JPS63233980A - ２−アシルフラン誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、一般式（り ○ （式中、ＲはＣ！〜Ｃ！−のアルキル基、Ｃ３〜Ｃ−の
アルケニル基、Ｃ３〜Ｃ１〜Ｃ５のアルキニル基、Ｃ４
〜Ｃ７の環状アルキル基、フェニル基、０１〜Ｃ２〜Ｃ
８のアルキル基またはＣ１％　Ｃ，のアルコキシル基ま
たはハロゲン原子で置換された一置換または二置換のフ
ェニル基、ｃｒ〜Ｃ１ｌのアラルキル基ｓＣ１〜Ｃ１の
アルコキシル基で置換されたＣ！〜Ｃ，のアルキル基ま
たは０２〜Ｃ・のアルコキシカルボニル基で置換された
Ｃ、　、　Ｃ，のアルキル基を表わし、Ｒ１は水素原子
または０１〜Ｃ１のアルキル基を表わす） で示される２−アシルフラン誘導体の製造法に関する。

〈従来の技術〉 上記一般式（Ｉ）で示される２−アシルフラン誘導体は
、医、Ｒ薬中間体、とりわけプロスタグランジン中間体
として極めて重要である。

従来より、このような２−アシルフラン誘導体の製造法
としては種々の方法が知られており、その代表的なもの
として以下に示す方法が例示される。

（ａ）　　Ｊ、Ｃ，Ｓ、、　　１）２２６２（１９６２
＞（扮　Ｊ、Ｃ，Ｓ、、　　ｐ２７２８　　（１９６８
）（Ｃ）　　米国特許第４，２５４．０４８１〈発明が
解決しようとする問題点〉 しかしながら、上記（ａ）および■の方法は収率が低く
、また（Ｃ）の方法は反応に使用する試薬が非常に高価
であって、工業的な製造法として必ずしも満足し得るも
のではなかった。

このようなことから本発明者らは、かかる問題点を解決
し、安価に、しかも収率よく工業的有利に一般式（１）
で示される２−アシルフラン誘導体を製造すべく検討の
結果、本発明に至った。

〈問題点を解決するための手段〉 本発明は、一般式（ＩＩ） ＲＣＯＯＥ　　　　（ｎ） （式中、Ｒは前記と同じ意味を有する）（式中、Ｒ１は
前記と同じ意味を有する）で示されるフラン化合物を、
一般式■ （ＸＹＣＨＣＯ）、Ｏ＠ （式中、ＸおよびＹは水素原子、塩素原子または臭素原
子を表わす。但し、ＸおよびＹが同時に水素原子である
ことはない） で示される酸無水物の存在下、溶媒中、三弗化ホウ素も
しくは三弗化ホウ素コンプレックスを触媒として反応さ
せることを特徴とする前記一般Ｅ　（Ｉ）で示される２
−アシルフラン誘導体の製造法を提供するものである。

本発明において使用される一般式（ＩＩ）で示されるカ
ルボン酸として、具体色には次の化合物が例示される。

（１）酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、
イソ吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン戯、ラ
ウリル酸、デカン酸、ステアリン酸等のＣ，、Ｃ！、―
の脂肪族カルボン酸。

（Ｉ）　　アクリル酸、クロトン酸、トランス−２−ペ
ンテン酸、４−ペンテン酸、トランス−２−ヘキセン酸
、トランス−８−ヘキセン酸、シス−３−ヘキセン酸、
トランス−２−メチル−２−ペンテン酸、４−ペンテン
酸等の０３〜Ｃ１〜Ｃ５の脂肪族不飽和カルボン酸。

（Ｉｍ）　　シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサ
ンカルボン酸等の０４〜Ｃ１〜Ｃ５の環状脂肪族飽和カ
ルボン酸。

ＯＶ）　　安息香酸、４−メチル安息香酸、２，４−ジ
メチル安息香酸、４−メトキシ安息香酸、４−ブロモ安
息香酸等の無置換またはＣ１〜Ｃ１のアルキル基、ある
いはＣ，−、−Ｃ３のアルコキシル基あるいはハロゲン
で置換された一置換または二置換の芳香族カルボン酸。

