JPS6322094A - 新規セフェム化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ｒ産業上の利用分野」 この発明の下記一般式（１）で示されるセフェム化合物
およびその塩は抗菌活性を有し、医薬として有用である
。

１従来の技術、 セフェム化合物は数多く知られているが、この発明の下
記一般式（１）で示きれるセフェム化合物は知られてい
ない。

「発明が解決しようとする問題点」 抗菌作用を有し、医薬として有用なセフェム化合物は数
多く知られているが、この発明はきらに優れた医薬品の
開発を意図してなきれたものである。

１問題点を解決するための手段。

この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。

更に詳しくは、この発明は、抗菌活性を有する新規セフ
ェム化合物およびその塩に関する。

目的とするセフェム化合物およびその塩は新規であり、
下記の一般式（１）で表わすことができる。

［式中、Ｒ１はアミ７基または保護きれたアミノ基、 Ｒ２はハロゲン原子を有していてもよい低級アルキル基
、 Ｒ３はカルボキシ基または保護されたカルボキン基、 Ｒ４は式： （式中、Ｒは低級アルケニル基、ヒドロキシ（低級）ア
ルケニル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、低級アル
コキシ（低級）アルキル基または低、吸アルキルチオ（
低級）アルキル基を意味する）で示される基または式： （式中、Ｒは低級アルキル基、 Ｒ７は保護されたカルボキシ基を意味する）で示される
基を意味する］。

この発明に従って、目的化合物（１）は下記製造法によ
って製造することができる。

／′ ゝ＼〜 製造法１ （ＩＩ［） 土 （Ｉ） またはその塩 製造法２ （Ｉａ） またはその塩 （ｒｂ） またはその塩 製造法３ またはその塩 （Ｉｄ） またはその塩 製ｉｓ礼玉 （ＩＶ） またはその塩 ＋ Ｒ５−Ｒ’ （Ｖ） またはその塩 土 （Ｉ） またはその塩 （式中、Ｒ，Ｒ％ＲおよびＲ４はそれぞれ前と同じ意味
であり、 Ｒ１は保護きれたアミン基、 Ｒ３は保護づれたカルボキン基、 Ｙは酸残基を意味する）。

原料化合物ＣＩ［＞、およびぶ料化合物＜Ｖ＞の数種は
新規化合物であり、下記製造法により製造することがで
きる。

製造法Ａ （■）（■） またはその塩 （ＩＸ）　　　　　　　　（Ｘ） またはその塩　　またはその塩 またはその塩 製造法Ｃ （ＶＩａ）　　　　　　　　（ＸＩ’）（ＸＩ［［） （■Ｃ） 堪」ｌ１旦 製造法Ｅ （ＸＩ［［）　　　　　　　　　　　　　　（ＸＩＶ）
またはその塩 製造法Ｆ またはその塩　　　　　　またはその塩製造法Ｇ またはその塩　　　　　またはその塩 製造法Ｈ またはその塩　　　　　　　　またはその塩（Ｉ［） またはその塩 ［式中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＹはそれぞれ前と同じ
意味であり、 Ｘｌは／−１０ゲン、 Ｘ２はハロゲン Ａは低級アルキレン基、 Ｒ８は低級アルキル基、 Ｒ９は低級アルキル基、 Ｒ１０はアリール基、 Ｒ１１は保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基、 Ｒ１２は保護きれたヒドロキシ（低級）アルケニル基、 Ｒ５はヒドロキシ（低級）アルケニル基を意味する］。

化合物（Ｉ）、（Ｉａ）、（Ｉｂ）、（Ｉｃ）、（Ｉｄ
）、（ＩＩＩ＞および（ＩＶ）については、これらの化
合物にはシン異性体、アンチ異性体およびそれらの混合
物が含まれるものとする。

例えば目的化合物（Ｉ）については、シン異性体とは、
下記式： （式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ前と同じ意味）で示
される部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し、ア
ンチ異性体とは、下記式： （式中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ前と同し意味）で示
きれる部分構造を有する別の幾何異性体を意味する。

目的化合物（Ｉ）の好適な塩は常用の無毒性塩であり、
例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩お
よび例えばカルシウム塩、マグネシウム塩等のアルカリ
土金属塩のような金属塩、アンモニウム塩、例えばトリ
メチルアミン塩、トリエチルアミン塩、とリジン塩、ピ
コリン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ’　　−
ジベンジルエチレンシアミン塩等の有機塩基塩、例えば
酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン酸塩
、ベンゼンスルホン酸塩、（ａ塩、　　トルエンスルポ
ン酸塩等の有機酸塩、例えば塩酸塩、臭化水素酸塩、硫
酸塩、燐酸塩等の無機酸塩、例えばアルギニン、アスパ
ラギン酸、グルタミン酸等のアミノ酸との塩等が挙げら
れる。

この明細書の以上および以下の記載において、この発明
の範囲内に包含諮れる種々の定義の好適な例および説明
を以下詳細に述べる。

１低級」とは、特に指示がなければ、炭＃！原子１〜６
個を意味するものとする。

好適な１保護きれたアミン基、としては、アシルアミノ
基、または例えばベンジル、トリチル等の少なくとも１
個の適当な置換基を有していてもよいアル（低級）アル
キル基のような常用の保護基によって置換されたアミン
基が挙げられる。

′アシルアミノ基」の好適なアシル部分としては脂肪族
アシル基、および芳香環または複素環を含むアシル基が
挙げられる。そして、それらのアシル基の好適な例とし
ては例えばホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリ
ル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、オキサリ
ル、スクシニル、ピバロイル等の低級アルカノイル基；
例えばメトキシカルボニル トキシカルボニル ル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボニル、
ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニル
等の低級アルコキシカルボニル基：例えばメシル、エタ
ンスルホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスル
ホニル、ブタンスルホニル等の低級アルカンスルホニル
基；例えばベンゼンスルホニル、トシル等のアレーンス
ルホニル基； １列えばベンゾイル、トルオイル、キシロイル、ナフト
イル、フタロイル、インダンカルボニル等のアロイル基
； 例えばフェニルアセチル、フェニルプロピオニル等のア
ル（低級）アルカノイル基； 例えばベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカ
ルボニル等のアル（低級）アルコキシカルボニル基等が
挙げられる。

上記アンル部分は塩素、臭素、フッ素および沃素のよう
なハロゲン等のような適当な置換基少なくとも１個を有
していてもよい。

好適な１保護されたカルボキシ基」としてはエステル化
されたカルボキシ基等が挙げられ、これらのエステル化
されたカルボキシ基のエステル部分の好適な例としては
、適当な置換基少なくとも１個を有していてもよい例え
ばメチルエステル、エチルエステル、プロピルエステル
、イソプロピルエステル、プロルエステル呟　イソブチ
ルエステル、第三級ブナルエステノ呟ベンチルエステノ
呟へキシリエステル呟　１−シクロプロピルエチルエス
テル等の低級アルキルエステル、その例として、例えば
アセトキシエチルエステル呟　プロピオニルオキシメチ
ルエステル、ブチリルオキシメチルエステル、バレリル
オキシメチルエステ４．　　ビハロイルオキシメチルエ
ステノ呟　２−アセトキシエチルエステル、２−プロと
オニルオキシエチルエステル、ヘキサノイルオキシメチ
ルエステル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキ
ルエステル、例えば２−メシルエチルエステル等の低級
アルカンスルホニル（低級）アルキルエステルまたは例
えば２−ヨードエチルエステ４，２．２．２−トリクロ
ロエチルエステル等のモノ（またはジまたはトリ）ハロ
（低級）アルキルエステル；例えばビニルエステル、ア
リルエステル等の低級アルケニルエステル； 例えばエチニルエステル、プロピニルエステル等の低級
アルキニルエステル； 例えばベンジルエステル、４−メトキシベンジルエステ
ル、４−ニトロベンジルエステル、フェネチルエステル
、トリチルエステル、ベンズヒドリルエステル、ビス（
メトキシフェニル）メチルエステル、３．４−ジメトキ
シベンジルエステル、４−ヒドロキシ−３，５−ジ第三
級ブチルベン〉ルエステル等の適当な置換基少なくとも
１個を有していてもよいアル（低級）アルキルエステル
； 例えばフェニルエステル、４−クロロフェニルエステル
、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル、キ
シリルエステル、メシチルエステル、クメニルエステル
等の適当な置換基少なくとも１個を有していてもよいア
リールエステル等のようなものが挙げられる。

好適な′低級アルキル基」ならびに、′ヒドロキシ（低
級）アルキル基」、′低級アルフキシ（低級）アルキル
基４、「低級アルキルチオ（低級）アルキル基」および
１保護きれたヒドロキシ（低級）アルキル基」の好適な
１低級アルキル。

部分としては、メチＬ、エチノ呟プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブテノ呟第三級ブチル、ペンチルオキ
シル等が挙げられる。

好適な１ハロゲン、としては塩素、臭素、フッ素および
沃素が挙げられる。

好適な１低級アルケニル基」ならびに、′ヒドロキン（
低級）アルケニル基、および「保護きれたヒドロキシ（
低級）アルケニル基」の好適な「低級アルケニル一部分
としては、ビニル、アリル、１−プロペニル、１（また
は２または３）−ブテニル、１（または２または３また
は４）−ペンテニル、１（または２または３または４ま
たは５）−へキセニル等が挙げられる。

「低級アルコキシ（低級）アルキル基」の好適な「低級
アルフキ９１部分としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、第三級ブトキシ、
ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等が挙げられる。

好適な１醜残基、としては、例えばフッ素、塩素、臭素
または沃素のようなハロゲン、アシル部分が前に例示し
たようなものであるアシルオキシ基等が挙げられる。

好適な「低級アルキレン基」としてはメチレン、エチレ
ン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタメチレン、
ヘキサメチレン等が挙げられる。

好適な１アリール基」としてはフェニル基等が挙げられ
る。

「保護されたヒドロキシ（低級）アルキル基」および「
保ｗＩキれたヒドロキシ（低級）アルケニル基」の好適
な１ヒドロキシ保護基」としては、テトラヒドロピラニ
ル基等が挙げられる。

