JPS63231724A - 磁気デイスクおよびその製造方法 - Google Patents
磁気デイスクおよびその製造方法Info
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- JPS63231724A JPS63231724A JP6526787A JP6526787A JPS63231724A JP S63231724 A JPS63231724 A JP S63231724A JP 6526787 A JP6526787 A JP 6526787A JP 6526787 A JP6526787 A JP 6526787A JP S63231724 A JPS63231724 A JP S63231724A
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- aluminum oxide
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野］
本発明は、磁気ディスクおよびその製造方法に関する。
更に詳細には、本発明は表面粗度を改良することにより
耐摩耗性および耐久性が向上された磁気ディスクおよび
その製造方法に関する。
耐摩耗性および耐久性が向上された磁気ディスクおよび
その製造方法に関する。
［従来の技術］
強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気ディスクは、通
常、強磁性金属もしくは、それらの合金を、スパッタリ
ング法、メッキ法等によって基体上に被着して作製され
、高密度記録に適した特性を有する。
常、強磁性金属もしくは、それらの合金を、スパッタリ
ング法、メッキ法等によって基体上に被着して作製され
、高密度記録に適した特性を有する。
しかし、その反面、磁気ヘッドとの摩擦係数が大きいた
めに、摩耗や損傷を受けやすく、耐久性に劣る欠点があ
る。
めに、摩耗や損傷を受けやすく、耐久性に劣る欠点があ
る。
このため、磁気記録層上にカーボンからなる保護膜を設
ける（特公昭６Ｏ−２３４０Ｅ３）などの検討が行われ
ているが、コンタクト・スタート・ストップ（、ＣＳ
Ｓ ）特性に未だ問題があり、耐久性が不十分である。
ける（特公昭６Ｏ−２３４０Ｅ３）などの検討が行われ
ているが、コンタクト・スタート・ストップ（、ＣＳ
Ｓ ）特性に未だ問題があり、耐久性が不十分である。
［発明が解決しようとする問題点］
本発明は、に記従来技術が持っていたヘッドとの摺接に
よる摩耗という欠点を解決し、以って耐久性に優れた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
よる摩耗という欠点を解決し、以って耐久性に優れた磁
気記録媒体を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段コ
この発明は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果な
されたもので、基体Ｉ−に少なくともクロム下地層およ
び強磁性層が順次被着されてなる磁気ディスクにおいて
、前記基体とクロム下地層との間に、島状に分散析出さ
れた酸化アルミニウム層を配別することにより、ド地層
−１−の強磁性層表面に凹凸を発生させ、磁気ヘッドの
ヘッドタッチおよび走行性を改〆９することに成功した
。
されたもので、基体Ｉ−に少なくともクロム下地層およ
び強磁性層が順次被着されてなる磁気ディスクにおいて
、前記基体とクロム下地層との間に、島状に分散析出さ
れた酸化アルミニウム層を配別することにより、ド地層
−１−の強磁性層表面に凹凸を発生させ、磁気ヘッドの
ヘッドタッチおよび走行性を改〆９することに成功した
。
例えば、第１図に示されるように、基体Ｉ Ｉユに、酸
素雰囲気下でアルミニウムを物理蒸着するこきにより、
島状に分散析出した酸化アルミニウムからなる層３を形
成し、次いで、クロム下地層５、強磁性層７、および所
望により表面保護層９を順次被着形成するこ七により、
最表面に凹凸形状を持つ磁気ディスクが作製される。
素雰囲気下でアルミニウムを物理蒸着するこきにより、
島状に分散析出した酸化アルミニウムからなる層３を形
成し、次いで、クロム下地層５、強磁性層７、および所
望により表面保護層９を順次被着形成するこ七により、
最表面に凹凸形状を持つ磁気ディスクが作製される。
−１−述した酸素雰囲気は０．０５Ｔｏｒｒから５ Ｔ
ｏｒｒの圧力範囲内であるのが好ましく、酸素ガス圧が
低すぎると分散析出する島杖拉了が細かすぎて耐久性向
−にに効果がなく、高すぎると島状に分散析出されない
。
ｏｒｒの圧力範囲内であるのが好ましく、酸素ガス圧が
低すぎると分散析出する島杖拉了が細かすぎて耐久性向
