JPS63240950A - 窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法 - Google Patents
窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法Info
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- JPS63240950A JPS63240950A JP62073731A JP7373187A JPS63240950A JP S63240950 A JPS63240950 A JP S63240950A JP 62073731 A JP62073731 A JP 62073731A JP 7373187 A JP7373187 A JP 7373187A JP S63240950 A JPS63240950 A JP S63240950A
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- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、排ガス中の窒素酸化物(1″)、下、N O
xと記す)の除去用触媒に係り、特に排ガス中の触媒毒
物質によって劣化しにくい触媒の製造−η法に関する。
xと記す)の除去用触媒に係り、特に排ガス中の触媒毒
物質によって劣化しにくい触媒の製造−η法に関する。
発電所、焼結炉、各種化学工場、自動車などから排出さ
れるNOxは、光化学スモッグの原因物質とされるため
、その効果的な処理手段が望まね。
れるNOxは、光化学スモッグの原因物質とされるため
、その効果的な処理手段が望まね。
ている。従来から多く提案されている排煙脱硝力性のう
ち、N Hコを遷元剤とするNOxの接IIl・l!還
元法は排ガス中に02が人工に、(1/+lえぽ[容7
“6以上含まれていてもNH:lは選択的にNOxと反
応するので、還元剤が少なくて済むという点で有利な方
法とされている。
ち、N Hコを遷元剤とするNOxの接IIl・l!還
元法は排ガス中に02が人工に、(1/+lえぽ[容7
“6以上含まれていてもNH:lは選択的にNOxと反
応するので、還元剤が少なくて済むという点で有利な方
法とされている。
この方法で用いられる触媒としては、活性アルミナ、シ
リカゲル、アルミナ、ゼオライト、酸化チタンなどの担
体に遷移金属化合物を担持させたものが知られている。
リカゲル、アルミナ、ゼオライト、酸化チタンなどの担
体に遷移金属化合物を担持させたものが知られている。
これらのうち現在実用に供されているものは、例えば特
開昭50−51966号、特151ゴ昭52−1222
93号に開示されるように酸化チタンを主成分とし、こ
れにバナジウム(V)、モリブデン(MO)、タングス
テン(W)などを添加したものである。これらの触媒は
、排ガス中の硫黄酸化物に犯されにくい特徴を有し、広
く採用されている。
開昭50−51966号、特151ゴ昭52−1222
93号に開示されるように酸化チタンを主成分とし、こ
れにバナジウム(V)、モリブデン(MO)、タングス
テン(W)などを添加したものである。これらの触媒は
、排ガス中の硫黄酸化物に犯されにくい特徴を有し、広
く採用されている。
また、窒素酸化物除去用触媒としてゼオライトに活性成
分を担持したものが、特開昭50−66477号、特開
昭59−230642号に開示されている。
分を担持したものが、特開昭50−66477号、特開
昭59−230642号に開示されている。
C発明が解決しようとする問題点〕
酸化チタンにバナジウム、モリブデン、タングステンな
どの活性成分を担持した触媒は、処理すべき排ガス中に
1iTi発性の全屈酸化物やセレン、テルル、タリウム
、ヒ素などの酸化物が含まれている場合、急激にその触
媒活性が大lR’ilな低下を示すことが判明した。
どの活性成分を担持した触媒は、処理すべき排ガス中に
1iTi発性の全屈酸化物やセレン、テルル、タリウム
、ヒ素などの酸化物が含まれている場合、急激にその触
媒活性が大lR’ilな低下を示すことが判明した。
また、ゼオライトにCuなとの活性成分を担持した触媒
は、被処理ガス中のSOxに長時間さらした場合には、
触媒活性の低下が避けられなかった。
は、被処理ガス中のSOxに長時間さらした場合には、
触媒活性の低下が避けられなかった。
本発明は、上記問題点をIW決するためになされたもの
で、金属イオンを担持したゼオライトを使用し、アンモ