目的化合物（Ｉ）の好ましい実施態様は下記のとおりで
ある。

Ｒ１の好ましい実施態様はアミン基、アル（低級）アル
キルアミノ基［さらに好ましくはトリフェニル（低級）
アルキルアミノ基、最モ好ましくはトリチルアミノ基コ
またはアシルアミノ基［きらに好ましくは低級アルカノ
イルアミノ基、最も好ましくはホルミルアミノ基］、 Ｒの好ましい実施態様は低級アルキル基〔ぎらに好まし
くはメチル基コまたはジハロ（低級）アルキル基［さら
に好ましくはジフルオロ（低級）アルキル基、最も好ま
しくはジフルオロメチル基］、 Ｒの好ましい実施態様はカルボキシ基またはエステル化
きれたカルボキシ基［さらに好ましくはジフェニル（低
級）アルコキシカルボニル基、最も好ましくはベンズヒ
ドリルオキシカルボニル基　コ　、 Ｒ５の好ましい実施態様は低級アルケニル基［さらに好
ましくはビニル基コ、ヒドロキシ（低級）アルケニル基
［さらに好ましくはヒドロキシプロペニル基、最も好ま
しくは３−ヒドロキシ−１−プロペニル基コ、ヒドロキ
シ（低級）アルキル基口ａらに好ましくはヒドロキシメ
チル基］、低級アルコキシ（低級）アルキル基［さらに
好ましくは低級アルフキジメチル基、最も好ましくはメ
トキシメチル基コまたは低級アルキルチオ（低級）アル
キル基［きらに好ましくは低級アルキルチオメチル基、
最も好ましくはメチルチオメチル基コ、 Ｒ６の好ましい実施態様は低級アルキル基［さらに好ま
しくはメチル基コ、 Ｒ７の好ましい実施態様はエステル化きれたカルボキシ
基［さらに好ましくは低級アルコキシカルボニル基、最
も好ましくはエトキシカルボニル基］である。

この発明の目的化合物の製造法を以下詳細に説明する。

製造法１ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（Ｉ［）またはア
ミン基におけるその反応性誘導体またはその塩を化合物
（Ｉ）またはカルボキシ基におけるその反応性誘導体ま
たはその塩と反応させることにより製造することができ
る。

化合物（ｍ）のアミン基における好適な反応性誘導体と
しては、化合物（Ｉ［）とアルデヒド、ケ、トン等のよ
うなカルボニル化合物との反応によって生成するンノフ
の塩基型イミノまたはそのエナミン型互変異性体；化合
物（Ｉｔ）とＮ、Ｏ−ビス（トリメチルシリル）アセト
アミド、Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド等のような
シリル化合物との反応によって生成するシリル誘導体；
化合物（Ｉ［＞と三塩化溝またはホスゲンとの反応によ
って生成する誘導体等が挙げられる。

化合物（Ｉ［）および（ＩＩＩ＞の好適な塩類について
は、化合物（１）について例示したものを参照すればよ
い。

化合物（ＩＩＩ）のカルボキシ基における好適な反応性
誘導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物、活性化ア
ミド、活性化エステル等が挙げられる。

その好適な例としては酸塩化物、酸アジド：例えばジア
ルキル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ジヘンジ
ル燐酸、ハロゲン化燐酸等の置換きれた燐酸、ジアルキ
ル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、例えばメタンスルホン酸
、エタンスルホン酸等のアルカンスルホン酸、硫酸、ア
ルキル炭酸、例えばピバリン酸、ペンタン酸、インペン
タン酸、２−エチル酪酸またはトリクロロ酢酸等の、脂
肪凍カルボンタまたはイブ１えば安息香酸等の芳香族カ
ルボン酸のような酸との混合酸無水物；対称酸無水物；
イミダゾール、４−置換イミダゾール、ツメチルピラゾ
ール、トリアゾールまたはテトラゾールとの活性化アミ
ド；または例えばシアノメチルエステル、メトキシメチ
ルエステル、ジメチルイミノメチル［（ｃｏ３）２Ｗ−
ｃＨ−］エステＬ、　　ビニルエステ４．プロパルギル
エステル、ｐ−ニトロフェニルエステル、２．４−ジニ
トロフェニルエステル、トリクロロフェニルエステル、
ペンタクロロフェニルエステル、メシルフェニルエステ
ル、フェニルアゾフェニルエステル、フェニルチオニス
７）ｂ、ｐ−ニトロフェニルチオエステノ呟ｐ−クレブ
ルチオエステＬ、カルボキシメチルチオエステル、ピラ
ニルエステル、ピリジルエステル、ビペリンルエステル
、８−キノリルチオエステル等の活性化エステル、また
は例えばＮ、Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒ
ドロキシ−２−（ＩＨ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシス
クシンイミド、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒド
ロキシ−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール等のＮ
−ヒドロキシ化合物とのエステル等が挙げられる。

これらの反応性誘導体は使用すべき化合物（Ｉ［［）の
種類によってそれらの中から任意に選択することができ
る。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、塩化メチレン、塩化エチレン、テト
ラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルム
アミド、ピリジンのような常用の溶媒中で行われるが、
反応に悪影響を及ぼさないものであればその他のいかな
る有機溶媒中でも反応を行うことができる。これらの常
用の溶媒は水との混合物として使用してもよい。

化合物（Ｉ［［）を遊離酸の形または塩の形で反応に使
用する場合には、Ｎ、Ｎ’　−ンシクロヘキシルカルポ
ジイミド；Ｎ−シクロへキシル−Ｎ′　−モルホリノエ
チルカルボジイミド；Ｎ−シクロへキンルーＮ’−（４
−ジエチルアミノシクロヘキシル）カルボジイミド、Ｎ
、Ｎ’　−ジエチルカルボブイミド；Ｎ、Ｎ’　　−ジ
イソプロピルカルボジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−（３
−ジメチルアミノプロピル）カルボレイミド、Ｎ、Ｎ−
ビス（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレンケテ
ン−Ｎ−７クロヘキシルイミン；ジフェニルケテン−Ｎ
−ンクロヘキンルイミン；エトキシアセチレン；１−ア
ルコキシ−１−クロロエチレン；亜燐酸トリアルキノ呟
ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプロピル；オキシ塩化燐
（塩化ホスホリル）；三塩化溝；塩化チオニル；塩化オ
キサリル５トリフェニルホスフィン；２−エチル−７−
ヒドロキノ・＼ンズイソオキサゾリウム塩；２−エチル
−５−（ｍ−スルホフェニル）イソオキサゾリウムヒド
ロキンド・分子内塩Ｈｔ−（ｐ−クロロベンゼンスルホ
ニルオキン）−６−クロロ−ＩＨ−ベンゾトリアゾール
；Ｎ、Ｎ−’、；メチルホルムアミドと塩化チオニル、
ホスゲン、オキシ塩化燐等との反応によって調製したい
わゆるビルスマイヤー試薬等のような慣用の縮合剤の存
在下に反応を行うのが好ましい。

この反応はまた、アルカリ金属炭酸水素塩、トリ（低級
）アルキルアミン、ピリジン、Ｎ−（低級）アルキルモ
ルホリン、Ｎ、Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミン
等のような無機塩基または有機塩基の存在下に行っても
よい。

反応温度は特に限定きれないが、通常は冷却下または常
温で反応が行われる。

製造法２ 化合物（Ｉｂ）またはその塩は、化合物（Ｉａ）または
その塩をアミノ保護基の脱離反応にイすすことにより製
造することができる。

化合物（Ｉａ）および（Ｉｂ）の好適な塩類としては、
化合物（Ｉ＞について例示したようなものを挙げろこと
ができる。

脱離反応は加水分解：還元、Ｒ１の保護されたアミン基
がアシルアミノ基である化合物（Ｉａ）をイミノハロゲ
ン化剤、イミノエーテル化剤で処理し、次いで必要に応
じて生成物を加水分解する方法等のような常法に従って
行われる。加水分解としては酸または塩基またはヒドラ
ジン等を使用する方法が挙げられる。これらの方法は脱
離すべき保護基の種類によって選択すればよい。

これらの方法中酸を使用する加水分解は、置換されたま
たは非置換アルフキジカルボニル基、その例として、第
三級ペンチルオキシカルボニル基、例えばホルミル、ア
セチル等の低級アルカノイル基、シクロアルコキシカル
ボニル基、置換きれたまたは非置換アラルコキシカルボ
ニル基、例えばトリチル等のアラルキル基、置換された
フェニルチオ基、置換きれたアラルキリデン基、置換さ
れたアルキリデン基、置換きれたシクロアルキリデン基
等のような保護基に最も共通した好ましい方法の一つで
ある。

好適な酸としては、ギ酸、トリフルオロ酢酸、ベンゼン
スルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸等のような
有機酸または無機酸が挙げられるが、最も適当な酸は反
応混合物から減圧蒸留のような常法により容易に回収さ
れうる酸、例えば、ギ酸、トリフルオロ酢酸、塩酸等が
挙げられる。

酸は脱離すべき保護基の種類に応じて選択することがで
きる。脱離反応を酸で行う場合番こは、溶媒の存在下ま
たは存在させずに反応を行うこと力（できる。

好適な溶媒としては、水、塩化メチレン、例えばメタノ
ール、エタノール等のアルコール、テトラヒドロフラン
が挙げられるが、反応に悪影響を及ぼさない溶媒であれ
ばその他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができ、
またそれらの混合物中で反応を行ってもよい。

トリフルオロ酢酸を用いる脱離反応はアニソールの存在
下に行ってもよい。

ヒドラジンを使用する加水分解はフタロイノ呟スクンニ
ル型アミノ保護基の脱離に共通して適用される。

塩基を使用する脱離反応はトリフルオロアセチル基のよ
うなアシル基の脱離に用１−られる。好適な塩基として
は無機塩基および有機塩基が挙げられる。

還元による脱離は一般的に、例えばトリクロロエトキシ
カルボニル ル 換されたまたは非置換アラルコキシカルボニル基、２−
ピリジルメトキシカルボニル基等がその例として挙げら
れるような保護基の脱離に適用きれる。好適な還元法と
しては、例えば水素化ホウ素ナトリウム等の水素化ホウ
素アルカリ金属による還元；例えばスズ、亜鉛、鉄等の
金属、またはこれらの金属と例えば塩化第一クロム、酢
酸第一クロム等の金属塩化合物と、例えば酢酸、プロピ
オン酸、塩酸等の有機酸または無機酸との組合わせによ
る還元：および接触還元がその例として挙げられる．好
適な触媒としては、例えばラネーニッケル、酸化白金、
パラジウム−炭素等の常用のものが挙げられる。

