JPH0778056B2 - ２−アシルフラン誘導体の製造方法 - Google Patents
２−アシルフラン誘導体の製造方法Info
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- JPH0778056B2 JPH0778056B2 JP62229422A JP22942287A JPH0778056B2 JP H0778056 B2 JPH0778056 B2 JP H0778056B2 JP 62229422 A JP62229422 A JP 62229422A JP 22942287 A JP22942287 A JP 22942287A JP H0778056 B2 JPH0778056 B2 JP H0778056B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、一般式（Ｉ） （式中、ＲはC1〜C18のアルキル基、C3〜C8のアルケニ
ル基、C3〜C8のアルキニル基、C4〜C7の環状アルキル
基、フェニル基、C1〜C5のアルキル基またはC1〜C5のア
ルコキシル基またはハロゲン原子で置換された一置換ま
たは二置換のフェニル基、C7〜C12のアラルキル基、C1
〜C5のアルコキシル基で置換されたC2〜C8のアルキル基
またはC2〜C6のアルコキシカルボニル基で置換されたC2
〜C8のアルキル基を表わし、R1は水素原子またはC1〜C3
のアルキル基を表わす） で示される２−アシルフラン誘導体の製造法に関する。
ル基、C3〜C8のアルキニル基、C4〜C7の環状アルキル
基、フェニル基、C1〜C5のアルキル基またはC1〜C5のア
ルコキシル基またはハロゲン原子で置換された一置換ま
たは二置換のフェニル基、C7〜C12のアラルキル基、C1
〜C5のアルコキシル基で置換されたC2〜C8のアルキル基
またはC2〜C6のアルコキシカルボニル基で置換されたC2
〜C8のアルキル基を表わし、R1は水素原子またはC1〜C3
のアルキル基を表わす） で示される２−アシルフラン誘導体の製造法に関する。
＜従来の技術＞ 上記一般式（Ｉ）で示される２−アシルフラン誘導体
は、医、農薬中間体、とりわけプロスタグランジン中間
体として極めて重要である。
は、医、農薬中間体、とりわけプロスタグランジン中間
体として極めて重要である。
従来より、このような２−アシルフラン誘導体の製造法
として種々の方法が知られており、その代表的なものと
して以下に示す方法が例示される。
として種々の方法が知られており、その代表的なものと
して以下に示す方法が例示される。
（ａ） J.C.S.,p2262（1962） （ｂ） J.C.S.,p2723（1963） （ｃ） 米国特許第4,254,043号 ＜発明が解決しようとする問題点＞ しかしながら、上記（ａ）および（ｂ）の方法は収率が
低く、また（ｃ）の方法は反応に使用する試薬が非常に
高価であって、工業的な製造法として必ずしも満足し得
るものではなかった。
低く、また（ｃ）の方法は反応に使用する試薬が非常に
高価であって、工業的な製造法として必ずしも満足し得
るものではなかった。
このようなことから本発明者らは、かかる問題点を解決
し、安価に、しかも収率よく工業的有利に一般式（Ｉ）
で示される２−アシルフラン誘導体を製造すべく検討の
結果、本発明に至った。
し、安価に、しかも収率よく工業的有利に一般式（Ｉ）
で示される２−アシルフラン誘導体を製造すべく検討の
結果、本発明に至った。
＜問題点を解決するための手段＞ 本発明は、一般式（II） RCOOH （II） （式中、Ｒは前記と同じ意味を有する） で示されるカルボン酸と、一般式（III） （式中、R1は前記と同じ意味を有する）で示されるフラ
ン化合物を、一般式（IV） （XYCHCO）2O （IV） （式中、ＸおよびＹは水素原子、塩素原子または臭素原
子を表わす。但し、ＸおよびＹが同時に水素原子である
ことはない） で示される酸無水物の存在下、溶媒中、三弗化ホウ素も
しくは三弗化ホウ素コンプレックスを触媒として反応さ
せることを特徴とする前記一般式（Ｉ）で示される２−
アシルフラン誘導体の製造法を提供するものである。
ン化合物を、一般式（IV） （XYCHCO）2O （IV） （式中、ＸおよびＹは水素原子、塩素原子または臭素原
子を表わす。但し、ＸおよびＹが同時に水素原子である
ことはない） で示される酸無水物の存在下、溶媒中、三弗化ホウ素も
しくは三弗化ホウ素コンプレックスを触媒として反応さ
せることを特徴とする前記一般式（Ｉ）で示される２−
アシルフラン誘導体の製造法を提供するものである。
本発明において使用される一般式（II）で示されるカル
ボン酸として、具体的には次の化合物が例示される。
ボン酸として、具体的には次の化合物が例示される。
（ｉ） 酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉酸、
イソ吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ラ
ウリル酸、デカン酸、ステアリン酸等のC1〜C18の脂肪
族カルボン酸。
イソ吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ラ
ウリル酸、デカン酸、ステアリン酸等のC1〜C18の脂肪
族カルボン酸。
（ii） アクリル酸、クロトン酸、トランス−２−ペン
