JPS63242963A - 有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミツクス焼成体の製造方法 - Google Patents
有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミツクス焼成体の製造方法Info
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- JPS63242963A JPS63242963A JP62076007A JP7600787A JPS63242963A JP S63242963 A JPS63242963 A JP S63242963A JP 62076007 A JP62076007 A JP 62076007A JP 7600787 A JP7600787 A JP 7600787A JP S63242963 A JPS63242963 A JP S63242963A
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Landscapes
- Ceramic Products (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は有機金属高分子をバインダーおよびセラミック
原料として用いた高寸法精度の大形あるいは複雑形状の
セラミックスを得るためのセラミックス粉体の顆粒、セ
ラミックス粉体の成形方法および成形体の加熱方法に関
するものである。
原料として用いた高寸法精度の大形あるいは複雑形状の
セラミックスを得るためのセラミックス粉体の顆粒、セ
ラミックス粉体の成形方法および成形体の加熱方法に関
するものである。
従来の技術
従来高融点材料であるセラミックスは、一般的にセラミ
ックス原料粉体を成形し、それを焼結することにより得
られている。
ックス原料粉体を成形し、それを焼結することにより得
られている。
プレス成形、あるいは鋳込み成形の場合には、まずセラ
ミックス原料粉体を水あるいは有機溶媒と混ぜ、その中
にセラミックス粉体の凝集を解くための微量の解膠剤と
成形後形を保つため粘着性のあるバインダーを添加しよ
く混練し、その後各々の成形に適した量に水、あるいは
有機溶媒を調整し、成形している。複雑形状品で同一形
状のものを沢山つくる場合は射出成形が用いられるが、
この場合においては成形する原料粉体に可塑性を付与す
るために50マo9%前後の有機高分子あるいはワック
スを配合し、150℃程度に加熱し、それらの軟化によ
る可塑性を利用し成形している。これらのプレス、鋳込
み、および射出成形のいずれの場合においても用いられ
た解膠剤、バインダー、あるいは射出成形の場合の可塑
剤は焼結の前の過程の熱処理により揮発、あるいは熱分
解によりガス化し除去されている。そのためバインダー
あるいは可塑剤が無くなったあとは成形体の強度は非常
に小さく取扱い時破損しやすく、時には静置状態でも自
重あるいは外部からの振動等により破損する。また、バ
インダーの無くなったあとは空隙となるため、焼結の際
に寸法の収縮がそれだけ大きくなる。成形体が複雑形状
で特に肉厚に大小ある場合には焼成収縮にバラツキを生
じ成形体に亀裂が入る場合もある。
ミックス原料粉体を水あるいは有機溶媒と混ぜ、その中
にセラミックス粉体の凝集を解くための微量の解膠剤と
成形後形を保つため粘着性のあるバインダーを添加しよ
く混練し、その後各々の成形に適した量に水、あるいは
有機溶媒を調整し、成形している。複雑形状品で同一形
状のものを沢山つくる場合は射出成形が用いられるが、
この場合においては成形する原料粉体に可塑性を付与す
るために50マo9%前後の有機高分子あるいはワック
スを配合し、150℃程度に加熱し、それらの軟化によ
る可塑性を利用し成形している。これらのプレス、鋳込
み、および射出成形のいずれの場合においても用いられ
た解膠剤、バインダー、あるいは射出成形の場合の可塑
剤は焼結の前の過程の熱処理により揮発、あるいは熱分
解によりガス化し除去されている。そのためバインダー
あるいは可塑剤が無くなったあとは成形体の強度は非常
に小さく取扱い時破損しやすく、時には静置状態でも自
重あるいは外部からの振動等により破損する。また、バ
インダーの無くなったあとは空隙となるため、焼結の際
に寸法の収縮がそれだけ大きくなる。成形体が複雑形状
で特に肉厚に大小ある場合には焼成収縮にバラツキを生
じ成形体に亀裂が入る場合もある。
発明が解決しようとする問題点
本発明においては、これら解膠、バインダー、および可