保護基中、アシル基は通常加水分解によって脱離するこ
とができる。特に、ハロゲン置換アルフキジカルボニル
基および８−キノリルオキシカルボニル基は通常、銅、
亜鉛等のような重金３処理によって脱離きれる。

保護基の中でアシル基はまた、例えばオキシ塩化燐等の
イミノハロゲン化剤および例えばメタノール、エタノー
ル等の低級アルコールのようなイミノエーテル化剤で処
理し、要すれば引続いて加水分解することによっても脱
離することができる。

反応温度は特に限定されず、アミン保護基の種類および
上記脱離法の種類によって選択すればよいが、通常は冷
却下または若干加，＠する程度の温和な条件下に反応が
行われる。

この反応においては、Ｒ３のカルボキシ保護基が上記脱
離反応過程中または、反応混合物または反応生成物の後
処理工程中に３Ｍ離カルボキシ基に変化する場合もその
範囲内に包含きれる。

製造法３ 化合物（Ｉｄ）またはその塩は、化合物（Ｉｃ）または
その塩をカルボキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

化合物（Ｉｃ）および（Ｉｄ）の好適な塩類としては、
化合物（Ｉ）について例示したようなものを挙げること
ができる。

この反応は加水分解、還元等の常法によって行うことが
できる。

保護基がエステルである場合には、保護基は加水分解に
より脱離することができる。加水分解は塩基または酸の
存在下に行うのが好ましい。好適な塩基としては、例え
ばナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、例えばマグ
ネシウム、カルシウム等のアルカリ土金属、それらの金
属の水酸化物または炭酸塩または炭酸水素塩、例えばト
リメチルアミン、トリエチルアミン等のトリアルキルア
ミン、ビフリン、１．５−ジアザビシクロ［４，３゜０
］ノン−５−エン、１，４−ジアザビンクロ［２，２，
２］オクタン、１．８−ジアザビシクロ［５，４，０］
ウンデセン−７等のような無機塩基および有機塩基が挙
げられる。好適な酸としては、イ列えばギ酸、酢酸、プ
ロピオン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸および、例え
ば塩酸、臭化水素酸、硫酸停のような無機酸が挙げられ
る。

反応は通常、水、例えばメタノール、エタノール等のア
ルコール、塩化メチレン、ジオキサンまたはそれらの混
合物中で行われるが、反応に悪影響を及ぼきないもので
あればその他のいかなる溶媒中でも反応を行うことがで
きる。液状の塩基または酸も溶媒として使用することが
できる。

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。

還元は４−ニトロベンジル、２−ヨードエチル、２．２
．２−トリクロロエチル等のような保護基の脱離に適用
するのが好ましい。この脱離反応に適用されうる還元法
としては、例えば亜鉛、亜鉛アマルガム等の金属または
例えば塩化第一クロム、酢酸第一クロム等のクロム化合
物の塩と、例えば酢酸、プロピオン酸、塩酸等の有機酸
または無ｍ酸との組合わせを用いる還元；および例えば
パラジウム−炭素等の常用の金属触媒の存在下における
接触還元法が挙げられる。

製造法４ 化合物（Ｉ）またはその塩は、化合物（ＩＶ）またはそ
の塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応きせることによ
り製造することができる。

化合物（Ｖ）の好適な塩としては、例えばナトリウム塩
、カリウム塩等のアルカリ金属塩等のような金属塩が挙
げられる。

この反応は水、緩衝液、アセトン、トリフルオロ酢酸、
ニトロベンゼン、塩化メチレン、塩化エチレン、Ｎ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、
アセトニトリルのような溶媒中で行われるが、反応に悪
影響を及ぼさない溶媒であればその他のいかなる有機溶
媒中でも反応を行うことができる。これらの溶媒中親水
性溶媒は水との混合物として使用してもよい。

反応は中性付近の媒質中で行うのが好ましい、化合物（
Ｖ）を遊離の形で使用する場合には、例えば、アルカリ
金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸
水素塩のような無機塩基、トリアルキルアミンのような
有機塩基等のような塩基の存在下に反応を行うのが好ま
しい。

反応温度は特に限定きれないが、通常は常温、加温下ま
たは若干加熱する程度の温度範囲で反応が行われる。

この発明の累料化合物の製造法を以下に説明する。

製造法Ａ 化合物（■ａ）は化合物（ＶＩ）を化合物（■）または
その塩と反応させることにより製造することができる。

反応条件については後記製造例５（１）の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｂ−■ 化合物（ＸＩ）またはその塩は、化合物（ＩＸ）または
その塩を化合物（Ｘ）またはその塩と反応させることに
より製造することができる。

反応条件については後記製造例４（１）の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｂ−■ 化合物（■ｂ）は化合物（ＸＩ）またはその塩をハロゲ
ン化反応に付すことにより製造することができる。

反応条件については後記製造例４（２）の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｃ−■ 化合物（ＸＩ［［）は化合物（ＶＩａ）を化合物（ＸＩ
［）と反応させることにより製造することができる。

反応条件については後記製造例１（１）の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｃ−■ 化合物（■Ｃ）は化合物（ＸＩＩ［）をホルムアルデヒ
ドと反応させることにより製造することができる。

反応条件については後記製造例１（２）の条件を参照す
ればよい。

製造法り 化合物（■ｄ）またはその塩は、化合物（■Ｃ）をオゾ
ン処理し、次いで生成する化合物を還元に付すことによ
り製造することができる。

反応条件については後記製造例２（１〉の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｅ−■ 化合物（ＸＶ）は化合物（ＸＩ［［）を化合物（ＸＩＶ
）と反応させることにより製造することができる。

反応条件については後記製造例３（１）の条件を参照す
ればよい。

製造法Ｅ−■ 化合物（ＸＶＩ）またはその塩は化合物（Ｘ”／）を、
ハロゲン原子をメルカプト基によって置換しうる置換剤
と反応させることにより製造することができる。

好適な１置換剤」としては、例えば硫化水素ナトリウム
、硫化水素カリウム等の硫化水素アルカリ金属、チオズ
素等が挙げられる。

反応は通常、例えばメタノール、エタノール等のアルコ
ール、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミドのような常用の溶
媒中で行われるが反応に悪影口を及ぼさない溶媒であれ
ばその他のいかなる溶媒中でも反応を行うことができる
。

反応温度は特に限定されず、通常冷却下ないし加熱下に
反応が行われる。

製造法Ｆ 化合物（Ｖａ）またはその塩は、化合物（Ｘ■）または
その塩をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造することができる。

脱離反応は加水分解、還元等のような常法に従って行わ
れる。

これらの方法は脱離すべき保護基の種類によって選択す
ればよい。

製造法Ｇ 化合物（Ｖｂ）またはその塩は、化合物（■）またはそ
の塩を、ハロゲン原子をメルカプト基によって置換しう
る置換剤と反応させることにより製造することができる
。

この反応は製造法Ｅ−■の反応と実質的に同じである。

類ｌ法Ｈ 化合物（Ｉ［）またはその塩は、化合物（Ｘ■）または
その塩を化合物（Ｖ）またはその塩と反応させることに
より製造することができる。

この反応は製造法４の反応と実質的に同じである。

この発明の目的化合物（１）およびその塩は、高い抗菌
活性を示し、ダラム陽性菌およびダラム陰性菌を含む多
種の病ｗ、菌の発育を阻止する新規の化合物であり、抗
菌剤として有用である。治療の目的には、この発明の化
合物は、経口投与、非経口投与または外用に適した有機
または無機の固体状もしくは液状賦形剤のような医薬と
して許容される担体と混合して、該化合物を有効成分と
して含有する医薬製剤の形で使用することができる。

医薬製剤は、カプセル剤、錠剤、糖衣錠、軟膏剤または
平割、液剤、懸濁剤、乳剤等であってよい、所望によっ
ては、上記製剤に助剤、安定化剤、湿潤剤または乳化剤
、緩衝液および通常使用されるその他の添加剤が含まれ
ていてもよい。

化合物の投与量は、患者の年令および容態によって変化
するが、この発明の化合物は、平均１回投与量約１０ｍ
ｇ、５０ｍｇ、　１００ｍｇ、２５０ｍｇ、５００ｎ＋
ｇおよび１０００ｍｇで、病原菌に起因する感染症に有
効である。一般的には、１日当り１ｍｇ〜６０００ｍｇ
またはそれ以上の量を投与してもよい。

目的化合物の有用性を示すために、この発明の代表的な
化合物の抗菌活性を以下に示す。

ロ１コ試験化合物ニ ア−［２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３−
ヒドロキシメチル−１，２゜４−チアジアゾール−５−
イル）デオメチル＝３−セフェムー４−カルボン酸ナト
リウム（シン異性体）［以下化合物（１）と略称コ［２
コ試験法： 下記の寒天板倍数希釈法によって試験管内抗菌活性を測
定した。

試験菌株をトリプトケース　ソイプロス中、−夜培養し
てその１白金耳（生菌数１０８個／ｍｕ）を各濃度段階
の試験化合物を含むハート　インフユーノヨン寒天（Ｈ
Ｉ寒天）に接種し、３７℃で２０時間培養した後、最小
発育阻止濃度（ＭＩＣ）を（／−で表わした。

〔３コ試験結果： ＭＩＣ（ｌ１ｇ／唾） 以下製造例および実施例に従ってこの発明を説明する。

製造例１ （１）３−クロロメチル−５−クロロ−１，２，４−デ
アジアゾール（４０，０ｇ）のアセトン（１１）溶液に
、沃化ナトリウム（７０，５ｇ）を水冷下に加える。１
０〜１５°Ｃで２時間攪拌後、混合物を減圧濃縮する。

残渣を水と酢酸エチルとの混合物に溶解する。有機層を
分取し、まず５％チオ硫酸ナトリウム水溶液で２回洗浄
し、次いで５％塩化ナトリウム水溶液で洗浄する。硫酸
マグネシウムで乾燥後、有機層の溶媒を減圧下に留去し
て粗製５−クロロ−３−ヨードメチル−１，２，４−チ
アジアゾール（６０ｇ）を得る。この粗製化合物を酢酸
エチル（０，６１）に溶解し、この溶液にトリフェニル
ホスフィン（６１，６ｇ）を加える。゛常温で攪拌後、
沈殿を濾取し、酢酸エチルでｆｃ序、乾燥して、（５−
クロロ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）メチ
ルトリフェニルホスホニウム・沃化物（９７，６ｇ）を
得る。

ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−九、δ）　：　５．７５　（２Ｈ，
ｄｊ＝１５Ｈ２）、　７．６−８．０　（１５Ｈ，ａ＋
） （２）（５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）メチルトリフェニルホスホニウム◆沃化物（９
７，６ｇ）の塩化メチレン（１，Ｏｎ溶液に、３６？≦
ホルムアルデヒド水溶液（４００ｍＱ　）を力口える。

混合物をＩＮ＊Ｍ化ナトリウムでｐＨ１０，０に調整し
、２５〜３０°Ｃで２時間激しく攪拌する。この混合物
を１０％塩酸で酸性にしてｐＨ３，０とする。有機層を
分取し、３回水洗して減圧濃縮する。残渣をｎ−ヘキサ
ン中で粉砕して不溶物を濾去する。

濾液の溶媒を減圧下に留去し、油状残渣を蒸留（ｂｐ４
２．５〜４３℃／　５　ｍｍＨｇ）　シて、５−クロロ
−３−ビニル−１，２，４−チアジアゾール（１９，３
６ｇ）を得る。

ＩＲ（）・ルム）　　：　　１４６５．　１３１０．　
１０６８　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２，８　）　’
　５．７５　（ＬＨｌｄｄ、Ｊ＝１０．５Ｈｚ。

２Ｈｚ）、　　６．４０　（ＬＨ，ＡＢｑＩ７）ｄ、２
Ｈｚ、　　１８Ｈｚ）、　　６．７６（ＩＨ，ＡＢｑの
ｄ、１０．５Ｈｚ、　　１８Ｈｚ）（３）５−クロロ−
３−ビニル−１，２，４−チアジアゾール（６８ｇ）の
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（３４０ｍ１！　）溶液
に、硫化水素ナトリウム（５４，９ｇ）を分割してカロ
える。混合物を２５〜３０°Ｃで３０分間攪拌し、氷水
中に注ぎ、１０％塩酸でｐＨ３０に調整して酢酸エチル
で抽出する。有機層を分取して３回水洗し、硫酸マグネ
シウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣をジイソプロピル
エーテルで粉砕し、濾取して、５−メルカプト−３−ビ
ニル−１，２，４−チアジアゾール（ｚｚ、７ｇｇ）を
得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　’　　１５５０．　１４３２．
　１２００　　ａｍ−’ＮＭＲ＜ＣＤＣ１３−１；　）
　’　５．７−５．９　（ＬＨｌｍ）、６．２５−６．
８０（２Ｈ，ｍ） 製造例２ （１）５−クロロ−３−ビニル−１，２，４−チアジア
ゾール（１６，Ｏｇ　）　（７）メタ、ｔ　−ＪＬ、　
（３００ｍＱ　）溶液を−７０〜−６０℃でオゾン処理
する。この溶液に水素化ホウ素ナトリウム（４，１６ｇ
）を−３０°Ｃで加える。混合物を常温で１時間攪拌す
る。１０％塩酸でｐＨ６，０に調整し、溶液を減圧ａ縮
する。残渣を酢酸エチルで抽出して有機層を分取し、水
洗して硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧下に留去
して、５−クロロ−３−ヒドロキシメチル−１，２゜４
−チアジアゾール（１１，２７ｇ　）を得る。

ＩＲ（フィルム）　：　　３３５０　　（ｂｒ）、　　
１６２８．　１４７７゜１４４２゜−１ ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，８）　：４．８６　（２Ｈ１ｓ）
、３．６７　（１）（。

ｂｒ　５） （２）５−クロロ−３−ヒドロキシメチル−１゜２．４
−チアジアゾール（１０，０ｇ）のエタノール（ｌｏｏ
ｍＱ　）　Ｈ液に、チオｖｙ、素（５，０５ｇ）を６５
℃で加える。６５〜７５°Ｃで５０分間攪拌後、混合物
を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層を分取
して５％塩化ナトリウム水溶液で３回洗浄し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥して減圧濃縮する。生成する沈澱を濾取
、乾燥して、３−ヒドロキンメチル−５−メルカプト−
１，２，４−チアジアゾール（１，９８ｇ）を得る。

ＩＲ（スジシール）　　：　　３３５０．　１６３０．
　１４７５　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６，８　
）　’　４．　ｔｏ　（２）１．ｓ＞製造例３ ＜１）（５−クロロ−１，２，４−チアジアゾール−３
−イル）メチルトリフェニルホスホニウム−沃化物（３
２，０ｇ）および（２−テトラヒドロピラニルオキシ）
アセトアルデヒド（１１，０ｇ　）の塩化メチレン（３
ｚｏｍｕ　）溶液に、ＩＮ水酸化ナトリウムを加えてｐ
Ｈ１０，２〜１０．４に調整する。混合物を常温で１時
間攪拌する。２Ｎ塩酸でｐＨ３，０に調整後、有機層を
水洗する。有機層を分取して硫酸マグネシウムで乾燥後
、減圧濃縮し、残渣をシリカゲル（３００ｇ）を使用す
るカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサン−酢
酸エチル（６：１）で溶出、１青製して、３−［（Ｅお
よびＺ）−３−（２−テトラヒドロピラニルオキシ）−
１−プロペニルツー５−クロロ−１，２，４−チアジア
ゾール（１４，５ｇ）を得る。

ＩＲ＜フィルム）　　’　　１６６０．　１４６７、　
１３１０．　１１１８　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３
，６）　’　１．４−２．０　（６Ｈ，ｍ）、３．４−
４．１（２Ｈ，ｍ）、　　４．６−４．９　　（３Ｈ，
ｍ）、　　６．１−７．０　　＜２Ｈ，ｍ）（２）３−
［（ＥおよびＺ）−３−（２−テトラヒドロピラニルオ
キシ）−１−プロペニルヨー５＝クロロ−１，２，４−
チアジアゾール（１４，０ｇ）のメタノール（３１０＋
１１１１　）溶液に、硫化水素ナトリウム（７，０ｇ）
を水冷、攪拌下に加える。同温で１．５時間攪拌後、混
合物を水と酢酸エチルとの混合物中に注ぎ、１０％塩酸
でｐＨ３，０に調整する。有機層を分取して硫酸マグネ
シウムで乾燥し、溶媒を減圧下に留去する。残渣をシリ
カゲル（２６０ｇ）を使用するカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ｎ−ヘキサン−酢酸エチル（３：１）で溶出
して、３−［（ＥおよびＺ）−３−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−１−プロペニル］−５−メツしカプ
ト−１，２，４−チアジアゾール（１０，４４ｇ　）を
得る。

ＩＲ（フィルム）　　：　　１７００．　１６５５．　
１５４０．　１４４０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣｌ２
．　　δ　）　　：　　１．４−２．０　　（６Ｈ，ｍ
）、　　３．３−４．２（２Ｈ，ｍ＞、　４．３−４．
９　（３１（、ｍ）、　６．２−６．８　（２Ｈ，ｍ＞
（３）３−［（ＥおよびＺ）−３−（２−テトラヒドロ
ピラニルオキシ）−１−プロペニルコー５−メルカプト
−１，２，４−チアジアゾール（９，６０ｇ）およびピ
リジニウムｓ＋＋ｐ−）ルエンスルホナート（１，０ｇ
）のエタノール（１２０１ｎＱ）溶液を５５゛Ｃで１５
時間攪拌し、水中に注いで酢酸エチルで３回抽出する。

酢酸エチル層を合わせ、硫酸マグネシウムで乾燥して溶
媒を減圧下に留去し、残渣をジイソプロピルエーテルで
粉砕して、３−［ｃＥおよびＺ）−３−ヒドロキシ−１
−プロペニル］−５−メツしカプト−１，２，４−チア
ジアゾール（５，４８ｇ）を得る。

ｍｐ　：　１０８−１１０℃ ＩＲ（スジ１−ル）　　’　　１５５０．　１５３０．
　１２９０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、８　
）　’　４．１−４．６　（２Ｈ９ｍ）、６−０−７．
２（２１（、？１１＞ 製造例４ （１）５−アミノ−３−クロロメチル−１，２，４−チ
アジアゾール（３０，０ｇ）のメタノール（２００ｍＭ
　）　溶液に、ナトリウムメトキシド（２１，７ｇ）の
メタノール（５０ｍ１ｌ　）　ｉｆＩ液を攪拌還流下に
１．５時間かけて滴下し、混合物を還流下に３０分間攪
拌する。溶液を冷却し、濃塩酸でｐＨ８に調整して溶媒
を留去する。残渣を酢酸エチルとテトラヒドロフランと
の混合物（１：１）に溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥
して減圧濃縮する。残渣をシリカゲルを使用するカラム
クロマトグラフィーに付し、酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
（３：１）で溶出して、５−アミノ−３−メトキシメチ
ル−１，２，４−チアジアゾール（５，８９ｇ）を得る
。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３３７０．　３２５０．
　３１００．　１６８０．　１６１０゜１５３０、１４
９０　ａｍ’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ−８＞　’　３．３３　（３Ｈ
，ｓ）、４．２６　（２）１゜９＞、　　７．８４　　
（２Ｈ，ブロード　５）（２）５−アミノ−３−メトキ
シメチル−１，２゜４−チアジアゾール（９，０ｇ）の
水（８６，８１）溶液に４８％臭化水素酸（１０３，５
ｍＡ　）および銅粉（６２ｍｇ）を室温で加える。混合
物を一１０℃に冷却し、これに亜硝酸ナトリウム（８，
６ｇ）の水（１２，４誰）溶液を滴下する。混合物を一
１０°Ｃで１時間、４０°Ｃで１時間攪拌する。溶液を
冷却し、ＩＮ水酸化ナトリウムでｐＨ６，２に調整し、
酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液を亜硫酸ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧
濃縮して、５−ブロモ−３−メトキシメチル−１゜２．
４−チアジアゾール（１０，５ｇ）を得る。