−にに効果がなく、高すぎると島状に分散析出されない
。
このようにして形成された島状の酸化アルミニウム粒子
は、粒径が３０人から３００人の範囲内であるのが好ま
しく、小さすぎると所期の効果が得られず、大きすぎる
とクロｌ、ド地層や強磁性層の結晶配向性に悪影響を及
ぼし、磁気特性が低下する。
は、粒径が３０人から３００人の範囲内であるのが好ま
しく、小さすぎると所期の効果が得られず、大きすぎる
とクロｌ、ド地層や強磁性層の結晶配向性に悪影響を及
ぼし、磁気特性が低下する。
本発明の磁気ディスクで使用される基体とじては鏡面研
磨されたアルミニウム合金が好ましい。
磨されたアルミニウム合金が好ましい。
しかし、磁気ディスク用として一般に使用されているそ
の他の基体材料（例えば、ガラスまたは高分子フィルム
等）も当然使用できる。
の他の基体材料（例えば、ガラスまたは高分子フィルム
等）も当然使用できる。
１・、述した強磁性層としてはＣｏ ＋ Ｃｏ Ｎ
＋ ＋Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ＋ Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｐ
ｂ。
＋ ＋Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ＋ Ｃｏ−Ｎ１−Ｐ、Ｃｏ−Ｐ
ｂ。
Ｃｏ−Ｗ＋ Ｃｏ−Ｎｉ −ＣＬ Ｃｏ−Ｎ１−Ｎ、
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｆｅ−Ｎｉ＋ Ｃｏ−Ｃｒ＋
７−Ｆｅ２Ｏ３等が好ましく、クロム下地層と同様にス
パッタリング法、真空蒸着法、メッキ法、イオンブレー
ティング法等の手段によって被着形成される。
Ｃｏ−Ｎｉ−Ｆｅ、Ｆｅ−Ｎｉ＋ Ｃｏ−Ｃｒ＋
７−Ｆｅ２Ｏ３等が好ましく、クロム下地層と同様にス
パッタリング法、真空蒸着法、メッキ法、イオンブレー
ティング法等の手段によって被着形成される。
また、表面保護層はグラファイトやＳ ｉ ０２、ボロ
ン等のスパッタリング、炭化水素化合物等のプラズマＣ
ＶＤなど種々の保護潤滑層を含む。さらに、ｉ】’＋記
保護膜」−にフッ素系潤滑剤等を積層すれば、より好適
である。
ン等のスパッタリング、炭化水素化合物等のプラズマＣ
ＶＤなど種々の保護潤滑層を含む。さらに、ｉ】’＋記
保護膜」−にフッ素系潤滑剤等を積層すれば、より好適
である。
［実施例コ
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。しか
し、本発明はＦ記の実施例に限定されるものではない。
し、本発明はＦ記の実施例に限定されるものではない。
実論七ロ：コ１
３．５インチ径のアルミニウム合金（５０８６合金）か
らなる基体を真空蒸７を装置に装填し、Ｆ記の表１に示
す酸素ガス圧カドで、アルミニウムを真空蒸着し、島状
に分散析出した酸化アルミニウムからなる層を形成した
。次いで、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置に装填
し、クロム、コバルト−ニッケル（８０ａｔＸ −２０
ａｔ″Ａ）、およびグラファイトを順次スパッタリング
してクロムからなる下地層、コバルト−ニッケルからな
る強磁性層およびカーボンからなる保護膜を積層した。
らなる基体を真空蒸７を装置に装填し、Ｆ記の表１に示
す酸素ガス圧カドで、アルミニウムを真空蒸着し、島状
に分散析出した酸化アルミニウムからなる層を形成した
。次いで、ＲＦマグネトロンスパッタリング装置に装填
し、クロム、コバルト−ニッケル（８０ａｔＸ −２０
ａｔ″Ａ）、およびグラファイトを順次スパッタリング
してクロムからなる下地層、コバルト−ニッケルからな
る強磁性層およびカーボンからなる保護膜を積層した。
このときの酸化アルミニウム粒子の粒径を下記の表１に
示す。
示す。
Ｋ１
−〇−
比ｔｄ外
実施例におけるアルミニウムの真空蒸着処理に程を省い
た以外は実施例と同様の条件で磁気ディスクを作製した
。
た以外は実施例と同様の条件で磁気ディスクを作製した
。
実施例および比較例で得られた磁気ディスクについて、
６ｍｍ径の鋼球を摺動子とした摺動試験を行い、初期の
摩擦係数および２０００回摺動後の摩擦係数を測定した
。測定結果をド記の表２に示す。
６ｍｍ径の鋼球を摺動子とした摺動試験を行い、初期の
摩擦係数および２０００回摺動後の摩擦係数を測定した
。測定結果をド記の表２に示す。
Ｚ
表２に示された結果から明らかなように、実施例で得ら
れた磁気ディスクは、比較例で得られた磁気ディスクに
比べて、摺動回数の増加による摩耗係数の増大は見られ
ない。このため、本発明で得られた磁気ディスクは、基
体と下地層との間の酸化アルミニウムの島状分散析出層
