDを用いても構成できることは明ら
かである。本発明ではCTDの一転送段は3個の
電極より成る3相構造を示し、駆動モードも3相
モードを用いたが、正常な機能が得られれば、ど
のような構造、駆動モードでもかまわない。さら
にパルスのタイミングも一例を示したもので、正
常な動作が達成されればどのようなタイミングで
もさしつかえない。CTDの入力部構造や電荷の
注入法も、所望の動作が得られれば、前記説明に
限定されることはない。本発明のスイツチやアナ
ログ信号乗算器はMOSFETでもジヤンクシヨン
タイプのFETでもかまわない。さらにFETはエ
ンハンスメント型あるいはデブリーシヨン型のい
ずれでもかまわない上、pチヤネルあるいはnチ
ヤネルでもさしつかえない。CTD、タツプ回路、
加算器、スイツチ、記憶回路、減算器など本発明
のCTDフイルタの構成要素はそれぞれ独立の部
品であつても、ハイブリツド構成でも、あるいは
同一基板上に集積化されたものであつてもかまわ
ない。
に説明した。ここでは一例として、半導体基板に
p形シリコンを用いた表面4チヤネルのCCDを
用いたが、正常な機能が満たせればn形シリコン
あるいはその他の半導体基板でもかまわない。さ
らに信号の遅延と非破壊検出に浮遊電極を用いた
CCDを一例に用いたが、浮遊拡散層を用いた
CCDあるいはタツプ付BBD(Bucket Brigade
Device)等、前記機能が満たせればどのような
タイプのCTDを用いても構成できることは明ら
かである。本発明ではCTDの一転送段は3個の
電極より成る3相構造を示し、駆動モードも3相
モードを用いたが、正常な機能が得られれば、ど
のような構造、駆動モードでもかまわない。さら
にパルスのタイミングも一例を示したもので、正
常な動作が達成されればどのようなタイミングで
もさしつかえない。CTDの入力部構造や電荷の
注入法も、所望の動作が得られれば、前記説明に
限定されることはない。本発明のスイツチやアナ
ログ信号乗算器はMOSFETでもジヤンクシヨン
タイプのFETでもかまわない。さらにFETはエ
ンハンスメント型あるいはデブリーシヨン型のい
ずれでもかまわない上、pチヤネルあるいはnチ
ヤネルでもさしつかえない。CTD、タツプ回路、
加算器、スイツチ、記憶回路、減算器など本発明
のCTDフイルタの構成要素はそれぞれ独立の部
品であつても、ハイブリツド構成でも、あるいは
同一基板上に集積化されたものであつてもかまわ
ない。
第1図は従来のCTDフイルタの構成である。
第2図は本発明のCTDフイルタの具体的に説明
するための構成図の一例、第3図は第2図の
CTDフイルタを駆動するためのパルスのタイミ
ングを示したものである。第4図は本発明の
CTDフイルタの入力部の一例を示し、第5図は
第4図のCTDフイルタを駆動するためのパルス
のタイミングを示している。 1,31はCTD遅延線、2〜4,32〜35,
102〜114,232,233,235…は金
属電極、6,9,10,11,12,40,41
は電界効果トランジスタ、17,18,51は演
算増幅器、19,20,52は抵抗、37,3
8,54,56はスイツチ、50は加算器、2
2,58は減算器、55,57はサンプルホール
ド回路、101は基板と逆導電形の拡散層であ
る。
第2図は本発明のCTDフイルタの具体的に説明
するための構成図の一例、第3図は第2図の
CTDフイルタを駆動するためのパルスのタイミ
ングを示したものである。第4図は本発明の
CTDフイルタの入力部の一例を示し、第5図は
第4図のCTDフイルタを駆動するためのパルス
のタイミングを示している。 1,31はCTD遅延線、2〜4,32〜35,
102〜114,232,233,235…は金
属電極、6,9,10,11,12,40,41
は電界効果トランジスタ、17,18,51は演
算増幅器、19,20,52は抵抗、37,3
8,54,56はスイツチ、50は加算器、2
2,58は減算器、55,57はサンプルホール
ド回路、101は基板と逆導電形の拡散層であ
る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 2種類の電荷信号をクロツク周期毎あるいは
クロツク周期の整数倍毎に交互にサンプルし、該
2種類の電圧信号に対応する2種類の電荷に変換
する入力部と、該2種類の電荷を交互に転送する
多数の転送段を有する転送部を持ち、該電荷転送
部に前記2種類の電荷を交互に非破壊的に検出す
る検出手段を規則的に配置してなるタツプ付電荷
転送素子と、前記各検出手段毎に1対1で対応し
て設けられた第1のスイツチを介し、第1の共通
配線に接続され、かつ前記各検出手段が該検出手
段毎に設けられた電界効果トランジスタのゲート
とそれぞれ接続され、前記電界効果トランジスタ
の各ソース(あるいはドレイン)端を重み係数等
のアナログ信号印加点とし、前記電界効果トラン
ジスタのドレイン(あるいはソース)端が前記検
出手段毎に設けられた全電界効果トランジスタ共
通の第2の共通配線に接続され、該第2の共通配
線が加算回路(あるいは加算器)に接続され、該
加算回路の出力端子が第2および第3のスイツチ
にそれぞれ接続され、該第2および第3のスイツ
チのいずれか一方が記憶回路を介して減算回路の
一方の入力端に接続されていると共に、前記スイ
ツチの他方が直接もしくは記憶回路を介して前記
減算回路の他方の入力端に接続されていることを