塑的役割を全部合わせて持ち、焼成に際してはその大半
がセラミックス化する有機金属高分子を用いることによ
り、成形体の強度ならび充填密度を向上させ、焼結過程
での歪み、亀裂の発生をおさえ、より寸法精度の高いも
のをつくるとともに、より大形寸法品、複雑形状品の製
造を可能ならしめようとするものである。
塑的役割を全部合わせて持ち、焼成に際してはその大半
がセラミックス化する有機金属高分子を用いることによ
り、成形体の強度ならび充填密度を向上させ、焼結過程
での歪み、亀裂の発生をおさえ、より寸法精度の高いも
のをつくるとともに、より大形寸法品、複雑形状品の製
造を可能ならしめようとするものである。
問題点を解決するための手段
本発明はセラミックス原料粉体に有機金属高分子45マ
at%以下と非酸化物系セラミックス粉末とからなる混
合物を有機溶媒を用いて泥漿となし、該泥漿を不活性ガ
ス中で噴霧乾燥により造粒した粉体を最密粒子に構成し
成型し、焼成することを特徴とする。
at%以下と非酸化物系セラミックス粉末とからなる混
合物を有機溶媒を用いて泥漿となし、該泥漿を不活性ガ
ス中で噴霧乾燥により造粒した粉体を最密粒子に構成し
成型し、焼成することを特徴とする。
本発明に使用される有機金属高分子にはポリシラザン(
po l Is i Iazane)、ポリカルボシラ
ン(po17carbosilane) 、ポリシラス
チレン、ポリチタノカルボシラン、ポリポロシロキサン
、ポリビニルシラン、ボラザン、カルポラン−シロキサ
ン等がある。
po l Is i Iazane)、ポリカルボシラ
ン(po17carbosilane) 、ポリシラス
チレン、ポリチタノカルボシラン、ポリポロシロキサン
、ポリビニルシラン、ボラザン、カルポラン−シロキサ
ン等がある。
ポリシラザンはシランとアンモニヤの主原料から合成さ
れる有機高分子であり、分子式あるいは分子構造は製造
方法により異り一定していない。
れる有機高分子であり、分子式あるいは分子構造は製造
方法により異り一定していない。
しかしいずれも不活性雰囲気で焼成すると一般的にSi
3N、およびCがセラミックスとして残る。
3N、およびCがセラミックスとして残る。
Cは原料として用いるシラン、例えばR51HC12(
ここにR=アルキル基又はアリル基)からくるがS i
H2Ct 2を用いればCを含まないポリシラザンが
得られる。しかし5iH2Cizは危険性のある材料で
あり、アンモニヤとの反応生成物は常温で不安定で保管
しにくい材料である。その上、このポリシラザンから得
られるSi3N、セラミックスの収率は70%と低く一
部がSiを含んだガスとして揮発してゆき望ましくない
、このようにS i H2Ci□原料は安全性あるいは
経済性の面からあまり使いやすい原料ではない。
ここにR=アルキル基又はアリル基)からくるがS i
H2Ct 2を用いればCを含まないポリシラザンが
得られる。しかし5iH2Cizは危険性のある材料で
あり、アンモニヤとの反応生成物は常温で不安定で保管
しにくい材料である。その上、このポリシラザンから得
られるSi3N、セラミックスの収率は70%と低く一
部がSiを含んだガスとして揮発してゆき望ましくない
、このようにS i H2Ci□原料は安全性あるいは
経済性の面からあまり使いやすい原料ではない。
本発明に使用したポリシラザンの具体例を示すと米国特
許4482BH号明細書により合成したもので主原料と
してR91HCuzとアンモニヤであり、その分子構造
は (CH3SiHNH)0.45 (CH3SiHNCH
x )0.03 (CH=SiN)o、s2で分子量
は1000〜2000g/goLLである0合成時に用
いる有機溶媒等の差により窒素雰囲気下加熱により熱硬
化するものと軟化溶融するものとがある。
許4482BH号明細書により合成したもので主原料と
してR91HCuzとアンモニヤであり、その分子構造
は (CH3SiHNH)0.45 (CH3SiHNCH
x )0.03 (CH=SiN)o、s2で分子量
は1000〜2000g/goLLである0合成時に用
いる有機溶媒等の差により窒素雰囲気下加熱により熱硬
化するものと軟化溶融するものとがある。
窒素雰囲気下でさらに加熱をつづけるとポリシラザンは
H2,CH,ガスを発生しながら重量減少し、セラミッ
クス化する。700〜800℃でガスの発生は止り重量
減少もなくなる。高温X−ra7で結晶構造を調べたと
ころ、1300℃までは非晶質、1300〜1500℃
ではβ−5i3N4 、1500℃以上でβ−9i3N
4と共にβ−5iCの回折も観察される。
H2,CH,ガスを発生しながら重量減少し、セラミッ