テン酸、４−ペンテン酸、トランス−２−ヘキセン酸、
トランス−３−ヘキセン酸、シス−３−ヘキセン酸、ト
ランス−２−メチル−２−ペンテン酸、４−ペンテン酸
等のC3〜C8の脂肪族不飽和カルボン酸。
テン酸、４−ペンテン酸、トランス−２−ヘキセン酸、
トランス−３−ヘキセン酸、シス−３−ヘキセン酸、ト
ランス−２−メチル−２−ペンテン酸、４−ペンテン酸
等のC3〜C8の脂肪族不飽和カルボン酸。
（iii） シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサン
カルボン酸等のC4〜C8の環状脂肪族飽和カルボン酸。
カルボン酸等のC4〜C8の環状脂肪族飽和カルボン酸。
（iv） 安息香酸、４−メチル安息香酸、2,4−ジメチ
ル安息香酸、４−メトキシ安息香酸、４−ブロモ安息香
酸等の無置換またはC1〜C3のアルキル基、あるいはC1〜
C3のアルコキシル基あるいはハロゲンで置換された一置
換または二置換の芳香族カルボン酸。
ル安息香酸、４−メトキシ安息香酸、４−ブロモ安息香
酸等の無置換またはC1〜C3のアルキル基、あるいはC1〜
C3のアルコキシル基あるいはハロゲンで置換された一置
換または二置換の芳香族カルボン酸。
（ｖ）フエニル酢酸、３−フエニルプロピオン酸、２−
メチル−２−フエニル酢酸等のC7〜C12のアラルキルカ
ルボン酸。
メチル−２−フエニル酢酸等のC7〜C12のアラルキルカ
ルボン酸。
（vi） ３−メトキシプロピオン酸、５−エトキシペン
タン酸、ブトキシペンタン酸、６−メトキシヘキサン
酸、コハク酸モノエチル、グルタン酸モノメチル、スベ
リン酸モノメチル等のC1〜C5のアルコキシ基またはC2〜
C6のアルコキシカルボニル基で置換されたC2〜C8の脂肪
族カルボン酸。
タン酸、ブトキシペンタン酸、６−メトキシヘキサン
酸、コハク酸モノエチル、グルタン酸モノメチル、スベ
リン酸モノメチル等のC1〜C5のアルコキシ基またはC2〜
C6のアルコキシカルボニル基で置換されたC2〜C8の脂肪
族カルボン酸。
また、一般式（III）で示されるフラン化合物として
は、フラン、２−メチルフラン、２−エチルフラン等が
あげられる。
は、フラン、２−メチルフラン、２−エチルフラン等が
あげられる。
また、一般式（IV）で示される酸無水物としては無水ク
ロロ酢酸、無水ブロモ酢酸、無水ジクロロ酢酸等が挙げ
られる。
ロロ酢酸、無水ブロモ酢酸、無水ジクロロ酢酸等が挙げ
られる。
触媒としては三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレ
ックスが使用されるが、好ましくは三弗化コンプレック
スであり、具体例としてはBF3・（C2H5）2O,BF3・2CH3O
H,BF3・CH3COOHなどが挙げられる。
ックスが使用されるが、好ましくは三弗化コンプレック
スであり、具体例としてはBF3・（C2H5）2O,BF3・2CH3O
H,BF3・CH3COOHなどが挙げられる。
本発明の方法において、一般式（III）で示されるフラ
ン化合物の使用量は、一般式（II）で示されるカルボン
酸に対して１当量以上必要であり、好ましくは1.2〜1.5
当量である。
ン化合物の使用量は、一般式（II）で示されるカルボン
酸に対して１当量以上必要であり、好ましくは1.2〜1.5
当量である。
一般式（IV）で示される酸無水物の使用量は、一般式
（II）で示されるカルボン酸に対して１当量以上必要で
あり、好ましくは1.1〜1.3当量である。
（II）で示されるカルボン酸に対して１当量以上必要で
あり、好ましくは1.1〜1.3当量である。
また、触媒としての三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コ
ンプレックスの使用量は、一般式（II）で示されるカル
ボン酸に対して通常0.02〜0.2当量であるが、この使用
量は何ら限定的なものではなく、それ以上に使用しても
差し支えない。
ンプレックスの使用量は、一般式（II）で示されるカル
ボン酸に対して通常0.02〜0.2当量であるが、この使用
量は何ら限定的なものではなく、それ以上に使用しても
差し支えない。
本反応は溶媒中で行われ、その溶媒としてはベンゼン、
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエチレ
ン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が好
ましく使用され、これらは単独であっても２種以上の混
合物として使用してもよい。かかる溶媒の使用量につい
ては特に制限されない。
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、四塩化炭素、
ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエチレ
ン、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素等が好
ましく使用され、これらは単独であっても２種以上の混
合物として使用してもよい。かかる溶媒の使用量につい
ては特に制限されない。
反応温度は−５〜150℃の範囲であるが、好ましくは15
〜75℃の範囲である。
〜75℃の範囲である。
反応時間はそれぞれの反応条件によって適宜変わり、何
