JPS63224055A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光磁気ディスクなどに用いられる光磁気記録媒
体の改良に関する。

〔従来の技術〕

レーザー光を用い光熱磁気効果により情報を記録し、磁
気カー効果やファラデー効果により記録情報の再生を行
なう光磁気ディスクは、高記録密度、゛高速アクセスが
可能であり、しかも記録情報の消去と再記録を繰り返し
行なうことができるために実用化が期待されている。特
にこの光磁気ディスクの記録材料としてＴｂＰｅ、Ｔｂ
ＦｅＣｏ、ＧｄＦｅなど希土類−遷移金属合金（以下Ｒ
Ｅ−ＴＭ合金と略称する）のアモルファス垂直磁化膜を
記録層に用いた光磁気記録媒体は、大面積の薄膜を形成
するのが容易なことと、書き込み感度および再生感度が
良好であることから有望である。しかし、Ｒ，Ｂ−ＴＭ
金合金記録層とした光磁気記録媒体は、使用環境が例え
ば湿気を含んだ大気中などの場合には、ＲＥ−ＴＭ金合
金耐食性に起因して、光磁気特性が劣化するという欠点
ももっている。

これに対して記録層の上に保護膜を設けて記録層が直接
大気と接触しないようにするのが普通である。例えば第
２図は従来用いられている光磁気記録媒体の要部を模型
的な構成断面図で示したものである。

第２図において、この光磁気記録媒体はポリカ−ボネー
トなどのプラスチック基板１の上に、書き込み感度と再
生感度をあげるために、基板ｌより屈折率が高く熱伝導
率の低い例えばＳ　ｔ　Ｏ，Ｓ　ｌ　３Ｎ　。

Ｚｎ８　などの透明薄膜層（以下二ンノ・ンス層と略称
する）２を介在させて、例えばＴｂＦｅ、　ＴｂＦｅＣ
ｏ。

ＧｄＦｅなどのＲＥ−ＴＭ合金薄膜の記録層３を形成し
、さらに記録層３の上にＳ　ｉｏ、　８　ｉｏｚ、Ｓｉ
３Ｎ４などの保護膜４を設けることにより、記録層３が
直接大気に曝されることなく、環境による特性劣化を生
じないようにしている。なお矢印はレーザー光の進行方
向を示している。また図示してないが、エンハンス層２
を形成することなく、基板ｌ。

記録層３．保護膜４をこの順に積層した光磁気記録媒体
も用いられている。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、これら光磁気記録媒体を実用化するため
には、保護膜３について改良しなければならない問題が
ある。すなわち、Ｓｉｎ、ＳｉＯ３゜８１３Ｎ　４など
を用いた保護膜３はピンホールをもたない極めて微細な
薄膜として形成することは回部であって、多くのピンホ
ールが生成されることは避けられないので、媒体は実用
上、このピンホールを通る大気および大気中の湿気が記
録層３まで侵入するのを完全に防止することができない
。

そのほか保護膜４にＳｉＯやＳ　ｉ　０２など酸化物を
用いた場合は、それらの酸素成分が記録層３と反応する
酸化に起因して光磁気特性を劣化させ、一方８１３Ｎ　
４など窒化物を保護膜４とするときは、成膜方法に反応
性スパッタ法を用いるため、裂造工穆が複雑になり、コ
ストが高くなるなど不都合な問題を生ずる。

したがって本発明の目的は上述の欠点を解消し、湿度の
高い環境に置かれたときも、湿気を通さず光磁気特性を
劣化させることのない優れた保護膜を備えた光磁気記録
媒体を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は光磁気記録媒体のＲ，Ｅ−ＴＭ金合金記録層に
設ける保護膜として、ピンホールがなく、大気および大
気中に含まれる湿気が侵透するのを防ぐことができる熱
可塑性樹脂、例えばポリパラキシリレンやポリス手しン
を用いることにより達成したものである。

〔作用〕

本発明の保護膜はポリパラキシリレンやポリスモレンな
どのような熱可塑性樹脂であり、保護膜自体に酸素が含
まれていないので、記録層が酸化されず、またこの保護
膜はピンホールをもっていないため、この保護膜を備え
た光磁気記録媒体を大気中で使用するとき、外気が侵入
して記録層に達するのを防ぎ、媒体の特性を損なうこと
なく、長期間安定に維持するように作用するものである
。

〔実施例〕

以下本発明を実施例に基づき説明する。

本発明により得られる光磁気記録媒体の構成は第２図に
示した模聾断面図と全く同様であるから、図示を省略し
、再び第２図を参照して説明すると、本発明が従来と異
なる所は保護膜４として熱可塑性樹脂を用いた点にある
。