（Ｖ）フェニル酢酸、８−フェニルプロピオン酸、２−
メチル−２−フェニル酢酸等の０１〜Ｃ１ｆｆ１のアラ
ルキルカルボン酸。

（ｖＯ″８−メトキシプロピオン酸、５−ヱトキシペン
タン酸、ブトキシペンタン酸、６−メドキシヘキサン酸
、コハク酸モノエチル、グルタル酸モノメチル、スペリ
ン酸モノメチル等のＣ１，Ｃｓのアルコキシ基または０
２〜Ｃ・のアルコキシカルボニル基で置換されたＣ鵞〜
Ｃ−の脂肪族カルボン酸。

また、一般式＠）で示されるフラン化合物としては、フ
ラン、２−メチルフラン、２−エチルフラン等があげら
れる。

また、一般式に）“で示される酸無水物としては無水ク
ロロ酢酸、無水ブロモ酢酸、無水ジクロロ酢酸等が挙げ
られる。

触媒としては三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレ
ックスが使用されるが、好ましくは三弗化コンプレック
スであり、その具体例トＬ　”Ｃ”　ｌｉ　”ｓ　・（
Ｃｘ　Ｈｓ　）２０　、ＢＦｓ　−２ＣＨｓ　ＯＨ。

ＢＦ、　−ＣＨ，ＧＯＯＦｌなどが挙げられる。

本発明の方法において、一般式（！！Ｏで示されるフラ
ン化合物の使用量は、一般式（π）で示されるカルボン
酸に対して１当な以上必要であり、好ましくは１．２〜
１．５当量である。

一般式四で示される酸無水物の使用量は、一般式（田で
示されるカルボン酸に対して１当量以上必要であり、好
ましくは１．１〜１．８当量である。

また・触媒としての三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コ
ンプレックスの使用量は、一般式（ＩＩ）で示されるカ
ルボン酸に対して通常０．０２〜０．２当量であるが、
この使用量は何ら限定的なものではなく、それ以上に使
用しても差し支えない。

本反応は溶媒中で行われ、その溶媒としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳ｉ族炭化水素、四塩化炭素、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエチレ
ン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が好
ましく使用され、これらは単独であっても２種以上の混
合物として使用してもよい。かかる溶媒の使用量につい
ては特に制限されない。

反応温度は一５〜１６０℃の範囲であるが、好ましくは
１５〜７５℃の範囲である。

反応時間はそれぞれの反応条件によって適宜変わり、何
ら限定的でないが、通常０．５〜２０時間である。

このような反応によって得られた反応混合物は、通常の
後処理の後、必要に応じて蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等の方法によって精製することにより、目的とする
一般式ＣＩ）で示される２−アシルフラン誘導体を高収
率で得ることができる。

〈発明の効果〉 かくして、本発明の方法によれば、一般式（ＴＩ）で示
されるカルボン酸および一般式（２）で示されるフラン
化合物から目的とする一般式（１）で示される２−アシ
ルフラン誘導体を工業的有利に製造することができ、特
に本発明において反応助剤として使用される酸無水物や
三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレックス等の試
薬は工業的規模において安価に入手可能であるところか
ら、本発明の工業的利用価値を一層有利なものとする。

〈実施例〉 以下、実施例により本発明を説明する。

実施例１ ９．４１　Ｆ　（０，０５モル）のスペリン酸モノメｆ
　ｋ　Ｚ　スｆ　７１／　；ｔｄよび９．８８　Ｆ（０
，０５７５モル）の無水モノク、ロロ酢酸を５０ｔ／の
トルエンに溶解し、これに４．４８ｆＰ（０，０６５モ
ル）のフランおよび０．７１Ｐの三弗化ホウ素ジエチル
エーテルコンプレックスを加えたのち、５０°Ｃで６時
間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し、水、５％炭酸
ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸
マグネシウムで乾燥する。乾燥した有機１を減圧下に濃
縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマト
グラフィーにより精製して１１？の２−（７−メドキシ
カルボニルー１−オキソヘプチル）−フランを得た。　
収率９２．８％ ｂ、ｐ　　１８５〜１８７℃１０．８５ｆｆＨｆ実施例
２ ６．５１５’（０，０５モル）のへブタン酸および１０
、２６　ｆｉｌ　（０，０６モル）の無水モノクロロ酢
酸を５０ｔｔｌのトルエンに溶解し、これに４．４８ｊ
ｌ’（０，０６５モル）のフランおよび０．７１４の三
弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えたの
ち、５０°Ｃで５．５時間攪拌する。反応終了後反応液
を冷却し、６％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを
充填したカラムクロマトグラフィーにより精製して８．
２１の２−ヘプタノイルフランを得た。収率９１９６ｎ
”　　１．４８２４ 実施例３〜１２ ヘプタン酸に代えて表−１に示すカルボン酸（０，０５
モル）を使用し、表−１に示す反応条件とする以外は実
施例２と同様に反応、後処理し、衰−１に示す結果を得
た。