ＩＲ（）・ルム）　：　　１４８０．　１３９０．　１
３１０　　ｃＬｎ−’ＮＭＲ（ＣＤＣ１３，ｓ＞　＝３
．５６　（３Ｈ−ｓ）、４．７６　（２Ｈ１ｓ）（３）
５−ブロモ−３−メトキンメチル−１゜２．４−チアン
アゾール（１０，０ｇ　）のメタノール（１９０ｍＭ）
溶液に、硫化水素ナトリウム（５，６ｇ）を水冷下に加
える。混合物を水冷下に１５時間攪拌し、酢酸エチル（
５００１１１１１）と水（５００＋ｎＱ　）との混合物
中に注ぎ、６Ｎ塩酸でｐＨ３，０に調整する。酢酸エチ
ル層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮す
る。残渣にメタノール（１ｏＯＩｎＱ）を加え、不溶物
を濾去する。濾液の溶媒を留去し、残渣をシリカゲルを
使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキサ
ンと酢酸エチルとの混合物（２：１）で溶出、精製して
、５−メルカプト−３−メトキシメチル−１，２，４−
チアジアゾール（３，５５ｇ）を得る。

ＩＲ（）・ルム）　　：　　１４５０．　１４２０．　
１１９０　　ａｍ−’ｈＭＲ（ＣＤＣ１３，８）　　’
　　３．４８　　（３Ｈ１ｓ）、　４．４８　　（２Ｈ
，ｓ）。

１１．５　　（ＩＨ，ブロード　Ｓ） 製造イＩＡ５ （１）３−ヨードメチル−５−クロロ−１，２，４−チ
ア・ジアゾール（３２，１ｇ）のテトラヒドロフラン（
３６０ｍＭ　）溶液に、ナトリウム−メタンチオラート
（１２，９ｇ　’）を水冷下に加える。水冷下に１時間
攪拌後、溶液を水と酢酸エチルとの混合物中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液を水洗し、硫酸マ
グネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
を使用するカラムクロマトグラフィーに付し、ｎ−ヘキ
サンと酢酸エチルとの混液（２０：１）で溶出して、３
−メチルチオメチル−５−クロロ−１，２，４−チアジ
アゾール（１４，２ｇ　）を得る。

ＩＲ（フィルム）　　：　　１４８０．　１３９５．　
１３１０．　１０７０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＣＤＣ１３
，Ｅ　）　；２−１７　（３Ｈ１ｓ＞、３８６　（２Ｈ
９ｓ）（２）製造例４（３）と同様にして、５−クロロ
−３−メチルチオメチル−１，２，４−チアジアゾール
を処理することにより、５−メルカプト−３−メチルチ
オメチル−１，２，４−チアジアゾールを得る。

ＩＲ（スジョール）　　：　　１５６５．　１３３０．
　１２２０．　１０８５　　ｃｍ−ＩＮＭＲ（ＣＤＣ１
３，８）　’　２．１３　（３Ｈ１ｓ）、３．６７　（
２Ｈ１ｓ＞製造例６ ツーアミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４
−カルボン酸（１，０ｇ）および５−メルカプト−３−
ビニル−１，２，４−チアジアゾール（０，６８ｇ）の
燐酸−クエン酸緩衝液（１２１！ＩＱ　）中温合物を炭
酸水素ナトリウム（８００ｍｇ）でｐＨ６，９に調整す
る。溶液を６０〜６３６Ｃ，ｐＨ６，９〜７，２の範囲
内で２時間攪拌する。この溶液を水（１２ｍｔ　）で希
釈し、１０％塩酸でｐＨ３，８に調整する。沈殿を濾取
、水洗（２０戚、３回）し、次いでアセトンで洗浄し、
乾燥して、７−アミノ−３−（３−ビニル−１，２，４
−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（０，９０ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ遭−ル）　　：　　３４００．　３１８０．
　１８１０．　１６２ｇ。

１５５０　ｃｒｎ−’ ＮＭＲ（Ｄ　０−ＮａＨＣＯδ）　：　３．４０．３．
７０　（２）１．ＡＢＱ。

２３゛ Ｊ：１８Ｈｚ）、　４．１２．４．５６（２Ｈ，ＡＢｑ
Ｊ＝１４）１ｚ）。

５．０２　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．４５　（
ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）。

５．８１　（１）１．ｄｄＪ＝１０．５Ｈｚ、　２Ｈｚ
）、　６．３０　（ＬＨ。

ｄｄ、Ｊ：１８Ｈｚ、　　２Ｈｚ）、　６．７８　（１
）１．ｄｄ、Ｊ＝１０．５Ｈｚ。

１８Ｈ２） 製造例７ ツーアミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４
−カッしボン酸（５，７ｇ）を、５−メルカプト−３−
メトキ・ンメチル−１．２．４−チアジアゾール（３，
４＆）のトリフルオロ酢酸（９８ｚＱ　）溶液に加え、
混合物を数分間攪拌し、三フッ化ホウ素・エーテル付加
物（８，９ｇ）をこれに加える。混合物を室温で３時間
ｐＩｌ拌し、溶媒を減圧下に留去する。残渣を２８％水
酸化アンモニウムにより水冷下ｐＨ３，９に調整する。

沈殿を濾取して水、アセトンおよびジイソプロピルエー
テルで順次洗浄し、乾燥して、粗製目的化合物を得る。

この粗生成物を濃塩酸（４０眠）中に懸濁し、混合物を
室温で３０分間攪拌する。不溶物を濾去後、溶液を２８
％水酸化アンモニウムで水冷下にｐＨ３，９に調整する
。生成する沈毅を濾取し、水冷、アセトンおよびジイソ
プロピルエーテルで洗浄し、乾燥して、７−アミノ−３
−（３−メトキシメチル−１，２゜４−チアジアゾール
−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸（６，１ｇ　）　ヲ得ル。

ＩＲ（スジ貨−ル）　　：　　１７ｇ０．　１６０５．
　１５００　　ａｍ−’ＮＭＲ（Ｄ　０−ＮａＨＣＯａ
、ｌ；　）　’　３−５１　（３）１．ｓ）、３．１３
゜３．８３　＜２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ＞、　４．
１７．４．５９　＜２Ｈ。

ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　４．６８　（２Ｈ，ｓ）、
　５．０８　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．４８　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞
製造例８ 製造例６および７と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−アミノ−３−（３−ヒドロキシメチル−１，
２，４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　３３５０　　（ブロード
）、　　１８００．　１６２０　　ｃｒｎ−”ＮＭＲ（
Ｎａ）ＩＣＯ３−Ｃ２０，Ｓ　）　’　３．４０．３．
８０　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ＞、　　４．０７．　４．６５　（２Ｈ，
ＡＢｑ、Ｊ：１４Ｈｚ）。

４．５４５　　（２Ｈ，ｓ）、　　４．９−５．３　　
（２Ｈ，ｍ）（２）７−アミノ−３−［３−（（Ｅおよ
びＺ）−３−ヒドロキン−１−プロペニル）−１，２，
４−チアジアゾール−５−イルコチオメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸。

ＩＲ（スジ９−ル）　　’　　３３６０．　１７９６．
　１６１３　　ａｍ’ＮＭＲ（Ｄ　０−ＮａＨＣＯ３，
８＞　’　３．４３．３．７９　（２Ｈ９ＡＢｑ。

ＪＪ８Ｈｚ＞、　４．０−５．２　（４Ｈ，ｍ＞、　５
．０８　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．５５　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ＞
、　６．１−７．２（２Ｈ，ｍ） 製造例９ ２、−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イル）−
２−ジフルオロメトキシイミノ酢酸（シン異性体）（２
，４ｇ）およびジイソプロピルエチルアミン（１，２９
ｇ）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（３５ｍρ）中温
合物を一３０℃に冷却し、これに塩化メシル（１，１５
ｇ）を滴下する。混合物を−２０〜−３０°Ｃで攪拌し
て活性化酸溶液を得る。一方別に７−アミノ−３−クロ
ロメチル−３−セフェムー４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（２，１８ｇ）およびＮ−トリメチルシリルアセトア
ミド（５，２５ｇ）の塩化メチレン（２（ＩｎＱ　）中
温合物を室温で３０分間攪拌して透明溶液とし、次いで
一２０°Ｃに冷却する。

この溶液に上記で得られる活性化酸溶液を一挙に加える
。混合物を−１５〜−１０℃で３０分間攪拌し、水中に
注いで酢酸エチルで抽出する。抽出液を３回゛　　水洗
し、硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。残渣を
ジイソプロピルエーテル中で粉砕して、７−［＝ｌ−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）−２−ジフルオロ
メトキシイミノアセトアミド］−３−クロロメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性
体）（４，６４ｇ）を得る。

ＬＲ（スジ３−ル）　　：　　１７８０．　１７２０．
　１６７０．　１５９０゜１５２０　ｃｍ−１ Ｘ皇ヱユ Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（０，１３ｍ　）および
塩化ホスホリル（０，１５４ｍ１１　）から調製したビ
ルスマイヤー試薬のテトラヒドロフラン（５ｍ１１）溶
液に、２−メトキシイミノ−２−（２−ホルムアミドチ
アゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）（０，３２ｇ
）を水冷下に加える。混合物を同温で１時間攪拌して活
性化酸溶液を製造する。７−アミノ−３−（３−ビニル
−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン＃（０，５０ｇ）および
Ｎ−トリメチルシリルアセトアミド（１，５ｇ、）のテ
トラヒドロフラン（３０ｍＱ　）溶液に、上記で製造し
た活性化酸溶液を一２０’Ｃで加える。同温で３０分間
攪拌後、混合物を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出する
。有機層を分取して水洗し、硫酸マグネシウムで乾燥し
て溶媒を減圧下に留去する。残る沈殿をジイソプロピル
エーテルで粉砕し、濾取して、７−［２−メトキシイミ
ノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）ア
セトアミド］−３−（３−ビニル−１，２，４−チアジ
アゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸（シン異性体）（ｏ、７ｏｇ）を得る。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　３２００．　１７７０．
　１６９０　　（ｓｈ）、　　１６７５（ｓｈ）、　１
６５３　ａｍ−１ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．δ’）　：　３．５３．３．
８０　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．８７　（３Ｈ，ｓ）、　　４
．２ｇ、　　４．６７　（２）１゜ＡＢｑ、Ｊ＝１３．
５Ｈｚ）、　　５．１５　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）
、　　５．８０（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５）１ｚ、　　８１
（ｚ）、　　５．７７　（１）ｔ、ｄｄ。

Ｊ＝１０．５Ｈｚ、　　２Ｈｚ）、　　６．３３　（Ｌ
Ｈ，ｄｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ。