クス化する。700〜800℃でガスの発生は止り重量
減少もなくなる。高温X−ra7で結晶構造を調べたと
ころ、1300℃までは非晶質、1300〜1500℃
ではβ−5i3N4 、1500℃以上でβ−9i3N
4と共にβ−5iCの回折も観察される。
このセラミックス分を分析し化学組成を調べたところ、
12.87%C128,07%N、59.52%Siで
残り1.54%は0と推察される。
12.87%C128,07%N、59.52%Siで
残り1.54%は0と推察される。
CH3H
H
を有し、分子量1200〜2000g/molで融点が
約150℃の熱軟化性を示す、 Ar雰囲気下で加熱す
るとH2、CH4ガスを発生し、流動化したあとセラミ
ックス化するが、そのセラミックス収率は約50%であ
る。その得られたセラミックス組成はSiCとCである
。
約150℃の熱軟化性を示す、 Ar雰囲気下で加熱す
るとH2、CH4ガスを発生し、流動化したあとセラミ
ックス化するが、そのセラミックス収率は約50%であ
る。その得られたセラミックス組成はSiCとCである
。
次に本発明の原料として使用する非酸化物系セラミック
ス粉末とは金属元素あるいは半金属元素の炭化物、ホウ
化物、窒化物などの非醜化物系セラミックスに0.1〜
20重量%の焼結助剤を加えたもので、一般的には0.
1〜1.0 !lの範囲の粒度をもつものである。
ス粉末とは金属元素あるいは半金属元素の炭化物、ホウ
化物、窒化物などの非醜化物系セラミックスに0.1〜
20重量%の焼結助剤を加えたもので、一般的には0.
1〜1.0 !lの範囲の粒度をもつものである。
非酸化物系セラミックスとしては代表的には次のものが
挙げられる。
挙げられる。
(1)炭化物
BaC,TiC,ZrC,HfC,ThC,VClNb
C,WC,W2C,Crs C2、5iC1丁aC(
2)ホウ化物 TiB2、ZrB2、HfB2、TaB2.’ MoB
2、CrB2、)NbB2、MoB、 NbB、 UB
、 1ilB、 Mob B 。
C,WC,W2C,Crs C2、5iC1丁aC(
2)ホウ化物 TiB2、ZrB2、HfB2、TaB2.’ MoB
2、CrB2、)NbB2、MoB、 NbB、 UB
、 1ilB、 Mob B 。
ThB&
(3)窒化物
BN、 AiN、 HfN、 TaN、 ZrN、 T
iN、ThN 、 NbN 、 VN、 CrN 、
5i3Na非酸化物系セラミツクスは、高温での強度及
び硬度の低下が少ないなど、酸化物系セラミックスに比
べて優れた性質を示す。
iN、ThN 、 NbN 、 VN、 CrN 、
5i3Na非酸化物系セラミツクスは、高温での強度及
び硬度の低下が少ないなど、酸化物系セラミックスに比
べて優れた性質を示す。
又、焼結助剤は焼結を容易にするために加えるもノテ、
たとえばAl2O5、Y2O3,H4C、Cナトカ挙げ
られる。
たとえばAl2O5、Y2O3,H4C、Cナトカ挙げ
られる。
有機金属高分子と非酸化物系セラミックス粉末とからな
る混合物は有機溶媒を用いて泥漿とするが、この有機溶
媒としては特に限定するものではなく、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族類、アセト
ンなどのケトン類、ヘキサン、ケロシンなどの長鎖状不
飽和炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類等が好ましく用いられる。
る混合物は有機溶媒を用いて泥漿とするが、この有機溶
媒としては特に限定するものではなく、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン(THF)などのエーテル類、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族類、アセト
ンなどのケトン類、ヘキサン、ケロシンなどの長鎖状不
飽和炭化水素類、メタノール、エタノールなどのアルコ
ール類等が好ましく用いられる。
泥漿の性状は噴霧乾燥後の造粒粉体の粒度に影響するの
で、泥漿粘度が1.0〜2.0センチボイズとなるよう
に濃度を定めるのがよい、一般的に低濃度の方が小粒子
が得られるが、溶媒量が多くなり、経済的でない。
で、泥漿粘度が1.0〜2.0センチボイズとなるよう
に濃度を定めるのがよい、一般的に低濃度の方が小粒子
が得られるが、溶媒量が多くなり、経済的でない。
泥漿を不活性ガス中で噴霧乾燥するが、不活性ガスは有
機金属高分子と化学反応を起さないことが必要で、たと
えば窒素、アルゴン、ヘリウム等が使用できる。