ら限定的でないが、通常0.5〜20時間である。
ら限定的でないが、通常0.5〜20時間である。
このような反応によって得られた反応混合物は、通常の
後処理の後、必要に応じて蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等の方法によって精製することにより、目的とする
一般式（Ｉ）で示される２−アシルフラン誘導体を高収
率で得ることができる。
後処理の後、必要に応じて蒸留、カラムクロマトグラフ
ィー等の方法によって精製することにより、目的とする
一般式（Ｉ）で示される２−アシルフラン誘導体を高収
率で得ることができる。
＜発明の効果＞ かくして、本発明の方法によれば、一般式（II）で示さ
れるカルボン酸および一般式（III）で示されるフラン
化合物から目的とする一般式（Ｉ）で示される２−アシ
ルフラン誘導体を工業的有利に製造することができ、特
に本発明において反応助剤として使用される酸無水物や
三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレックス等の試
薬は工業的規模において安価に入手可能であるところか
ら、本発明の工業的利用価値を一層有利なものとする。
れるカルボン酸および一般式（III）で示されるフラン
化合物から目的とする一般式（Ｉ）で示される２−アシ
ルフラン誘導体を工業的有利に製造することができ、特
に本発明において反応助剤として使用される酸無水物や
三弗化ホウ素または三弗化ホウ素コンプレックス等の試
薬は工業的規模において安価に入手可能であるところか
ら、本発明の工業的利用価値を一層有利なものとする。
＜実施例＞ 以下、実施例により本発明を説明する。
実施例１ 9.41g（0.05モル）のスベリン酸モノメチルエステルお
よび9.83g（0.0575モル）の無水モノクロロ酢酸を50ml
のトルエンに溶解し、これに4.43g（0.065モル）のフラ
ンおよび0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプ
レックスを加えたのち、50℃で６時間撹拌する。反応終
了後反応液を冷却し、水、５％炭酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。乾燥した有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシ
リカゲルを充填したカラムクロマトグラフィーにより精
製して11gの２−（７−メトキシカルボニル−１−オキ
ソヘプチル）−フランを得た。収率92.3％ b.p135〜137℃/0.35mmHg 実施例２ 6.51g（0.05モル）のヘプタン酸および10.26g（0.06モ
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに4.43g（0.065モル）のフランおよび0.71gの三弗
化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えたの
ち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して8.2gの２−
ヘプタノイルフランを得た。収率91％ ▲ｎ27.3 D▼1.4824 実施例３〜12 ヘプタン酸に代えて表−１に示すカルボン酸（0.05モ
ル）を使用し、表−１に示す反応条件とする以外は実施
例２と同様に反応、後処理し、表−１に示す結果を得
た。
よび9.83g（0.0575モル）の無水モノクロロ酢酸を50ml
のトルエンに溶解し、これに4.43g（0.065モル）のフラ
ンおよび0.71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプ
レックスを加えたのち、50℃で６時間撹拌する。反応終
了後反応液を冷却し、水、５％炭酸ナトリウム水溶液、
水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥
する。乾燥した有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシ
リカゲルを充填したカラムクロマトグラフィーにより精
製して11gの２−（７−メトキシカルボニル−１−オキ
ソヘプチル）−フランを得た。収率92.3％ b.p135〜137℃/0.35mmHg 実施例２ 6.51g（0.05モル）のヘプタン酸および10.26g（0.06モ
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに4.43g（0.065モル）のフランおよび0.71gの三弗
化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加えたの
ち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して8.2gの２−
ヘプタノイルフランを得た。収率91％ ▲ｎ27.3 D▼1.4824 実施例３〜12 ヘプタン酸に代えて表−１に示すカルボン酸（0.05モ
ル）を使用し、表−１に示す反応条件とする以外は実施
例２と同様に反応、後処理し、表−１に示す結果を得
た。
但し、実施例７ではカラムクロマトグラフィーによる精
製は行わなかった。
製は行わなかった。
実施例13 3.7g（0.05モル）のプロピオン酸および10.26g（0.06モ