但し、実施例７ではカラムクロマトグラフィーによる精
製は行わなかった。

実施例１８ ８．７５’（０，０５モル）のプロピオン酸および１０
．２６Ｐ（０，０６モル）の無水モノクロロ酢酸を５０
ｄのトルエンに溶解し、これに５．８６ｆ（０，０６５
モル）の２−メチルフランおよび０、７　Ｉ　Ｐの三弗
化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えたのち
、６０℃で７時間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し
、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機
層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填した
カラムクロマトグラフィーにより精製して２．９６Ｆの
２−プロピオニル−５−メチルフランを得た。　　収率
４２．８９６ ｎ！７°”　　　１．５０７８ 実施例１４ ６．５１Ｆ（０，０５モル）のへブタン酸および１０．
２６Ｆ（０，０６モル）の無水モノクロロ酢酸を５０ｍ
のトルエンに溶解し、これに５．８乙？　（０，０６５
モル）の２−メチルフランおよび０．７１Ｐの三弗化ホ
ウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えたのち、５
０℃で６．６時間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し
、５９６炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して６．２７　
Ｆの２−ヘプタノイル−５−メチルフランを得た。

収率　　６９．６％ ｎ””　　１．４９００ 実施例１６ ６．５１Ｐ（０，０５モル）のへブタン酸、４．４８５
１−（０，０６５モル）のフランおよび１４．８９Ｆ（
０，０６モル）の無水ジクロロ酢酸を５０ｍ１のトルエ
ンに溶解する。これに０．７１？の三弗化ホウ素ジエチ
ルエーテルコンプレックスを加え、６０°Ｃで８時間攪
拌する。反応終了後反応液を冷却し、５％炭酸ナトリウ
ム水溶液、水で順次洗浄する。有機ｎを減圧下に濃縮後
、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラ
フィーにより精製して８．９５Ｐの２−ヘプタノイルフ
ランを得た。

収率　　９９．８％ ｎ！４°’　　１．４８２８ 実施例１６ ７．８１？（０，０５モル）のモノメチルグルタル酸、
４．４ＢＰ（０，０６５モル）のフランおよび１４．８
９Ｆ（０，０６モル）の無水ジクロロ酢酸を５０ゴのト
ルエンに溶解する。これに０．７１？の三弗化ホウ累ジ
エチルエーテルコンプレックスを加え、５０°Ｃで８時
間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し、６％炭酸ナト
リウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に濃
縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマト
グラフィーにより精製して９．５４　Ｐの２−（４−メ
トキシカルボニルブチリル）フランを得た。

収率　９４．５％ ｍ、ｐ　４２．５℃ 実施例１７ ４．４１？（０，０５モル）のイソ酪酸、５．３６ｆ　
（０，０６５モル）の２−メチルフランおよび１４．８
９Ｆ（０，０６モル）の無水ジクロロ酢酸を５０１ｍ／
のトルエンに溶解する。これに０．７１？の三弗化ホウ
素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、５０°Ｃで
８時間攪拌４″る。反応終了後反応液を冷却し、６％炭
酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧
下に濃縮後、ｍ縮残液をシリカゲルを充填したカラムク
ロマトグラフィーにより１ｕｌｌして６７４Ｆの２−イ
ソブチリル−５−メチルフランを得た。

収率　　８８．６％ ｎ２４・’　　１．４９８９ 実施例１８ ７．８１？（０，０５モル）の６−メドキシヘキサン酸
、４．４８？（０，０６５モル）のフランおよび１４．
８９　Ｆ　（０，０６モル）の無水ジクロロ酢酸を６０
−のトルエンに溶解する。これに０．７１１の三弗化ホ
ウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、５０°Ｃ
で８時間攪拌する。

反応終了後反応液を冷却し、５％炭酸ナトリウム水溶液
、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に２１３縮後、濃
縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマトグラフィ
ーにより精製して８．８８？の２−（６−メドキシヘキ
サノイル）フランを得た。