ニアにより窒素酸化物を接触逼元除去する触媒の型造方
法において、ゼオライトと金属塩水溶液またはオキシ金
属塩水溶液の混合物に含窒素化合物を添加することによ
り液のp +(を」二昇させた後、屹燥、焼成して金属
担持ゼオライトを型造することを特徴とする窒素酸化物
の接触還元除去用触媒の型造方法である。
で、金属イオンを担持したゼオライトを使用し、アンモ
ニアにより窒素酸化物を接触逼元除去する触媒の型造方
法において、ゼオライトと金属塩水溶液またはオキシ金
属塩水溶液の混合物に含窒素化合物を添加することによ
り液のp +(を」二昇させた後、屹燥、焼成して金属
担持ゼオライトを型造することを特徴とする窒素酸化物
の接触還元除去用触媒の型造方法である。
高活性のゼオライト触媒、例えば相対エカ0.1気圧に
おける窒素ガスの吸着量比が0.85以下のゼオライト
触媒を得るためには金ヱイオンが♀■孔内部にまで入り
込む必要がある。一般にこのような触媒を得るには金属
塩の水溶液と水素型ゼオライトを接触させるが、本発明
考らが検討を進めた結果、金属塩水/8液のような強酸
性の伏!点でイオン交換したゼオライI−は窒素ガスの
吸汗容量比が0.9〜0.95程度にしかならず、比・
咬的高いp IIにして一イオン交換したものに比較し
て細孔内への金属イオンの導入量が少ないことがわかっ
た。この場合、焼成によって両者とも金J、Z酸化物の
析出は見られないことから、金属イオンはイオン交換サ
イトに存在することは明らかであるが、従来の型造方法
では♀、■孔内よりも、ゼオライト表面に多く吸着して
いると考えられる。
おける窒素ガスの吸着量比が0.85以下のゼオライト
触媒を得るためには金ヱイオンが♀■孔内部にまで入り
込む必要がある。一般にこのような触媒を得るには金属
塩の水溶液と水素型ゼオライトを接触させるが、本発明
考らが検討を進めた結果、金属塩水/8液のような強酸
性の伏!点でイオン交換したゼオライI−は窒素ガスの
吸汗容量比が0.9〜0.95程度にしかならず、比・
咬的高いp IIにして一イオン交換したものに比較し
て細孔内への金属イオンの導入量が少ないことがわかっ
た。この場合、焼成によって両者とも金J、Z酸化物の
析出は見られないことから、金属イオンはイオン交換サ
イトに存在することは明らかであるが、従来の型造方法
では♀、■孔内よりも、ゼオライト表面に多く吸着して
いると考えられる。
以上の結果から、所期の特性を有するゼオライト触媒を
得るためには、金属塩水/8液またはオキシ金属塩水/
8液をゼオライ1〜と混合し、次いで水溶液のII)
Hを上げて−イオン交換を(IF進させ、ゼオライトの
イオン交換サイ1−に効率よく担持させる必要があるこ
とがわかった。
得るためには、金属塩水/8液またはオキシ金属塩水/
8液をゼオライ1〜と混合し、次いで水溶液のII)
Hを上げて−イオン交換を(IF進させ、ゼオライトの
イオン交換サイ1−に効率よく担持させる必要があるこ
とがわかった。
Cu、■、Fe等の遷移金属元素を担持したゼオライト
は、酸化ヒ素、酸化セレン等の揮発性酸化物質に対して
は長時間にわたり著しく高い抵抗力を示すが、酸性物質
、特にSOxに対しては長時間さらさ抗ると活性が低下
する。これば、(L)ゼオライトの構成成分であるアル
ミニウムが骨格からはずれ、アルミニウムが形成してい
るイオン交換サイトから活性成分が移faJLでしまう
ため、または(2)活性成分が上記酸性物質と化合し、
活性が低下するためと考えられる。前述したようにSi
O,、/A7!zO:+比が10以上のゼオライトにお
いては、(2)の要因による活性低下が大きいと考えら
れる。このような失活は、ゼオライト表面から徐々に進
行すると考えられることから、活性成分を1′m孔の奥
に担持し、被毒成分からの攻撃を受けにくくすれば耐S
Ox性が向上するはずである。
は、酸化ヒ素、酸化セレン等の揮発性酸化物質に対して
は長時間にわたり著しく高い抵抗力を示すが、酸性物質
、特にSOxに対しては長時間さらさ抗ると活性が低下
する。これば、(L)ゼオライトの構成成分であるアル
ミニウムが骨格からはずれ、アルミニウムが形成してい
るイオン交換サイトから活性成分が移faJLでしまう
ため、または(2)活性成分が上記酸性物質と化合し、
活性が低下するためと考えられる。前述したようにSi
O,、/A7!zO:+比が10以上のゼオライトにお
いては、(2)の要因による活性低下が大きいと考えら
れる。このような失活は、ゼオライト表面から徐々に進
行すると考えられることから、活性成分を1′m孔の奥
に担持し、被毒成分からの攻撃を受けにくくすれば耐S