特徴とする電荷転送型トランスバーサルフイル
タ。 2 2種類の電圧信号をクロツク周期毎あるいは
クロツク周期の整数倍毎に交互にサンプルし、該
2種類の電圧信号に対応する2種類の電荷に変換
する入力部と、該2種類の電荷を交互に転送する
多数の転送段を有する転送部を持ち、該電荷転送
部に前記2種類の電荷を交互に非破壊的に検出す
る検出手段を規則的に配置してなるタツプ付電荷
転送素子と、前記各検出手段毎に1対1で対応し
て設けられた第1のスイツチを介し、第1の共通
配線に接続され、かつ前記各検出手段が該検出手
段毎に設けられた電界効果トランジスタのゲート
とそれぞれ接続され、前記電界効果トランジスタ
の各ソース(あるいはドレイン)端を重み係数等
のアナログ信号印加点とし、前記電界効果トラン
ジスタのドレイン(あるいはソース)端が前記検
出手段毎に設けられた全電界効果トランジスタ共
通の第2の共通配線に接続され、該第2の共通配
線が加算回路(あるいは加算器)に接続され、該
加算回路の出力端子が第2および第3のスイツチ
にそれぞれ接続され、該第2および第3のスイツ
チのいずれか一方が記憶回路を介して減算回路の
一方の入力端に接続されていると共に前記スイツ
チの他方が直接もしくは記憶回路を介して前記減
算回路の他方の入力端に接続されていることを特
徴とする電荷転送型トランスバーサルフイルタに
おいて、2種類の電圧信号をクロツク周期毎ある
いはクロツク周期の整数倍毎に交互にサンプリン
グし、該2種類の電圧信号に対応する2種類の電
荷に変換し、該電荷を転送段で交互に転送、遅延
させることにより、2種類の電荷が交互に配列し
た電荷の系列に変換し、転送段中に設けた電荷の
非破壊検出手段で前記電荷が検出される以前に、
前記第1のスイツチの開閉により、検出毎に第1
の共通配線を介してある一定電位にリセツトし、
ついで、浮遊状態にすると共に、該2種類の各電
荷の群を該検出手段により、クロツク周期毎ある
いは該クロツクの整数倍毎に検出すると同時に、
前記加算回路および第2の共通配線を介し、該電
界効果トランジスタのドレイン(あるいはソー
ス)端に一定電位Vdを、k番目のタツプ(k=
1、2、3、…N)の電界効果トランジスタのソ
ース(あるいはドレイン)端に前記一定電位Vd
に重畳された電圧信号vdk(k=1、N)をそれ
ぞれ印加し、各電荷の検出期間中電圧信号vdkを
一定に保持し、次の電荷の検出期間では電圧信号
vdkを任意に変更するようにし、一方の電荷が検
出されている期間、第3のスイツチを開き、第2
のスイツチを閉じて、該加算回路の出力信号を第
1の記憶回路に保持し、他方の電荷が検出されて
いる期間、第2のスイツチを開き、第3のスイツ
チを閉じて、該加算回路の出力を第2の記憶回路
に保持し、該第1および第2の記憶回路の出力信
号の差を該減算回路で得るか、あるいは前記他方
の電荷が検出されている期間、第2のスイツチを
開き、第3のスイツチを閉じて前記加算回路の出
力を、前記第2の記憶回路を経由しないで、直接
該減算器に印加し、前記加算回路からの出力と前
記第1の記憶回路の出力との差を前記減算器で得
ることを特徴とする電荷転送型トランスバーサル
フイルタの駆動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP557680A JPS56103526A (en) | 1980-01-21 | 1980-01-21 | Electric charge transfer type transversal filter and its driving method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP557680A JPS56103526A (en) | 1980-01-21 | 1980-01-21 | Electric charge transfer type transversal filter and its driving method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56103526A JPS56103526A (en) | 1981-08-18 |
| JPS6324327B2 true JPS6324327B2 (ja) | 1988-05-20 |
Family
ID=11615041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP557680A Granted JPS56103526A (en) | 1980-01-21 | 1980-01-21 | Electric charge transfer type transversal filter and its driving method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56103526A (ja) |
-
1980
- 1980-01-21 JP JP557680A patent/JPS56103526A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56103526A (en) | 1981-08-18 |
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