次に本発明の光磁気記録媒体の製造方法について述べる
。第１図は本発明の光磁気記録媒体の製造装置の概要を
各構成装置の配置とともに示した系統図である。第１図
において、装置全体としては蒸発室５９分解室６．蒸着
室７．スパッタ室８゜冷却トラップ９およびロータリー
ポンプ１０が連結されている。冷却トラップ９とロータ
リーポンプ１０はこの全装置に共通の排気系である。

第２図も併用して説明すると、スパッタ室８内で、十分
脱ガスを行なったポリカーボネート基板ｌ上に、これと
垂直方向に磁化容易軸を有する例えばＴ　ｂ　２　ｇ　
Ｆ　ｅ　ｓ　ｓ　ＣＯ１２のアモルファス磁性薄膜を記
録層３として形成する。一方蒸発室５ではディパラキシ
リレンを温度１７５℃、真空度ＩＴｏｒｒで蒸発させた
後、これを分解室６に導き、温度６８０℃、真空度０．
５　ＴＯｒｒ　の条件でパラ本シリレンモノマーに分解
し、熱分解したモノマーを蒸着室７に送る。同時に、前
述のようにして記録層３を設けた基板ｌを真空状態を破
ることなく蒸着室７内に導入することにより、温度２５
℃、真空度０゜５　Ｔｏｒｒ　　になっている蒸着室７
内で記録層３の表面にパラキシリレンモノマーを付着さ
せ、厚さ２０００〜５０００人のポリパラキシリレン膜
を保へ膜４として形成することができる。このとき基板
１のレーザー光を入射する方の表面はマスクで覆ってお
く。なお、以上の手法は前述した二ンノ・ンス層２を形
成してない光磁気記録媒体の記録層に対しても当然のこ
とながら適用可能である。

かくして得られた光磁気記録媒体を温度６０℃。

湿度９０％の恒温恒量槽中に１００時間放置した後のこ
の媒体の特性変化として記録層３のカー回転角Ｏｋ　の
初期値に対する増加割合を調べた結果的１０’％であっ
た。この値は厚さ２０００ＡのＳｉＯを保護膜４として
形成した従来の光磁気記録媒体を同じ条件で試験したと
きに得られる約２０％というカー回転角Ｏｋの変化率に
対してほぼ１／２である。このことから本発明によるポ
リパラキシリレンを保護膜４として記録層３上に被覆し
た光磁気記録媒体は通常使用される環境においては勿論
、やや高い湿度の環境でも十分冥用性を有するものと判
断することができる。

なお本実施例では保１ｔＩＷＡの材料としてポリパラキ
シリレンについてのみ述べたが、熱可塑性樹脂としてそ
のほかにポリスチレンなどを用いても同庫の効果が得ら
れるものである。

〔発明の効果〕

希土類−遷移金属合金のアモルファス垂直磁化膜を記録
層とする光磁気記録媒体の表面保護膜として従来用いら
れてきた酸化物薄膜はピンホールの発生を避けられない
ので、湿気を含む大気中にこの媒体を放置するとそのピ
ンホールから侵入する湿気により、光磁気特性の劣化を
生ずるという欠点をもっていたのに対して、本発明の光
磁気記録媒体はポリパラキシリレンなどの熱可塑性樹脂
を保護膜として記録層の形成に引き続き真空を破ること
なく積層したものであって、得られる保護膜にはピンホ
ールが生成されないので、この媒体を大気中に放置した
ときも、大気中の湿気が記録層にまで達することなく、
またこの保護膜自体に酸素を含んでいないので記録層を
酸化させるおそれもなく、したがって光磁気特性の劣化
が起こらず、安定した良好な特性を長期間にわたって持
続することが可能な光磁気記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光磁気記録媒体の製造装置を説明する
ための配置系統図、第２図は光磁気記録媒体の要部構成
断面図である。 １・・・基板、２・・・エンノ・ンス層、３・・・記録
層、４・・・保護膜、５・・・蒸発室、６・・・分解室
、７・・・蒸着室。 ８・・・スパッタ室、９・・・冷却トラップ、１０・・
ロー１　　　　　　第１図 第２図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）基板上に少くとも基板主面に垂直方向の磁化容易軸
   をもつ記録層と保護膜とを積層した光磁気記録媒体にお
   いて、前記保護膜として熱可塑性樹脂を用いることを特
   徴とする光磁気記録媒体。 ２）特許請求の範囲第１項記載の媒体において、熱可塑
   性樹脂はポリパラキシリレンであることを特徴とする光
   磁気記録媒体。 ３）特許請求の範囲第１項または第２項記載の媒体にお
   いて、保護膜は真空蒸着により形成されることを特徴と
   する光磁気記録媒体。