Ox性が向上するはずである。
ところで一般にゼオライ1−に担持した活性金属イオン
は、i′■孔内のイオン交換サイトに存在すると考えら
れている。しかし、本発明者の検討結果によれば、強酸
性下(pf(2以下)のイオン交換しにくいような条件
で金泥イオンを担持したゼオライトは窒素ガス吸着容量
比が0.95〜0.9程度である。つまり、金泥イオン
は♀■孔内よりもゼオライト粒子表面のイオン交換サイ
1−に担持されていると考えられ、このような条件で調
装された触媒はゼオライト本来の細孔構造を有効に利用
していないことになり、これ力頌t S Ox性が低く
なる原因と考えられる。
は、i′■孔内のイオン交換サイトに存在すると考えら
れている。しかし、本発明者の検討結果によれば、強酸
性下(pf(2以下)のイオン交換しにくいような条件
で金泥イオンを担持したゼオライトは窒素ガス吸着容量
比が0.95〜0.9程度である。つまり、金泥イオン
は♀■孔内よりもゼオライト粒子表面のイオン交換サイ
1−に担持されていると考えられ、このような条件で調
装された触媒はゼオライト本来の細孔構造を有効に利用
していないことになり、これ力頌t S Ox性が低く
なる原因と考えられる。
これに対し、本発明の製造方法になる触媒は、窒素ガス
の吸着容正比が0.85以下てあり、細孔内に金泥イオ
ンを有効に担持している。従来の方法および本発明にな
る方法を反応式(H型ゼオライトへの金泥イオンの吸着
反応)で示すと下記のようになる。
の吸着容正比が0.85以下てあり、細孔内に金泥イオ
ンを有効に担持している。従来の方法および本発明にな
る方法を反応式(H型ゼオライトへの金泥イオンの吸着
反応)で示すと下記のようになる。
(従来)
1(・ゼオライト+M (I) ・A′;!M・ゼオ
ライト+I(・A (1)(本発明) 第4級アンモニウム使用: )−I・ゼオライト+M (1) ・A + C−O
H′;!M・ゼオライト十C−A+H20(2)他の含
窒素化合物使用: H・ゼオライト+M (1) ・0 4M・ゼオライl−+TI−D” (3)ここで、
M (I)は1価の金泥イオン、[I+は水素イオン、
OH−は水酸イオン、A−は酸、C+は添加するカチオ
ン(第4級アンモニウムイオン等)、Dはプロトンを取
込み可能な含窒素化合物である。
ライト+I(・A (1)(本発明) 第4級アンモニウム使用: )−I・ゼオライト+M (1) ・A + C−O
H′;!M・ゼオライト十C−A+H20(2)他の含
窒素化合物使用: H・ゼオライト+M (1) ・0 4M・ゼオライl−+TI−D” (3)ここで、
M (I)は1価の金泥イオン、[I+は水素イオン、
OH−は水酸イオン、A−は酸、C+は添加するカチオ
ン(第4級アンモニウムイオン等)、Dはプロトンを取
込み可能な含窒素化合物である。
従来の方法では、イオン交換後に生成する酸[(Aが溶
液のpHを低下させるため反応初期よりもp Hが低下
していく (式1)。これに対し、本発明では、添加物
により中和させるため、溶液のp■4は比較的高い状態
に保たれる(式2.3)。これにより細孔内まで金泥イ
オンが入ることが可能になると思われる。
液のpHを低下させるため反応初期よりもp Hが低下
していく (式1)。これに対し、本発明では、添加物
により中和させるため、溶液のp■4は比較的高い状態
に保たれる(式2.3)。これにより細孔内まで金泥イ
オンが入ることが可能になると思われる。
このようにして装造した触媒を用いると、活性成分(ま
たはゼオライト構造中のアルミニウム)に対する前記酸
性物質の攻撃が弱まり、長期にわたり活性を維持するこ
とができると考えられる。
たはゼオライト構造中のアルミニウム)に対する前記酸
性物質の攻撃が弱まり、長期にわたり活性を維持するこ
とができると考えられる。
本発明に使用されるゼオライトとしては、高シリカ組成
(S i02 / A e 20:l比が10以上)で
安定に存在するものが好ましく、例えば、モルデナイト
、フェリエライト、モーピルオイル社から発表された従
来より公知のZSM−5等があげられる。
(S i02 / A e 20:l比が10以上)で
安定に存在するものが好ましく、例えば、モルデナイト
、フェリエライト、モーピルオイル社から発表された従
来より公知のZSM−5等があげられる。
また、触媒成分として、銅(Cu)、バナジウム(V)
、鉄(F e)の遷移金泥化合物を屯独、または複数の
組合わせで用いることができる。上記遷移金属化合物の