２Ｈｚ＞、　　６．８０　（１）！、ｄｄ、Ｊ＝１８１
（ｚ、　　１０．５Ｈ２）、　　７．３９（ＬＨ，ｓ）
、　　８．１７　（ＬＨ，ｓ）、　　９．６５　（ＬＨ
，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ＞実施例２ ２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）　（１
，０１ｇ　）のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２１１
１１１）溶液に、ジイソプロピルエチルアミン（０，５
４ｇ）および塩化メシル（０，４８ｇ）を加え、混合物
を同温で３０分間攪拌して活性化酸溶液を得る。７−ア
ミノ−３−（３−メトキシメチル−１，２，４−チアジ
アゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸（０，８７ｇ）およびＮ−トリメチルシリル
アセトアミド（４，６ｇ）のテトラヒドロフラン（２１
鶴）溶液に、活性化酸溶液を一４０°Ｃで加える。反応
溶液を一５°Ｃで１時間攪拌し、水（１００ｍＱ　）と
酢酸エチル（１００ＩＩＩＱ　）との混合物中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出する。酢酸エチル溶液を水洗し、硫酸
マグネシウムで乾燥して溶媒を減圧下に留去する。残渣
をジイソプロピルエーテルで粉砕して、７−［２−ジフ
ルオロメトキシイミノ−２−（２−トリチルアミンチア
ゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３−メトキ
シメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）デ
オメテルー３−セフェムー４−カルボン酸（シン異性体
）　（１，８７ｇ　）を得る。

ＩＲ（スジ３−ル）　　：　　１７７０．　１６７５．
　１５３０　　ｃｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　
）　：３．３３　（３）１．ｓ）、　３−５０．３．７
３（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ＞、　４．２６．４．
５８　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ−１４Ｈｚ）、　４．５４　（２Ｈ，ｓ）、　５．１
３　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ＞、　　５．６８　　（ＬＨ，ｄｄＪ＝５）
１ｚ、　　８Ｈｚ）、　　６．９２＜ＩＨ，ｓ）、　　
７．０３　　（ＬＨ，ｔ、Ｊ４７２Ｈｚ）、　　７．３
０　　＜１５）！。

ｍ）、　８．９２　（ＬＨ，ｓ）、　９．８７　（ＬＨ
，ｄ、Ｊ：８Ｈｚ＞実施例３ 実施例！および２と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３
−ヒドロキシメチル−１，２，４−テアジアゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（
シン異性体〕。

ＩＲ（スジョール）　　：　　３２５０．　１７６８．
　１６５３　　（ｂｒ）　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄａ、Ｓ　）　：３．６０　（２Ｈ９ｂｒ、　ｓ）、
３．８５（３）１．ｓ）、　　４．２３．　４．６０　
　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚ＞。

４．５８　（２Ｈ，ｓ）、　５．１３　（１）１．ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．７８＜ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、
　　８Ｈｚ）、　　７．３７　　（ＬＨ，ｓ）、　　８
．４５（ＬＨ，ｓ）、　９．６０　（１）！、ｄ、Ｊ＝
８Ｈｚ）、　１２．５３　（ＩＨ。

ｂｒ、５） （２）７−［２−’、；フルオロメトキシイミノー２−
（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトア
ミトコ−３−（３−ヒドロキシメチル−１，２，４−チ
アジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−
４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジａ−１＞　　’　　３３００　　（ｂｒ）、
　　１７７５．　１６８０　　ｃｒｎ−’ＮＭＲ（ＤＭ
ＳＯ−ｄａ、δ）　：　３．６　（２Ｈ，ｍ）、　４．
２３．４．６０（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ）、　４
．６０　（２Ｈ，ｓ）、　５．１３　（ＩＨ。

ｄ、Ｊ二５Ｈｚ＞、　　５．７３　　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ
＝５１（ｚ、　　８Ｈｚ）、　　６．９３（ＬＨ，ｓ）
、　７．２−７．５　（１５Ｈ，ｍ）、　７．１０　（
ＩＨ，ｔ。

Ｊ＝７２Ｈｚ）、　８．８７　（ＩＨ，ｓ＞、　９．８
１　（ＬＨ，ｄＪ＝８Ｈｚ）（３）７−Ｃ２−メトキシ
イミノ−２−（２−ホルムアミドデアゾール−４−イル
）アセトアミトコ−３−［ａ−［（ＥおよびＺ）−３−
ヒドロキシ−１−プロペニル）−１，２，４−チアジア
ゾール−５−イルコチオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジコール）　　：　　１７８０．　１６７０．
　１５４５　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、Ｓ　
）　’　３．６６　（２Ｈ１ｓ）、３．８９　（３Ｈ１
ｓ）、　　４．１８　　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　
　４．２−４゜８　　（２８，ｍ）。

５、Ｌ３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．７９　（
ＩＨ，ｄｄＪ＝ＳＨｚ。

８Ｈｚ＞、　６．１−７．０　（２Ｈ，ｍ）、　７．４
０　（ＩＨ，ｓ）、　８．５゜（ＩＨ，ｓ）、　９．５
９　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（４）７−［２−メトキ
シイミノ−２−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イ
ル）アセトアミトコ−３−（３−メトキシメチル−１，
２，４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン＃（シン異性体）。

ＩＲ（スジー−ル）　　：　　１７８０．　１６７５．
　１５４０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、８　
　）　　’　　３．３３　　（３Ｈ１ｓ）、　　３．５
ｇ、　　３．７６（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　
　３．８６　　＜３８．ｓ）、　　４．２６゜４．５８
　　（２８，ＡＢｑ、Ｊ＝１４Ｈｚン、　　４．５５　
　（２Ｈ，ｓ）、　　５．１５（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
＞、　５゜７９　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ−５Ｈｚ、　８１（
ｚ）。

７．４０　＜１８．ｓ）、　８．５１　（ＬＨ，ｓ）、
　９．６７　（ＩＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈｚ） （５）７−［２−ジフルオロメトキシイミ７〜２−（２
−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド
］−３−［３−（（ＥおよびＺ）−３−ヒドロキン−１
−プロペニル）−１，２，４〜チアジアゾール−５−イ
ルコチオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン
異性体）。

ＩＲ＜−Ａジａ−４）　　’　　１７８０．　１６７５
．　１５３０　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、ｌ
；　）　’　３，６６　（２Ｈ−ｍ＞−４，０−４−９
（４Ｈ，ｍ＞、　　５．１３　（ＩＨ，ｄ、、ｃ５Ｈｚ
）、　　５．７５　　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ：５Ｈｚ、　　８Ｈｚ＞、　　５．９−７．１　　（
２Ｈ，ｍ）、　　６．９２　（１）１゜ｓ）、　　７．
００　（１）１．ｔ、Ｊ＝７２Ｈｚ＞、　　７．３０　
　（１５８，ｍ）。

８．８６　（ＩＨ，ｓ）、　　９．８６　（ＬＨ，ｄ、
Ｊ＝８１（ｚ）塞Ｊｄ１土 ２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−トリチルア
ミノチアゾール−４−イル）酢酸（シン異性体）（０，
６０ｇ）を、テトラヒドロフラン（５瓢）中Ｎ、Ｎ−ジ
メチルホルムアミド（０，１２或）および塩化ホスホリ
ル（０，１３３ｍＱ　）から調製したビルスマイヤー試
薬により活性化する。７−アミノ−３−（３−ビニル−
１，２，４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−
３−ヒフエム−４−カルボン＃（０，４５ｇ）およびＮ
−トリメチルシリルアセトアミド（１，３ｇ）のテトラ
ヒドロフラン（２０ｍ１１　）溶液に、上記で製造した
活性化酸溶液を一２５℃で加える。同温で１時間攪拌後
、混合物を氷水中に注ぐ、混合物を５％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液でｐＨ２，０にｖＲ整し、酢酸エチルで抽出
する。有機層を分取し、５％塩化ナトリウム水ｆｕ液で
洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥して溶媒をＭｒＥ下に
留去する。残渣に水（３ｍＭ）とギ酸（１０戒）との混
合物を加え、混合物を５〜１０°Ｃで３時間攪拌する。

ギ酸を減圧下に留去し、残渣を２％炭酸水素ナトリウム
水溶液（１５ｍＭ　）に溶解する。

酢酸エチルで洗浄後、水石を１０％塩酸で酸性にしてｐ
Ｈ３，２とし、テトラヒドロフラン（，２０ｍ１２）と
酢酸エチル（ｒａｍρ）との混合物で抽出する。有機溝
を分取し、できるだけ少量の水で洗浄し、硫酸マグネ〉
ラムで乾燥して減圧濃縮する。残渣シジイソブロビルエ
ーテルで粉砕し、濾取、乾燥して、７−Ｃ２−ジフルオ
ロメトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）アセトアミトコ−３−（３−ビニル−１，２，４
−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸（シン異性体）（ｏ、ｔｓｇ）を得
る。

ＩＲ（ズブ３−ル）　　：　　３２５０．　１７７０．
　１６７２．　１６２８゜１５３２　ａｍ−１ ＮごＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、　ｆ；　）　：　３．５７．
３．８４　（２Ｈ，ＡＢ（１゜Ｊ＝１８Ｈｚ）、　４．
３０．４．６７　（２）１．ＡＢｑＪ＝１３．５Ｈｚ）
。

５．１８　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　　５．７
８　　ＣＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ＞、　　５．７５　　（ＬＨ，ｄｄ、に１０．５
Ｈｚ、　　２Ｈｚ）、　　６．３５（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝
２Ｈｚ、１８Ｈｚ）、６．８０　　（ＩＬｄｄ。

Ｊ＝１０．５）＋ｚ、　　１８）１ｚ）、　　６．９８
　　（１１（、ｓ）、　　７．０８　　（ＬＨ。

し、Ｊ＝６６Ｈｚ）、９．８９　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝８
）１ｚ）実施例５ ７−［２−メトキンイミノ−２−（２−ホルムアミドデ
アゾール−４−イル）アセトアミトコ〜３−（３−ビニ
ル−１２，４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カッしボン酸（シン異性体）　（
０，６５ｒ；　）のメタノール（２５ｍＭ　）中！！瀾
液に、濃塩酸（０，４０ｍＭ　）を加える。ｒ捏合物を
常温で１時間攪拌し、この溶液を炭酸水素ナトリウムで
中和する。メタノールを減圧下に留去後、残渣を２％炭
酸水素ナトリウム水溶液に溶解する。水溶液を酢酸エチ
ルで１５１：浄し、次いで１０％塩酸で水冷下に酸性に
してｐＨ２，５とする。周温で１時間攪拌後、沈殿を濾
取、水洗、乾燥して、７−［２−メトキンイミノ−２−
（２〜アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ〜
３−（３−ビニル−１，２，４−チアジアゾール−５−
イル）チオメチル−３−セフェム−４−カッしポンυ（
ノン異性体）＋１．３４ｇ）を得る。