に由来する最表面の凹凸の存在によりへ、ラドタ、ソチ
および走行耐久性が改善されたことが明らかである。
れた磁気ディスクは、比較例で得られた磁気ディスクに
比べて、摺動回数の増加による摩耗係数の増大は見られ
ない。このため、本発明で得られた磁気ディスクは、基
体と下地層との間の酸化アルミニウムの島状分散析出層
に由来する最表面の凹凸の存在によりへ、ラドタ、ソチ
および走行耐久性が改善されたことが明らかである。
第１図は本発明の磁気ディスクの−・例の断面図である
。 １・・・基体、３・・・酸化アルミニウムの島状析出層
。
。 １・・・基体、３・・・酸化アルミニウムの島状析出層
。
Claims (6)
- （１）基体上に少なくともクロム下地層および強磁性層
が順次被着されてなる磁気ディスクにおいて、前記基体
とクロム下地層との間に、島状に分散析出された酸化ア
ルミニウム層が配層されていることを特徴とする磁気デ
ィスク。 - （２）基体は鏡面研磨されたアルミニウム合金からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁気デ
ィスク。 - （３）強磁性層の上に表面保護層が更に積層被着されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の磁
気ディスク。 - （４）基体上に、酸素雰囲気下でアルミニウムを物理蒸
着することにより、島状に分散析出した酸化アルミニウ
ムからなる層を形成し、次いで、該層上に、少なくとも
、クロム下地層および強磁性層を順次被着形成させるこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - （５）基体は鏡面研磨されたアルミニウム合金からなる
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の磁気デ
ィスクの製造方法。 - （６）強磁性層の上に表面保護層を更に積層被着させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第４項に記載の磁気デ
ィスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6526787A JPS63231724A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 磁気デイスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6526787A JPS63231724A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 磁気デイスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63231724A true JPS63231724A (ja) | 1988-09-27 |
Family
ID=13281976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6526787A Pending JPS63231724A (ja) | 1987-03-19 | 1987-03-19 | 磁気デイスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63231724A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373419A (ja) * | 1989-05-22 | 1991-03-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH08263836A (ja) * | 1996-03-11 | 1996-10-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気ディスク用基板 |
-
1987
- 1987-03-19 JP JP6526787A patent/JPS63231724A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0373419A (ja) * | 1989-05-22 | 1991-03-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH08263836A (ja) * | 1996-03-11 | 1996-10-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 磁気ディスク用基板 |
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