機金属高分子と化学反応を起さないことが必要で、たと
えば窒素、アルゴン、ヘリウム等が使用できる。
噴霧乾燥後の成形に供する造粒した粉体の粒度は、原粒
粒度以上、好ましくは0.1〜210ILm程度、さら
に好ましくは0.2〜444m程度である。
粒度以上、好ましくは0.1〜210ILm程度、さら
に好ましくは0.2〜444m程度である。
この範囲で強度や硬度の点で好ましく焼成体が得られる
。
。
成形方法は特に制限するものではなく、セラミックスの
一般的成形方法、たとえばプレス成形方法が用いられる
。
一般的成形方法、たとえばプレス成形方法が用いられる
。
本発明の非酸化物系セラミックス焼成体は、ファインセ
ラミックス、特に高温、高強度構造部材として有用で、
用途としては代表的には自動車エンジン、同副燃焼室、
熱交換器用パイプ、発電機部材、ジェットエンジン、ガ
スタービンブレード、ラジアントチューブ、線引用セラ
ミックスダイスなどが挙げられる。
ラミックス、特に高温、高強度構造部材として有用で、
用途としては代表的には自動車エンジン、同副燃焼室、
熱交換器用パイプ、発電機部材、ジェットエンジン、ガ
スタービンブレード、ラジアントチューブ、線引用セラ
ミックスダイスなどが挙げられる。
以下実施例に基づいて説明する。
実施例1
いずれもサブミクロンのセラミックス粉末であるa−9
i3N473.14 wt%、M2O34,85wt%
、Y2O34,[(5wt%にボリシラザ717.58
wt%(セラミックス粉末62vol%、ポリシラデフ
3日vol%の割合である)をT)IF (テトラヒド
ロフラン)溶液の形で加え、ボットミルに入れ、24時
間混練した。
i3N473.14 wt%、M2O34,85wt%
、Y2O34,[(5wt%にボリシラザ717.58
wt%(セラミックス粉末62vol%、ポリシラデフ
3日vol%の割合である)をT)IF (テトラヒド
ロフラン)溶液の形で加え、ボットミルに入れ、24時
間混練した。
そのセラミックス泥漿を粘度1.5cpに調整し、噴霧
乾燥機で窒素雰囲気下で造粒し、顆粒を得た。その顆粒
は中実のよい球状を呈していた0粒度は噴霧乾燥機の操
業条件によりyA節でき、 210p11から1.0g
m+以下までの広い粒度分布をもつ顆粒をつくった。
乾燥機で窒素雰囲気下で造粒し、顆粒を得た。その顆粒
は中実のよい球状を呈していた0粒度は噴霧乾燥機の操
業条件によりyA節でき、 210p11から1.0g
m+以下までの広い粒度分布をもつ顆粒をつくった。
本発明においては成形密度を高めるため顆粒の粒度配合
調整を試みた。最密充填を示す粒度分布を表わす式とし
てAndreasenの実験式が知られている。すなわ
ちP= (r/D)mX 100、ここにPは微粒部の
%(重量)、xは粒子の大きさ、Dは最大粒形、および
mは0.33から0.5の範囲にある。このAndre
aseaの式に準拠し、粒度配合を行った。
調整を試みた。最密充填を示す粒度分布を表わす式とし
てAndreasenの実験式が知られている。すなわ
ちP= (r/D)mX 100、ここにPは微粒部の
%(重量)、xは粒子の大きさ、Dは最大粒形、および
mは0.33から0.5の範囲にある。このAndre
aseaの式に準拠し、粒度配合を行った。
すなわち最大粒子径1100JL 、 1.OILmφ
以下の重量15%、 1.0μ■φからlQpmφまで
の重量を25重量%、10牌曽φ−1OOILIIφを
残り60重量%になるよう連続な粒度分布を構成した。
以下の重量15%、 1.0μ■φからlQpmφまで
の重量を25重量%、10牌曽φ−1OOILIIφを
残り60重量%になるよう連続な粒度分布を構成した。
この配合原料をtoo kgf/crn’、 1000
kgf/cm’ノ圧力で一部プレス7000 kgf
/crn’でCIP成形した。
kgf/cm’ノ圧力で一部プレス7000 kgf
/crn’でCIP成形した。
比較材として上記した210延謹から1.0pmの粒度
分布をもった顆粒を振動ぶるいて20ル腸以下をふるい
落し、20〜210ル層の粒度分布をもつ顆粒をツくッ
た。これを同様に100 kgf/crrr’、 10
0100O/Crn’+7)圧力で一部プレス7000
kgf/am″でCIP成形した。第1表にその結果を
示す。
分布をもった顆粒を振動ぶるいて20ル腸以下をふるい
落し、20〜210ル層の粒度分布をもつ顆粒をツくッ
た。これを同様に100 kgf/crrr’、 10
0100O/Crn’+7)圧力で一部プレス7000
kgf/am″でCIP成形した。第1表にその結果を
示す。
第1表