例としては、酸化物、酸性酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、
ハロゲン化物、水酸化物、有機酸塩等があげられる。
、鉄(F e)の遷移金泥化合物を屯独、または複数の
組合わせで用いることができる。上記遷移金属化合物の
例としては、酸化物、酸性酸化物塩、硝酸塩、硫酸塩、
ハロゲン化物、水酸化物、有機酸塩等があげられる。
ゼオライトに、活性成分である前記遷移金泥化合物をイ
オン交換、または含浸により添加し、200°C程度ま
たはそれ以下の温度で充分に乾燥後、不活性ガスまたは
空気雰囲気下、800 ”C未?+Yi、好ましくは3
00℃から700℃の範囲で、通学は1時間ないし10
時間焼成することにより、本発明のゼオライト触媒が得
られる。
オン交換、または含浸により添加し、200°C程度ま
たはそれ以下の温度で充分に乾燥後、不活性ガスまたは
空気雰囲気下、800 ”C未?+Yi、好ましくは3
00℃から700℃の範囲で、通学は1時間ないし10
時間焼成することにより、本発明のゼオライト触媒が得
られる。
本発明において、ゼオライトのイオン交換の際に含窒素
化合物を添加し、p Hを上昇させてイオン交換反応を
促進するが、このような含窒素化合物としては、第4級
アンモニウム水酸化物(テトラブチルアンモニウム水酸
化物等)、アミン類(ヘキサミン等)、芳香族性含窒素
化合物(アニリン等)等のプロトンを取込み可能または
プロトンを中和可能な水溶性含窒素化合物が用いられる
。
化合物を添加し、p Hを上昇させてイオン交換反応を
促進するが、このような含窒素化合物としては、第4級
アンモニウム水酸化物(テトラブチルアンモニウム水酸
化物等)、アミン類(ヘキサミン等)、芳香族性含窒素
化合物(アニリン等)等のプロトンを取込み可能または
プロトンを中和可能な水溶性含窒素化合物が用いられる
。
この場合、水溶性の低い含窒素化合物を使用すると、プ
ロトンの取込みあるいはプロトンの中和が不充分となる
ため、水溶性の高いものの中から選ぶ必要がある。
ロトンの取込みあるいはプロトンの中和が不充分となる
ため、水溶性の高いものの中から選ぶ必要がある。
第4級アンモニウムイオンはゼオライ1−へのイオン交
換吸着性が高いため、その水酸化物は、ゼオライ1−の
細孔径に入らないような大きなサイズを有する(金泥イ
オンのイオン交換を妨害しない)ことが好ましい。第4
Ukアンモニウムイオンを構成する炭素数は12以上
、特に16以上が好ましい。
換吸着性が高いため、その水酸化物は、ゼオライ1−の
細孔径に入らないような大きなサイズを有する(金泥イ
オンのイオン交換を妨害しない)ことが好ましい。第4
Ukアンモニウムイオンを構成する炭素数は12以上
、特に16以上が好ましい。
アミン類は第2級アミン、第3級アミン、および第2級
アミンと第3級アミンからなるポリアミンから選ばれる
が、第4♀及アンモニウムイオンに比・校してイオン交
換性が低いためゼオラ−(+−\の吸着が起こりに<<
、比・校門炭素原子と窒素原子数の和の小さいものでも
使用可能である。アミン1J′i中の窒素、炭素原子数
の和が8以−J二、特に10以上のものが好ましい。
アミンと第3級アミンからなるポリアミンから選ばれる
が、第4♀及アンモニウムイオンに比・校してイオン交
換性が低いためゼオラ−(+−\の吸着が起こりに<<
、比・校門炭素原子と窒素原子数の和の小さいものでも
使用可能である。アミン1J′i中の窒素、炭素原子数
の和が8以−J二、特に10以上のものが好ましい。
芳香族性含窒素化合物としては、ピリジン誘導体、アニ
リン誘導体およびピl−1−ル銹導体から選ばれるが、
上記アミンよりもさらにイオン交換性が低いため、窒素
、炭素原子数のFrJが5以上、特に6以上のものが好
ましい。
リン誘導体およびピl−1−ル銹導体から選ばれるが、
上記アミンよりもさらにイオン交換性が低いため、窒素
、炭素原子数のFrJが5以上、特に6以上のものが好
ましい。
この場合、第4級アンモニウム以外の、金属イオンと錯
形成能力のある物質を使用したときは金属イオンとli
t体を作りにくいp t−i条件を選ぶ必要があるが(
例えば、ヘキサミンを添加し、■(−モルデナイトにバ
ナジルイオンを担持する場合はpH4以下)、一般には
pH2〜7が好ましい。
形成能力のある物質を使用したときは金属イオンとli
t体を作りにくいp t−i条件を選ぶ必要があるが(
例えば、ヘキサミンを添加し、■(−モルデナイトにバ
ナジルイオンを担持する場合はpH4以下)、一般には
pH2〜7が好ましい。
このようにして調製したゼオライト触媒は、そのまま、