ＩＲ（ｘジａ−４）　　’　　３３００．　１７７５．
　１６６３．　１６２０゜１５３０　ａｍ−’ ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ　　８　）　：　３．５３．３．
８０　（２Ｈ，ＡＢｑ。

６゛ Ｊ＝１８）１ｚ）、　３．８３　（３Ｈ，ｓ）、　４．
２９．４．６３　（２Ｈ。

ＡＢｑＪ＝１２．５Ｈｚ）、　５．１２　（ＩＨ，ｄ、
Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．８０（１）１．ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ
、　８Ｈｚ）、　５．７８　（ＬＨ，ｄｄ。

Ｊ＝１（１，５Ｈｚ、　２Ｈ２）、　６．３０　＜ＬＨ
，ｄｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ。

２）１ｚ）、　６．７２　（ＩＨ，ｓ）、　６．７７　
（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝１８Ｈｚ。

１０．５Ｈｚ）、　９．５２　（ＬＨ，ｄｊ：８Ｈｚ）
Ｋ及更至 実施例５と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−メトキシイミノ〜２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３−ヒド
ロキシメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル
）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ＜ｘジ＊−ル）　　：　　３３００　　（ブＯ−ｔ
’）、　　１７７０．　１６６５（プ。−４・）　　。

−１ ＮＭＲ＜Ｄご５Ｏ−ｄｓ、６　）　、３．５１−３．７
８　（２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１８）１ｚ）、　　３．８２　（３Ｈ，ｓ）、　　
４．２７．　４．５６　＜２８゜ＡＢｑ、Ｊ＝１２Ｈｚ
）、　　４．６０　　（２１（，９）、　　５．Ｈ（Ｉ
Ｈ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７６　（１１（、ｄｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ、　　８１（ｚ）、　　６．７１（１）１．ｓ）、
　　７．１５　　（２Ｈ，ブロー）’　　ｓ）、　　９
．５３　　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝８Ｈ２） （２）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−［３−（（
ＥおよびＺ）−３−ヒドロキシ−１−プロペニル）−１
，２，４−チアジアゾール−５−イルコチオメチル−３
−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　’　　１７７５．　１６６０．
　１０５０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、δ″
）　：　３．５６．３．７９　＜２Ｈ，ＡＢ（１゜に１
ｇＨｚ）、　３．８４　（３）１．ｓ）、　４．１−４
．８　（４１（、ｍ）。

５．１７　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．７９　＜
ＬＨ，ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ。

８Ｈｚ）、　　６．０−７．１　　（２Ｈ，ｍ＞、　　
６．７６　　（１）１．ｓ）、　　７．２０（２）！、
ｓ）、　　９．５８　　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ）（３
）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）アセトアミド］−３−（３−メトキシ
メチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル）チオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
。

ＩＲ（スジう−ル）　　：　　１７７０．　１６６０．
　１５２０　　ｃｒｎ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６．　
ｌ；　）　：　３゜３５　（３Ｈ，ｓ）、　３．５３．
３．７６＜２Ｈ，ＡＢｑ、に１８Ｈｚ）、　３．８３　
（３Ｈ，ｓ）、　４．２８゜４．５６　（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１４Ｈｚ）、　４．５６．（２Ｈ，ｓ）、　５．
１２（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ＞、　５．７４　（ＬＨ，
ｄｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、　８Ｈｚ）。

６．７１　　（ＬＨ，ｓ）、　　７．１３　　（２Ｈ，
ブロード　ｓ）、　９．５１（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ） （４）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチ
アゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−（３−メチ
ルチオメチル−１，２，４−チアジアゾール−５−イル
）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒ
ドリル（シン異性体）。

ＩＲ（アノ３−ル）　　’　　１７８０．　１７２０．
　１６７０．　１５２５　　ｃｒｎ−’ＮＭＲ（ＤＭＳ
Ｏ−ｄ６，８　）　’　２．１０　（３Ｈ１ｓ）、３−
３０　（３Ｈ１ｓ）、　　３．６６、　３．８３　　（
２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８）１ｚ）、　　３．８４（２Ｈ
，ｓ）、　　４．２０．　４．４６　＜２）（、ＡＢｑ
、Ｊ＝１４）１ｚ）。

５．２０　（ＬＨ，ｄ、Ｊ：５Ｈｚ）、　　５．８４　
　（ＬＨ’、ｄｄ、Ｊ＝ＥｉＨｚ。

９Ｈｚ）、　　６．７３　（ＬＨ，ｓ）、　　６．９５
　　（ＩＨ，ｓ＞、　　７．３６（１０）（、ｍ＞、　
　９．５６　（ＩＨ，ｄ、Ｊ：９Ｈｚ）（５）７−（：
２−メトキシイミノ−２−（２−アミノデアゾール−４
−イル）アセトアミトコ−３−（５−エトキシカルボニ
ル− ゾール−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ　　（Ｘジａ−ル）　　：　　１７７５，　　１７
００，　　１５２０　　Ｃａ１１−’ＸＸ及ユ ニ−［２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−（３−ヒドロキシメチル−１、２．４−チアジアゾー
ル−５−イル）チオメチル−３〜セフェム−４−カルボ
ン酸（シン異性体）（０．９５ｇ，）、木（３１）およ
びギ酸（１０恨）の混合物を水冷下に３時間攪拌する。

炭酸水前ナトリウムで中和後、混合物を水で希伏し、酢
酸二チメして３河洗浄する。水層を１０％塩酸でｐＨ４
．　５に調整し、大孔非イオン性吸着樹脂１ダイヤイオ
ン）ＩＰ−２０，（商標二三菱化成社製）を使用するカ
ラムクロマトグラフィーに付す．カラムを水洗して３０
％イソプロピルアルコール水溶液で溶出する。

目的化合物を含む両分をｉ！ＩＩ結乾燥して、７−［２
−ノフルオロメトキシイミノ−２−（　２−アミノチア
ゾール−４−イル）アセトアミトコ−３−（３−ヒドロ
キシメチル−１．２．４−チアジアゾール−５−イル）
チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム
（シン異性体）（０．２８ｇ）を得る。

ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　３２５０　　（ブロ
ード）、　　１７７５．　　１６７２（ブロード）　　
Ｃｍ” ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−九，、５’　）　：　３．３Ｑ，
　３．６３　（２Ｈ，ＡＢＱ。

Ｊ＝１８Ｈｚ＞、　４．３８．　４．６９　（２Ｈ，Ａ
Ｂｑ，Ｊ＝１２）１ｚ）。

４、５７　（２Ｈ，ｓ）、　５．０３　（ＩＨ．ｄ．Ｊ
＝５Ｈｚ）、　５．６０（１）１，ｄｄ．Ｊ＝５）１ｚ
．　８Ｈｚ）、　６．９５　（ＩＨ，ｓ）、　７．０７
（ｌ）１．ｔ．Ｊ＝７２Ｈｚ）、　　７．３５　　（２
Ｈ，ブロード’　　ｓ）、　　９．８５（　ＩＨ．　ｄ
．　Ｊ＝８）１ｚ　） ３１．％　イ列　８ 実施例７と同様にして下記化合物を得る・７−［ｚ−ジ
フルオロメトキノイミノ−２−（２−アミノチアゾール
−４−イル）アセトアミド］−３−（３−メトキンメチ
ル−１２．４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ　　（スノー−ル）　　：　　１７７０．　　１６
７０，　　Ｌ５２５　　ａｍ−１ＨＭＲ　＜ｏＭｓｏ−
ｄ６．　８　）　’　３．３５　（３Ｈ．ｓ）、３．　
５３，３．７９（２Ｈ．ＡＢｑ，Ｊ４８Ｈｚ）、　４．
２６．　４．５８　（２Ｈ．ＡＢｑ。

Ｊ＝１４Ｈｚ）、　４．５６　（２Ｈ．ｓ）、　５．１
６　（ＬＨ．ｄ。

Ｊ：５Ｈｚ＞、　５．７８　（１８，ｄｄ．Ｊ＝５Ｈｚ
．　８）（ｚ）、　６．９６（１８，ｓ）、　７．０７
　（ＬＨ．ｔ．Ｊ＝７１Ｈｚ）、　７．２８　（２８。

ブロード　ｓ）、　　９．８６　　（ＬＨ，ｄ，Ｊ＝８
Ｈｚ）実′ｗｉ例９ ７−［　２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−ト
リチルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−
３−［３−（（ＥおよびＺ）−３−ヒドロキン−１−プ
ロペニル）−１．２．４−チアノアゾール−５−イルコ
デ才メチル−３ーセフェム−４−カルボン酸（シン異性
体）（２，１ｇ）、アニソール（２ｎ＋Ｑ）および塩化
メチレン（６１）の、２合物に、トリフルオロ酢酸（４
戚）を水冷攪拌下にカロえる。同温で２時間攪拌後、混
合物をジイソプロピルエーテル（５０１１１Ｑ　）中に
注ぐ、生成する沈殿を濾取して酢酸エチル（ｓｏｍｕ　
）と水（５０ｍσ）との混合物に溶解する。有機層を分
取して炭酸水素ナトリウム水溶液によりｐＨ７，２で抽
出する。酢酸エチルで２回洗浄後、水層をＩＮ塩酸で酸
性にしてｐＨ２，８にする。生成する沈殿を濾取、水洗
し、五酸化燐で減圧乾燥して、７−［２−ジフルオロメ
トキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イル
）アセトアミトコ−３−［３−（（ＥおよびＺ）−３−
ヒドロキシ−１−プロペニル）−１，２゜４−チアジア
ゾール−５−イルコチオメチル− ン酸（シン異性体）を得る。