低い圧力でより充填密度が上ることが確認された。
実施例2
ポリシラザン38vol%配合した実施例1の最密充填
粒度配合原料に15〜20702%のTHF (テトラ
ヒドロフラン)を加え湿らせ、断面積1crn”、 ノ
ズル径0.5m層φのフローテスターに入れ、ピストン
を5QQkgf/am″で加圧したところ、瞬時に配合
原料は流出し、優れた流動性を示した。さらにこの配合
原料に上と同様に15〜20マ02%のTHF液を加え
、常温テ1700kgf/Cm″の圧力で50X100
X7 mmの試片を射出成形したところ、密度80%
TOの均質なものが多数得られた。
粒度配合原料に15〜20702%のTHF (テトラ
ヒドロフラン)を加え湿らせ、断面積1crn”、 ノ
ズル径0.5m層φのフローテスターに入れ、ピストン
を5QQkgf/am″で加圧したところ、瞬時に配合
原料は流出し、優れた流動性を示した。さらにこの配合
原料に上と同様に15〜20マ02%のTHF液を加え
、常温テ1700kgf/Cm″の圧力で50X100
X7 mmの試片を射出成形したところ、密度80%
TOの均質なものが多数得られた。
この成形体を大気中に放置し、 THFを揮発除去した
後、4℃/sinで焼成したが、歪み、欠陥もなく正常
な焼成体が得られた。
後、4℃/sinで焼成したが、歪み、欠陥もなく正常
な焼成体が得られた。
次に、 1.0pm以下の微粒部分にサブミクロンの配
合原料として用いるα−5i3N4. A1203、Y
2O3粉体を用いたが、上記とはダ同じ結果が得られた
。
合原料として用いるα−5i3N4. A1203、Y
2O3粉体を用いたが、上記とはダ同じ結果が得られた
。
充填性をさらに向上させる目的で、1.0 p−ts以
下の粒子の50%の部分を0.01pmの球形5iOz
粒子で知られている他の微粒子、たとえばシリカフラワ
ーに置きかえたところ、流動性がさらに向上し、成形密
度85%TOの均質な上述の試験片が得られた。
下の粒子の50%の部分を0.01pmの球形5iOz
粒子で知られている他の微粒子、たとえばシリカフラワ
ーに置きかえたところ、流動性がさらに向上し、成形密
度85%TOの均質な上述の試験片が得られた。
以上のように最密充填を構成する粒度構成は低い圧力で
成形体密度を向上させることのみならず、流動性を著し
く向上させ、常温(シリンダ一温度)での射出成形も可
能であることがわかった。
成形体密度を向上させることのみならず、流動性を著し
く向上させ、常温(シリンダ一温度)での射出成形も可
能であることがわかった。
塗料等で塗布性を改良するということで知られる0、0
1g1球状のシリカ−フラワーを用いるときは更に流動
性を増すことより、 1.0ル厘以下の微粒子は流動性
を増し、充填性を増すとともに、組織を均質化する作用
があり、重要な役割を演じることがわかった。
1g1球状のシリカ−フラワーを用いるときは更に流動
性を増すことより、 1.0ル厘以下の微粒子は流動性
を増し、充填性を増すとともに、組織を均質化する作用
があり、重要な役割を演じることがわかった。
このように最大粒子径から1.・1あるいはQ、14a
+まで最密充填の粒度構成をとることは粉体のグイラタ
ントな性質を無くし、チクソトロピックな性質を増大さ
せる結果、小さい応力で均質かつ高密な充填を可能とす
る。成形方法は実施例に示すプレス成形法および射出成
形方法のみならず、押出し、振動鋳込み方法等にもすべ
て有効である。
+まで最密充填の粒度構成をとることは粉体のグイラタ
ントな性質を無くし、チクソトロピックな性質を増大さ
せる結果、小さい応力で均質かつ高密な充填を可能とす
る。成形方法は実施例に示すプレス成形法および射出成
形方法のみならず、押出し、振動鋳込み方法等にもすべ
て有効である。
発明の効果
有機金属高分子とセラミックス粉体からなる顆粒を用い
ることにより、寸法精度の高いより大型品あるいはより
複雑形状品が得られるが、顆粒の粒度構成を1.0ル謬
あるいは0.1ル菖まで最密充填の粒度構成をとること
により、更に成形体を均質にかつ緻密にすることができ
る結果、焼成体の均質性、および寸法精度がさらに向上
する。
ることにより、寸法精度の高いより大型品あるいはより
複雑形状品が得られるが、顆粒の粒度構成を1.0ル謬
あるいは0.1ル菖まで最密充填の粒度構成をとること
により、更に成形体を均質にかつ緻密にすることができ
る結果、焼成体の均質性、および寸法精度がさらに向上
する。
またチクソトロビックな性質が強化される結果、常温で
の射出成形が可能となり、得られた射出成形体は脱脂工
程を通らず直接成形体を焼成することが可能となり生産