あるいはTiO□などの粘合剤を添加した後、成型する
。成型物の形状は、粒状、ベレット状、粒状、ハニカム
状など任、図に選定することができ、各々の形状に適切
な成型成、例えば、押出し成型機、打錠機、転勤造粒機
などを使用して成型される。
あるいはTiO□などの粘合剤を添加した後、成型する
。成型物の形状は、粒状、ベレット状、粒状、ハニカム
状など任、図に選定することができ、各々の形状に適切
な成型成、例えば、押出し成型機、打錠機、転勤造粒機
などを使用して成型される。
上記のようにして成型した成型物は続いて加熱処理され
る。加熱処理は100°C程度またはそれ以下の温度に
加熱することによろく・z燥処理だけでも成型物の強度
の向上が認められるが、さらに高温で加熱するのが効果
的である。すなわち、加熱処理は、通常、不活性ガスま
たは空気雰囲気下、800℃未満、好ましくは300°
Cから700°Cの範囲で適宜選択される。焼成時間も
、触媒の物性および強度に形Y2を与えるが、通常は1
時間ないし10時間で好適に行なうことができる。
る。加熱処理は100°C程度またはそれ以下の温度に
加熱することによろく・z燥処理だけでも成型物の強度
の向上が認められるが、さらに高温で加熱するのが効果
的である。すなわち、加熱処理は、通常、不活性ガスま
たは空気雰囲気下、800℃未満、好ましくは300°
Cから700°Cの範囲で適宜選択される。焼成時間も
、触媒の物性および強度に形Y2を与えるが、通常は1
時間ないし10時間で好適に行なうことができる。
このような方法で!!造された触媒を使用して、排ガス
中のNOxを還元するには、本触媒に排ガスとアンモニ
アガスの混合ガスを300℃以上の温度で接触させれば
よい。
中のNOxを還元するには、本触媒に排ガスとアンモニ
アガスの混合ガスを300℃以上の温度で接触させれば
よい。
本発明の触媒を使用して、アンモニアの存在下にNOx
を還元分II#シた場合、高いl’J Q X分jW率
が(ワられるばかっでなく、排ガス中の触媒毒によって
劣化しにくく長時間高い活性をjイL持できる。
を還元分II#シた場合、高いl’J Q X分jW率
が(ワられるばかっでなく、排ガス中の触媒毒によって
劣化しにくく長時間高い活性をjイL持できる。
次に本発明を具体的な実施例により説明する。
例中、各特性の評価は下記のようQこ行なった。
(a>触媒活性の測定
実施例および比較例では、鉱物質含有率の高い石炭のし
4焼排ガスを想定した模擬ガスにより耐久試験を行なっ
た。触媒′BJ″成分としては、石炭中の鉱物yTとし
て一般に知られている硫ヒ鉄鉱の酸化生成物である三酸
化硫黄(So:l)と二酸化ヒ素()\5203)とを
藤気にしてガス中に添加した。
4焼排ガスを想定した模擬ガスにより耐久試験を行なっ
た。触媒′BJ″成分としては、石炭中の鉱物yTとし
て一般に知られている硫ヒ鉄鉱の酸化生成物である三酸
化硫黄(So:l)と二酸化ヒ素()\5203)とを
藤気にしてガス中に添加した。
ガス組成は、酸素3容ヱ%、炭酸ガス12容量%、水1
2容量%、NOx 200ppm、アンモニア2 =
10 p p m、二酸化硫黄500 p pm、 S
SO31Gpp、As201 2pptn、残部は窒素
である。この試験は、成型・焼成し、10〜20メツシ
ユにふる分けた191:媒2rn iに上記混合ガスを
空間速度120.000h−1で流通させて実施した。
2容量%、NOx 200ppm、アンモニア2 =
10 p p m、二酸化硫黄500 p pm、 S
SO31Gpp、As201 2pptn、残部は窒素
である。この試験は、成型・焼成し、10〜20メツシ
ユにふる分けた191:媒2rn iに上記混合ガスを
空間速度120.000h−1で流通させて実施した。
脱硝触媒性能は、上記耐久試験の前後で測定した。なお
、NOx含有量は、化学発光式NOxメータで測定し、
NOxの分解率(脱硝率)はN。
、NOx含有量は、化学発光式NOxメータで測定し、
NOxの分解率(脱硝率)はN。
Xの濃度をアンモニア添加前および後に測定し下記式に
よって算出した。
よって算出した。
(b)比表面積の測定
比表面積、細孔分布は、焼成・成型し、10〜20メツ
シユにふるい分けた触媒0.1〜0.5gをとり、QU
ANTACHROME社 AIJTO5ORB−1型ガ
ス吸着試験装置を用いて測定した。
シユにふるい分けた触媒0.1〜0.5gをとり、QU
ANTACHROME社 AIJTO5ORB−1型ガ
ス吸着試験装置を用いて測定した。
比表面積は、相対圧力(P/Po)が0.025〜0.