収率　　９０９６ ｎ２′′１．５１８２ 実施例１９ ４．８１ｙ−（０，０５モル）のクロトン酸、４．４８
Ｓ’　（０，０６５モル）のフランおよび１０．２６Ｆ
（０，０６モル）の無水モノクロロ酢酸を５０ｍのトル
エンに溶解する。これに０．７ＩＰの三弗化ホウ素ジエ
チルエーテルコンプレックスを加え、５０℃で６．５時
間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し、水、５９６炭
酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧
下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムク
ロマトグラフィーにより精製して２．８？の２−クロト
ニルフランを得た。収率　　４１．１９６ｎ”　　　１
．４２８８ 実施例２０ ９．４１？（０，０５モル）のスペリン酸モノメチルエ
ステルおよび９．８８　Ｐ　Ｃ０，０５７５モル）の無
水モノクロロ酢酸をＳｏｄのトルエンに溶解し、ξれに
４．４８ＳＬ（０，０６５モル）のフランおよび１．０
Ｐの三弗化ホウ素酢酸コンプレックスを加え、６０℃で
８時間攪拌する。反応終了後反応液を冷却し、５％炭酸
すトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下
にａｍ後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィーにより精製して１０．　Ｉ　Ｆの２−（
７−メドキシカルボニルー１−オキソヘプチル）フラン
を得た。

収率　８５％ ｂ、り　　１８５〜１８７１０．Ｂ　６ｔｔｒｍＨＰ実
施例２１〜２４ スペリン酸モノメチルエステルに代えて表−２に示すカ
ルボン酸（０，０５モル）を使用する以外は実施例２０
と同様に反応、後処理し、表−２に示す結果を得た。

比較例　１ クロトン酸クロライド５．２３　　ｇ　（０，０５モル
）およびフラン３．４　ｇ　（０，０５モル）の混合物
に、１．２−の三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレ
ックスを０℃で滴下し、その後１時間撹拌を続ける。

反応終了後、反応液に水５Ｍを加え、水層を３０ｄのエ
ーテルで抽出処理する。有機層を水、５％重曹水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層を減圧下
に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィーにより精製して０．８８　ｇの２−クロ
トニルフランを得た。　　収率　１０％ 比較例　２ クロトン酸クロライドおよびフランに代えてプロピオン
酸クロライドおよび２−メチルフランをそれぞれ０．０
５モル使用する以外は比較例１に準じて反応、後処理を
行って、２−プロピオニル−５−メチルフランを収率１
２．１％で得た。

比較例　３ クロトン酸クロライドに代えてベンゾイルクロライドを
０．０５モル使用する以外は比較例１に準じて反応、後
処理を行ったが、目的とした２−ベンゾイルフランは単
離できず、その生成が確認できなかった。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ＲＣＯＯＨ （式中、ＲはＣ＿１〜Ｃ＿１＿３のアルキル基、Ｃ＿３
   〜Ｃ＿８のアルケニル基、Ｃ＿３〜Ｃ＿８のアルキニル
   基、Ｃ＿４〜Ｃ＿７の環状アルキル基、フェニル基、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿５のアルキル基またはＣ＿１〜Ｃ＿５のアル
   コキシル基またはハロゲン原子で置換された一置換また
   は二置換のフ ェニル基、Ｃ＿７〜Ｃ＿１＿２のアラルキル基、Ｃ＿１
   〜Ｃ＿５のアルコキシル基で置換されたＣ＿２〜Ｃ＿５
   のアルキル基またはＣ＿２〜Ｃ＿６のアルコキシカルボ
   ニル基で置換されたＣ＿２〜Ｃ＿８のアルキル基を表わ
   す。） で示されるカルボン酸と、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は水素原子またはＣ＿１〜Ｃ＿３のアル
   キル基を表わす） で示されるフラン化合物を、一般式 （ＸＹＣＨＣＯ）＿２Ｏ （式中、ＸおよびＹは水素原子、塩素原子または臭素原
   子を表わす。但し、ＸおよびＹが同時に 水素原子であることはない） で示される酸無水物の存在下、溶媒中、三弗化ホウ素も
   しくは三弗化ホウ素コンプレックスを触媒として反応さ
   せることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ＲおよびＲ＿１は前記と同じ意味である） で示される２−アシルフラン誘導体の製造法。
2. （２）溶媒が芳香族炭化水素またはハロゲン化炭化水素
   である特許請求の範囲第１項に記載の製造方法。