性が著しく高くなった。
の射出成形が可能となり、得られた射出成形体は脱脂工
程を通らず直接成形体を焼成することが可能となり生産
性が著しく高くなった。
Claims (4)
- (1)有機金属高分子45vol%以下と非酸化物系セ
ラミックス粉末とからなる混合物を有機溶媒を用いて泥
漿となし、該泥漿を不活性ガス中で噴霧乾燥により造粒
した粉体を用い、連続あるいは非連続の最密粒度分布を
構成し、1.0μm以下の粒子の量が P=(χ/D)^m×100 ここに Pは1.0μm以下の重量% χは粒子径(1.0μm) Dは顆粒の最大粒子径(μm) mは定数(0.33〜0.5) の範囲にある粉体を成形し、焼成することを特徴とする
有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミックス焼成体
の製造方法。 - (2)有機金属高分子の含有量が45vol%〜5vo
l%である特許請求の範囲第1項記載の製造方法。 - (3)1.0μm以下の粉体の全部または1部が他の微
粒子に置換した粉体である特許請求の範囲第1項または
第2項記載の製造方法。 - (4)射出成形機により常温で射出成形する特許請求の
範囲第1項、第2項または第3項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62076007A JPS63242963A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミツクス焼成体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62076007A JPS63242963A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミツクス焼成体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63242963A true JPS63242963A (ja) | 1988-10-07 |
Family
ID=13592754
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62076007A Pending JPS63242963A (ja) | 1987-03-31 | 1987-03-31 | 有機金属高分子を用いた非酸化物系セラミツクス焼成体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63242963A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269347A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-08 | Noritake Co Ltd | 粒子分散強化型非酸化物セラミックス複合材およびその製造方法 |
JPH02175657A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-06 | Chisso Corp | セラミツク組成物およびその製造方法、成形助剤 |
JPH02175658A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-06 | Chisso Corp | 窒化珪素および/あるいは炭化珪素を基とするセラミックス組成物およびその製造方法、成形助剤 |
-
1987
- 1987-03-31 JP JP62076007A patent/JPS63242963A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0269347A (ja) * | 1988-08-31 | 1990-03-08 | Noritake Co Ltd | 粒子分散強化型非酸化物セラミックス複合材およびその製造方法 |
JPH02175657A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-06 | Chisso Corp | セラミツク組成物およびその製造方法、成形助剤 |
JPH02175658A (ja) * | 1988-12-28 | 1990-07-06 | Chisso Corp | 窒化珪素および/あるいは炭化珪素を基とするセラミックス組成物およびその製造方法、成形助剤 |
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