3におけるB、E、T、多点法により算出した。本発明
で使用したゼオライトのガス吸着グおよび比表面積を第
1表に示す。
3におけるB、E、T、多点法により算出した。本発明
で使用したゼオライトのガス吸着グおよび比表面積を第
1表に示す。
なお、H型モルデナイトは東洋曹達工業(株)栗のTS
Z−650XOAを、11型Z S M −5は掌性に
より合成(例えば小泉光忠、上田智;触媒、25.21
1 (1983))したちの、フェリエライトは東洋
曹達製のものを使用した。
Z−650XOAを、11型Z S M −5は掌性に
より合成(例えば小泉光忠、上田智;触媒、25.21
1 (1983))したちの、フェリエライトは東洋
曹達製のものを使用した。
第1表
実施例1
硫酸銅水溶液(CuJA度12g/N)500mlと、
平均粒子径60メソシユのH型モルデナイ)(SiO□
/A7!2C)+=23、細孔i子7人)100gの混
合液にテトラブチルアンモニウム水酸化物を添加してp
H4とする。これを80℃で24時間攪拌して充分にイ
オン交換させる。その後、濾過・水洗し、180℃で乾
燥後、500℃で2時間、空気雰囲気下で焼成して銅を
担持したモルデナイト(以下、Cu−モルデナイトと略
記する)を得た。Cu含iT率は2.5 w t%であ
った。
平均粒子径60メソシユのH型モルデナイ)(SiO□
/A7!2C)+=23、細孔i子7人)100gの混
合液にテトラブチルアンモニウム水酸化物を添加してp
H4とする。これを80℃で24時間攪拌して充分にイ
オン交換させる。その後、濾過・水洗し、180℃で乾
燥後、500℃で2時間、空気雰囲気下で焼成して銅を
担持したモルデナイト(以下、Cu−モルデナイトと略
記する)を得た。Cu含iT率は2.5 w t%であ
った。
次に、このCu−モルデナイトを10gとり、これをプ
レス成型機で10φX3Lの円筒状に成型した後、50
0°Cで2時間、空気雰囲気下で焼成した。これを粉砕
して、10〜20メツシユにふるい分けたものを触媒と
した。
レス成型機で10φX3Lの円筒状に成型した後、50
0°Cで2時間、空気雰囲気下で焼成した。これを粉砕
して、10〜20メツシユにふるい分けたものを触媒と
した。
実施例2
酢酸銅水溶液(Cu 濃度12g/7り500rnlと
、平均粒子径60メソシュのI]型モルデナイト (S
iO□/ AI! 203 = 23、h′旧孔i条7
人)100gにアニリンを加え、pH4とする。これを
80℃で24時間攪拌して充分にイオン交換させる。そ
の後、濾過・水洗し、180°Cで乾燥後、s o o
”cで2時間、空気雰囲気下で焼成して銅を1u持し
たモルデナイトを得た。Cu含有率は3.0wt%であ
った。
、平均粒子径60メソシュのI]型モルデナイト (S
iO□/ AI! 203 = 23、h′旧孔i条7
人)100gにアニリンを加え、pH4とする。これを
80℃で24時間攪拌して充分にイオン交換させる。そ
の後、濾過・水洗し、180°Cで乾燥後、s o o
”cで2時間、空気雰囲気下で焼成して銅を1u持し
たモルデナイトを得た。Cu含有率は3.0wt%であ
った。
次に、実施例1と同様にして10〜20メツシユの触媒
を得た。
を得た。
実施例3
実施例1のテトラブチルアンモニウム水酸化物に変えて
、テトラプロピルアンモニウム水酸化物を使用し、以下
同様にして触媒を得た。
、テトラプロピルアンモニウム水酸化物を使用し、以下