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに5.36g（0.065モル）の２−メチルフランおよび0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加えたのち、50℃で７時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを
充填したカラムクロマトグラフィーにより精製して2.96
gの２−プロピオニル−５−メチルフランを得た。収率4
2.8％ ▲ｎ27.8 D▼1.5078 実施例14 6.51g（0.05モル）のヘプタン酸および10.26g（0.06モ
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに5.36g（0.065モル）の２−メチルフランおよび0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加えたのち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応
液を冷却し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
する。有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲル
を充填したカラムクロマトグラフィーにより精製して6.
27gの２−ヘプタノイル−５−メチルフランを得た。
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに5.36g（0.065モル）の２−メチルフランおよび0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加えたのち、50℃で７時間撹拌する。反応終了後反応液
を冷却し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄す
る。有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを
充填したカラムクロマトグラフィーにより精製して2.96
gの２−プロピオニル−５−メチルフランを得た。収率4
2.8％ ▲ｎ27.8 D▼1.5078 実施例14 6.51g（0.05モル）のヘプタン酸および10.26g（0.06モ
ル）の無水モノクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解し、
これに5.36g（0.065モル）の２−メチルフランおよび0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加えたのち、50℃で5.5時間撹拌する。反応終了後反応
液を冷却し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄
する。有機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲル
を充填したカラムクロマトグラフィーにより精製して6.
27gの２−ヘプタノイル−５−メチルフランを得た。
収率69.6％ ▲ｎ27.2 D▼1.4900 実施例15 6.51g（0.05モル）のヘプタン酸、4.43g（0.065モル）
のフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジクロロ酢酸
を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの三弗化ホ
ウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、50℃で３
時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、５％炭酸ナ
トリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に
濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマ
トグラフィーにより精製して8.95gの２−ヘプタノイル
フランを得た。
のフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジクロロ酢酸
を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの三弗化ホ
ウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、50℃で３
時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、５％炭酸ナ
トリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を減圧下に
濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロマ
トグラフィーにより精製して8.95gの２−ヘプタノイル
フランを得た。
収率99.3％ ▲ｎ27.4 D▼1.4823 実施例16 7.31g（0.05モル）のモノメチルグルタル酸、4.43g（0.