同様にして触媒を得た。
実施例4〜6
実施例2のアニリンに変えてピロール、ビリジ〉′、2
メチル−ピリジン(オルト−トル・イジン)を使用し、
同様にして触媒を得た。
メチル−ピリジン(オルト−トル・イジン)を使用し、
同様にして触媒を得た。
実施例7
実施例1の硝酸銅を塩化第一鉄に変えて同様の方法によ
り触媒を1盟した。得られた触媒のFe含有率は0.3
35/6であった。
り触媒を1盟した。得られた触媒のFe含有率は0.3
35/6であった。
実施例8
硫酸バナジル水溶液(バナジウム濃度12g/!り
500mffに、平均粒子径60メツシユのH型モルデ
ナ・イト(SiO□/ A N 203 = 23.1
゛■孔径7人)10’Ogを加え、ヘキサミンを添加し
てpH4とする。これを80°Cで24時間m t’p
して充分にイオン交換させる。その後、濾過・水洗し、
180℃で乾燥後、500℃で2時間、空気雰囲気下で
焼成してバナジウム(V)をI旦持したモルデナイトを
iqた。■含有率はl、 2w t%であった。次に、
実施例1と同様にして10〜20メソシユの触媒を得た
。
500mffに、平均粒子径60メツシユのH型モルデ
ナ・イト(SiO□/ A N 203 = 23.1
゛■孔径7人)10’Ogを加え、ヘキサミンを添加し
てpH4とする。これを80°Cで24時間m t’p
して充分にイオン交換させる。その後、濾過・水洗し、
180℃で乾燥後、500℃で2時間、空気雰囲気下で
焼成してバナジウム(V)をI旦持したモルデナイトを
iqた。■含有率はl、 2w t%であった。次に、
実施例1と同様にして10〜20メソシユの触媒を得た
。
実施例9〜10
実施例1のモルデナイトをフェリエラ・イトおよび従来
より公知のZSM−5に変えて同(口の方法により触媒
を1盟した。
より公知のZSM−5に変えて同(口の方法により触媒
を1盟した。
実施例11
実施例1の硫酸銅水溶液を、硫酸銅(Cu濃度6 g
/ E )と硫酸第一鉄(FeQfi度6 g / e
)の混合水溶液500m4に変えて以下同様にして触
媒を得た。得られた触媒のCu含有量は1.6%、Fe
含¥rrlは1.5%であった。
/ E )と硫酸第一鉄(FeQfi度6 g / e
)の混合水溶液500m4に変えて以下同様にして触
媒を得た。得られた触媒のCu含有量は1.6%、Fe
含¥rrlは1.5%であった。
実施例12
実施例1の硫酸銅水溶液を、硫酸銅(CLJ )/2度
6 g / 12 )と硫酸バナジル(961度6 g
/ (! )の混合水溶液50 QmJに変えて以下
同様にして1Qll:媒を得た。t2)られた触媒のC
u含有量は1.7%、V含0′岳は0.6%であった。
6 g / 12 )と硫酸バナジル(961度6 g
/ (! )の混合水溶液50 QmJに変えて以下
同様にして1Qll:媒を得た。t2)られた触媒のC
u含有量は1.7%、V含0′岳は0.6%であった。
実施例13
実施例1の硫酸ルj水溶液を、硫酸銅(Cu湿度6g/
6)、硫酸バナジル(V濃度6g/β)および硫酸第一
鉄(Fe濃度6 g / l )の混合水溶液500
m eに変えて以下同様にして触媒を得た。
6)、硫酸バナジル(V濃度6g/β)および硫酸第一
鉄(Fe濃度6 g / l )の混合水溶液500
m eに変えて以下同様にして触媒を得た。
得られた触媒のCu含有量は1.7%、■含有量は0.
6%、Fe含有量は1.5%であった。
6%、Fe含有量は1.5%であった。
比・校例1
実施例1のテトラブチルアンモニウム水酸化物なしで、
同様の操作により触媒を得た。
同様の操作により触媒を得た。
比較例2
硝酸銅(Cum最0.6g)と平均粒子径60メツシユ
の11型モルデナイト(SiO□/ A I!20コー
23、細孔径7人)を小母の水を添加して混練し、乾燥
後実施例1と同様にして触媒をm盟した。
の11型モルデナイト(SiO□/ A I!20コー
23、細孔径7人)を小母の水を添加して混練し、乾燥
後実施例1と同様にして触媒をm盟した。
Cuの含有率は3wt%であった。
比較例3
酢酸銅(Cu重!i’tO,6g)と平均粒子径60メ
ソシユの11型モルデナイト(S i O2/ A I
! 20コー23.1■孔径7人)を小量の水を添加し
て混練し、乾燥後実施例1と同様にして触媒を調装した
。
ソシユの11型モルデナイト(S i O2/ A I
! 20コー23.1■孔径7人)を小量の水を添加し
て混練し、乾燥後実施例1と同様にして触媒を調装した
。
Cuの含有率は3 w t%であった。
比較例4
ヘキサミンの添加、pI−fの調整をしないで実施例3
と同様のiQ4!媒を得た(ハナジウムーモルデナ2イ
1−系)。触媒のV含右量は0.01 w t %であ
った。
と同様のiQ4!媒を得た(ハナジウムーモルデナ2イ
1−系)。触媒のV含右量は0.01 w t %であ
った。
実験例1
実施例1と比・咬例1および2の触媒について耐久試験
時間に対する脱硝率の変化をプl:J ’71〜したも
のが第1図である。図から明らかなように、本発明にな
る触媒は高い初期活性を有するばかりでなく、A!12
03やSOx等の触媒毒に対しても高い抵抗力を有する
ことがわかる。
時間に対する脱硝率の変化をプl:J ’71〜したも
のが第1図である。図から明らかなように、本発明にな
る触媒は高い初期活性を有するばかりでなく、A!12
03やSOx等の触媒毒に対しても高い抵抗力を有する
ことがわかる。
実験例2
実施例1〜12の触媒と比較例1〜・tについて耐久試
験を行なった。その帖果をまとめて第2:Aに示す。本
発明による触媒は、iit来の製造性によるものに比較
して耐久性が高いことが示される。
験を行なった。その帖果をまとめて第2:Aに示す。本
発明による触媒は、iit来の製造性によるものに比較
して耐久性が高いことが示される。
また、活性成分を2種類以上担持したもの(実施例11
.12.13)も、1種類のものと同等の活性を示した
。
.12.13)も、1種類のものと同等の活性を示した
。
第 2 表
〔発明の効果〕
本発明によれば、排ガス中の触媒毒、特にSOXによる
劣化の少ない触媒が得られろ。したがって、従来の合成
法による遷移全屈元素担持ゼオライト系触媒では、区時
間の使用で触媒活性の劣化が避けられなかったヒ素子、
セレン化合物等の揮発性触媒毒とSOxが多量に共存す
る排ガスの脱硝が長時間にわたり安定した触媒活性を維
持した状態で可能となる。
劣化の少ない触媒が得られろ。したがって、従来の合成
法による遷移全屈元素担持ゼオライト系触媒では、区時
間の使用で触媒活性の劣化が避けられなかったヒ素子、
セレン化合物等の揮発性触媒毒とSOxが多量に共存す
る排ガスの脱硝が長時間にわたり安定した触媒活性を維
持した状態で可能となる。
第1図は、実施例1と比較例1および2の触媒の初間性
fiヒと耐久試験後の活性を示す図である。
fiヒと耐久試験後の活性を示す図である。
Claims (3)
- (1)金属イオンを担持したゼオライトを使用し、アン
モニアにより窒素酸化物を接触還元除去する触媒の製造
方法において、ゼオライトと金属塩水溶液またはオキシ
金属塩水溶液との混合物に含窒素化合物を添加すること
により、液のpHを上昇させてイオン交換を充分行った
後、乾燥、焼成して金属担持ゼオライトを製造すること
を特徴とする窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方
法。 - (2)特許請求範囲第1項において、該含窒素化合物が
、水溶性で炭素原子数12以上を有する第4級アンモニ
ウムイオン、窒素と炭素原子数の和が8以上で水溶性の
第2級アミン、第3級アミンおよび第2級、第3級アミ
ンからなるポリアミン、窒素と炭素原子数の和が6以上
で水溶性のピリジン誘導体またはアニリン誘導体、およ
び窒素と炭素原子数の和が5以上で水溶性のピロール誘
導体から選ばれた少なくとも1種の化合物であることを
特徴とする窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法
。 - (3)特許請求範囲第1項において、該金属が銅、鉄お
よびバナジウムから選ばれた少なくとも1種であること
を特徴とする窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62073731A JPS63240950A (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62073731A JPS63240950A (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63240950A true JPS63240950A (ja) | 1988-10-06 |
Family
ID=13526672
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62073731A Pending JPS63240950A (ja) | 1987-03-27 | 1987-03-27 | 窒素酸化物の接触還元除去用触媒の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63240950A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007222742A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 窒素酸化物選択還元触媒及びその製造方法 |
-
1987
- 1987-03-27 JP JP62073731A patent/JPS63240950A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007222742A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-09-06 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 窒素酸化物選択還元触媒及びその製造方法 |
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