065モル）のフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジ
クロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71g
の三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加
え、50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して9.54gの２
−（４−メトキシカルボニルブチリル）フランを得た。
065モル）のフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジ
クロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71g
の三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加
え、50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して9.54gの２
−（４−メトキシカルボニルブチリル）フランを得た。
収率94.5％ m.p42.5℃ 実施例17 4.41g（0.05モル）のイソ酪酸、5.36g（0.065モル）の
２−メチルフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジク
ロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの
三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、
50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、５
％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を
減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラ
ムクロマトグラフィーにより精製して6.74gの２−イソ
ブチリル−５−メチルフランを得た。
２−メチルフランおよび14.39g（0.06モル）の無水ジク
ロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの
三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、
50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、５
％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層を
減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラ
ムクロマトグラフィーにより精製して6.74gの２−イソ
ブチリル−５−メチルフランを得た。
収率88.6％ ▲ｎ24.4 D▼1.4939 実施例18 7.31g（0.05モル）の６−メトキシヘキサン酸、4.43g
（0.065モル）のフランおよび14.39g（0.06モル）の無
水ジクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加え、50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して8.83gの２
−（６−メトキシヘキサノイル）フランを得た。
（0.065モル）のフランおよび14.39g（0.06モル）の無
水ジクロロ酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.
71gの三弗化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを
加え、50℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して8.83gの２
−（６−メトキシヘキサノイル）フランを得た。
収率90％ ▲ｎ25 D▼1.5132 実施例19 4.31g（0.05モル）のクロトン酸、4.43g（0.065モル）
のフランおよび10.26g（0.06モル）の無水モノクロロロ
酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの三弗
化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、50℃
で6.5時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、水、
５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層
を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して2.8gの２−クロ
トニルフランを得た。収率41.1％ ▲ｎ26 D▼1.4283 実施例20 9.41g（0.05モル）のスペリン酸モノメチルエーテルお
よび9.83g（0.0575モル）の無水モノクロロ酢酸を50ml
のトルエンに溶解し、これに4.43g（0.065モル）のフラ
ンおよび1.0gの三弗化ホウ素酢酸コンプレックスを加
え、60℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して10.1gの２
−（７−メトキシカルボニル−１−オキソヘプチル）フ
ランを得た。
のフランおよび10.26g（0.06モル）の無水モノクロロロ
酢酸を50mlのトルエンに溶解する。これに0.71gの三弗
化ホウ素ジエチルエーテルコンプレックスを加え、50℃
で6.5時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却し、水、
５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有機層
を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカ
ラムクロマトグラフィーにより精製して2.8gの２−クロ
トニルフランを得た。収率41.1％ ▲ｎ26 D▼1.4283 実施例20 9.41g（0.05モル）のスペリン酸モノメチルエーテルお
よび9.83g（0.0575モル）の無水モノクロロ酢酸を50ml
のトルエンに溶解し、これに4.43g（0.065モル）のフラ
ンおよび1.0gの三弗化ホウ素酢酸コンプレックスを加
え、60℃で３時間撹拌する。反応終了後反応液を冷却
し、５％炭酸ナトリウム水溶液、水で順次洗浄する。有
機層を減圧下に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填し
たカラムクロマトグラフィーにより精製して10.1gの２
−（７−メトキシカルボニル−１−オキソヘプチル）フ
ランを得た。
収率85％ b.p135〜137/0.35mmHg 実施例21〜24 スベリン酸モノメチルエステルに代えて表−２に示すカ
ルボン酸（0.05モル）を使用する以外は実施例20と同様
に反応、後処理し、表−２に示す結果を得た。
ルボン酸（0.05モル）を使用する以外は実施例20と同様
に反応、後処理し、表−２に示す結果を得た。
比較例 １ クロトン酸クロライド5.23g（0.05モル）およびフラン
3.4g（0.05モル）の混合物に、1.2mlの三弗化ホウ素ジ
エチルエーテルコンプレックスを０℃で滴下し、その後
１時間撹拌を続ける。
3.4g（0.05モル）の混合物に、1.2mlの三弗化ホウ素ジ
エチルエーテルコンプレックスを０℃で滴下し、その後
１時間撹拌を続ける。
反応終了後、反応液に水50mlを加え、水層を30mlにエー
テルで抽出処理する。有機層を水、５％重曹水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層を減圧下
に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィーにより精製して0.68gの２−クロトニル
フランを得た。収率10％ 比較例 ２ クロトン酸クロライドおよびフランに代えてプロピオン
酸クロライドおよび２−メチルフランをそれぞれ0.05モ
ル使用する以外は比較例１に準じて反応、後処理を行っ
て、２−プロピオニル−５−メチルフランを収率12.1％
で得た。
テルで抽出処理する。有機層を水、５％重曹水で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥する。有機層を減圧下
に濃縮後、濃縮残渣をシリカゲルを充填したカラムクロ
マトグラフィーにより精製して0.68gの２−クロトニル
フランを得た。収率10％ 比較例 ２ クロトン酸クロライドおよびフランに代えてプロピオン
酸クロライドおよび２−メチルフランをそれぞれ0.05モ
ル使用する以外は比較例１に準じて反応、後処理を行っ
て、２−プロピオニル−５−メチルフランを収率12.1％
で得た。
比較例 ３ クロトン酸クロライドに代えてベンゾイルクロライドを
0.05モル使用する以外は比較例１に準じて反応、後処理
を行ったが、目的とした２−ベンゾイルフランは単離で
きず、その生成が確認できなかった。
0.05モル使用する以外は比較例１に準じて反応、後処理
を行ったが、目的とした２−ベンゾイルフランは単離で
きず、その生成が確認できなかった。
フロントページの続き (72)発明者 東井 隆行 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内 (72)発明者 植田 裕治 大阪府大阪市此花区春日出中３丁目１番98 号 住友化学工業株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】一般式 RCOOH （式中、ＲはC1〜C18のアルキル基、C3〜C8のアルケニ
ル基、C3〜C8のアルキニル基、C4〜C7の環状アルキル
基、フェニル基、C1〜C5のアルキル基またはC1〜C5のア
ルコキシル基またはハロゲン原子で置換された一置換ま
たは二置換のフェニル基、C7〜C12のアラルキル基、C1
〜C5のアルコキシル基で置換されたC2〜C8のアルキル基
またはC2〜C6のアルコキシカルボニル基で置換されたC2
〜C8のアルキル基を表わす。） で示されるカルボン酸と、一般式 （式中、R1は水素原子またはC1〜C3のアルキル基を表わ
す） で示されるフラン化合物を、一般式 （XYCHCO）2O （式中、ＸおよびＹは水素原子、塩素原子または臭素原
子を表わす。但し、ＸおよびＹが同時に水素原子である
ことはない） で示される酸無水物の存在下、溶媒中、三弗化ホウ素も
しくは三弗化ホウ素コンプレックスを触媒として反応さ
せることを特徴とする一般式 （式中、ＲおよびR1は前記と同じ意味である） で示される２−アシルフラン誘導体の製造法。 - 【請求項２】溶媒が芳香族炭化水素またはハロゲン化炭
化水素である特許請求の範囲第１項に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25763786 | 1986-10-28 | ||
| JP61-257637 | 1986-10-28 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63233980A JPS63233980A (ja) | 1988-09-29 |
| JPH0778056B2 true JPH0778056B2 (ja) | 1995-08-23 |
Family
ID=17309005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62229422A Expired - Fee Related JPH0778056B2 (ja) | 1986-10-28 | 1987-09-11 | ２−アシルフラン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0778056B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8350090B1 (en) * | 2011-08-24 | 2013-01-08 | Chirogate International Inc. | Processes for preparing cyclopentenones and cyclopentenones for the synthesis of benzindene prostaglandins |
-
1987
- 1987-09-11 JP JP62229422A patent/JPH0778056B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63233980A (ja) | 1988-09-29 |
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