ｍｐ　：　１６０°Ｃ（分解） ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　１７７０，　　１６
８０．　　１５３０　　ａｍ−１ＨＭＲ　（ＤＭＳＯ−
ｄａ−８）　：　３．５６．　３．８３　（２Ｈ，ＡＢ
ｑ。

Ｊ＝１８）（ｚ）、　　４．１−５．０　（４Ｈ，ｍ）
、　　５．２０　　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５）１ｚ）、　　５．８３　（ＬＨ．ｄｄ．Ｊ＝５
Ｈｚ，　　８Ｈｚ）、　　６．１−７、０　　（２Ｈ，
ｍ）、　　７．０３　（ＩＨ．ｓ）、　　７．１３　（
ＬＨ，ｔ。

Ｊ＝７２Ｈｚ）、　　７．３５　（２Ｈ，ｓ）、　　９
．９６　（ＬＨ，ｄ．Ｊ＝８Ｈｚ＞米ｙａ　＜ｐ＋籾 実施例９と同様にして、７−［２−ジフルオロメトキシ
イミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イ
ル）アセトアミトコ−３−（　３−メチルチオメチル−
１．２．４−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異
性体）を処理することにより下記化合物を得る。

７−［２−ジフルオロメトキシイミノ−２＝（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３−
メチルチオメチル−１．２．４−チアジアゾール−５−
イル）チオメゾルー３−セフェム−４−力んボン酸（シ
ン異性体）。

ＩＲ　　（スジタール）　　：　　１７７０，　　１６
７５．　　１５２０　　ａｍ−’ＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−
ｄｓ．Ｓ　）　’　２．１０　（３Ｈ．ｓ）、　３．　
５６，３．　７６（２Ｈ，ＡＢｑ．Ｊ＝１８Ｈｚ）、　
３．８６　（２Ｈ，ｓ）、　４．２６。

４、５６　　（２Ｈ．ＡＢｑ．Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　５
．１７　　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　　５．７１　　（ｌＨ．ｄｄ．Ｊ：５
）（ｚ，　　９Ｈｚ）、　　６．９６（ＩＨ，ｓ）、　
　７．０８　（１）１，ｔ．に７１Ｈｚ＞、　　７．３
０　（２Ｈ。

ｓ）、　　９．８７　　（ＩＨ．ｄ．Ｊ＝９）１ｚ）実
施例１１ 実施例９と同様にして，７−［２−ジフルオロメトキシ
イミノ−２−（２−トリチルアミンチアゾール−４−イ
ル）アセトアミトコ−３−（　５−エトキ・ンカルポニ
ルー４−メチルチアゾール−−イル）チオメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体
）を処理することにより下記化合物を得る。

７−［２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−アミ
ノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−［５−
エトキシカルボニル−４−メチルチアゾール−２−イル
）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異
性体）。

ＩＲ　　（スジ１−ル）　　：　　１７７５．　　１６
８０．　　１５３０　　ｃｍ−’ＮＭＲ　　（ＤＭＳＯ
−ｄ６．　　δ　）　　：　　１．２６　　（３Ｈ．ｔ
．Ｊ＝７Ｈｚ＞、　　２．５９（３Ｈ．ｓ）、　３．２
０．　３．７８　（２Ｈ．ＡＢｑ．Ｊ＝１８Ｈｚ＞。

４、２６　（２Ｈ．ｑ，ＪニアＨｚ＞、　４．１Ｂ，　
４．６３　＜２８．ＡＢｑ。

Ｊ＝１４）ｔｚ）、　５．１７　（ＩＨ．ｄ．Ｊ：５）
１ｚ）、　５．７９　（ＩＨ。

ｄｄＪ＝５Ｈｚ．　９Ｈｚ）、　７．００　（１８，ｓ
）、　７．１０　（１）１。

ｔ．ｃ７０Ｈｚ）、　　７．３３　　（２Ｈ．ブロード
　ｓ）、　　９．９２　　（１１（。

ｄ，Ｊ＝９）１ｚ） 実施例１２ 実施例９と同様にして、７−［２−メトキシイミノ−２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ
−３−（３−メチルチオメチル−１、２．４−チアジア
ゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）を処理すること
により下記化合物を得る。

７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミトコ−３−（３−メチルチオ
メチル−１．２．４−チアジアゾール−５−イル）チオ
メチル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）
。

１Ｒ　　（ス九−ル）　　：　　１７７０．　　１６６
０．　　１５２０　　ｃｍＮＭＲ　（ＤＭＳＯ−ｄ　　
８　）　：　２．１０　（３Ｈ．ｓ）、　３．５６．　
３．７８６゛ （２）！、ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３．８３　（
３Ｈ，ｓ）、　　３．８６　　（２Ｈ。

ｓ）、　　４．２６．　４．５６　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ
＝１４Ｈｚ＞、　　５．１３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）
、　　５．７６　（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５）１ｚ、　　９
Ｈｚ）。

６．７３　　（ＩＨ，ｓ）、　　７．１８　　（２Ｈ，
ブロード　ｓ）、　　８．５４（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝９Ｈ２
） 実施例１３ 実施例９と同様にして、７−［２−メトキシイミノ−２
−（２−アミノチアゾール−４−イル）アセトアミトコ
−３−（５−エトキシカルボニル−４−メチルチアゾー
ル−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン酸ベンズヒドリル（シン異性体）を処理することによ
り下記化合物を得る。

７−［２−メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）アセトアミトコ−３−（５−エトキシカ
ルボニル−４−メチルチアゾール−２−イル）チオメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　’　　１７７５．　１７１０．
　１６５０．　１５３０　　ｃｍ−ＩＮＭＲ（ＤＭＳＯ
−ｄｓ−８＞　’　１．２４　（３Ｈ１ｔ、Ｊ＝７）１
ｚ）、２．５８（３）１．ｓ）、　　３．５１．　３．
７３　（２Ｍ、ＡＢｑ、Ｊ＝１８）１ｚ）。

４．２５　（２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　　４．１８．
　４．６１　　＜２Ｈ，ＡＢｑ。

Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　５．１３　（ＬＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈ
ｚ）、’　　５．７６　（１）！。

ｄｄ、Ｊ：５Ｈｚ、　　９Ｈｚ）、　　６．７３　　（
ＩＨ，ｓ）、　　７．１８　（２Ｈ。

ブロード　ｓ）、　　９．５４　　（１）！、ｄ、Ｊ＝
９Ｈｚ）塞ｍｌｌ聾 ７−［２−ジフルオロメトキシイミノ−２−（２−トリ
チルアミノチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３
−クロロメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベンズ
ヒドリル（シン異性体）（７，０１ｇ）のアセトニトリ
ル（４０ｍ文）ン容ｌ夜に、沃化ナトリウム（３，６ｇ
）を室温で加える。３０分間攪拌後、この溶液に５−メ
ルカプト−３−メチルチオメチル−１，２，４−チアジ
アゾール（２，８６ｇ）を加える。この溶液を室温で１
．５時間攪拌し、水と酢酸エチルとの混合物中に注ぐ。

酢酸エチル溶液を水洗して不溶物を除去し、次いで有機
溶媒溶液を硫酸マグネシウムで乾燥して減圧濃縮する。

残渣をシリカゲルを使用するカラムクロマトグラフィー
に付し、塩化メチレンと酢酸エチルとの混液（１０：１
）で溶出して、７−［２−ジフルオロメトキシイミノ−
２−（２−トリチルアミノチアゾール−４−イル）アセ
トアミトコ−３−（３−メチルチオメチル−１，２，４
−チアジアゾール−５−イル）チオメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）（４
，１３ｇ）を得る。

ＩＲ（スジ９−ル）　　：　　１７７０．　１６７５．
　１５３０　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　
）　’　２．　ｔｏ　（３Ｈ，ｓ）、　３．６６．３．
８９（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ：１８Ｈｚ）、　３．６９　（
２Ｈ，ｓ）、　４．２０゜４．５０　（２８，ＡＢｑ、
Ｊ：１４Ｈｚ）、　５．２０　（１）１．ｄ。

Ｊ＝５Ｈｚ）、　５．７４　（ＬＨ，ｄｄ、Ｊ：５Ｈｚ
、　９Ｈｚ）、　６．９２（ＬＨ，ｓ）、　６．９６　
（ＩＨ，ｓ）、　７．０３　（Ｌ）Ｉ、ｔ。

Ｊ＝７０Ｈｚ）、　８．８９　（ＩＨ，ｓ）、　９．８
６　（ＬＨ，ｄ。

Ｊ：９Ｈｚ）、　７．３６　（２５Ｈ，ｍ＞夫産！旦 実施例１４と同様にして下記化合物を得る。

（１）７−［２−メトキシイミノ−２−（２−ホルムア
ミドチアゾール−４−イル）アセトアミド］−３−（３
−メチルチオメチル−１，２，４−チアジアゾール−５
−イル）チオメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ベ
ンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジ１−ル）　　：　　１７８０．　１６７０．
　１５４０　　ａｍ−’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄｓ、８　
　）　　’　　２−１０　　（３Ｈ１ｓ）、　３．６９
．３．９２（２）１．ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）、　　３
．８３　　（２）１．ｓ）、　　３．８９　　（３）（
。

ｓ）、　４．２０．４．４６　（２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１
４）１ｚ）、　５．２３（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ）、　
５．９２　（ＩＨ，ｄｄＪ＝５Ｈｚ、　９Ｈｚ）。

６．９７　　（ＩＩ（、ｓ）、　　７．３６　　（１０
Ｈ，ｍ＞、　　７．４３　　（１）１．ｓ）。

８．５０　　（１）１．ｓ）、　　９．６８　　（１１
（、ｄ、Ｊ＝９）１ｚ）（２）７−４２−ジフルオロメ
トキシイミノ−２−（２−トリチルアミノチアゾール−
４−イル）アセトアミトコ−３−（５−エトキンカルボ
ニル−４−メチルチアゾール−２−イル）チオメチル−
３−廿フエムー４−カルボン酸ベンズヒドリル（シン異
性体）。

ＩＲ（スジヲール）　　’　　１７８０．　１７００．
　１５２０　　ｃｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄａ、８　
　）　　’　　１．２３　　（３Ｈ１ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ）
、　２．５２（３Ｈ，ｓ）、　３．４９．３．７６　（
２Ｈ，ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ）。

４．２０　＜２Ｈ，ｑ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、　４．１７．４
．４５　（２８，ＡＢｑ。

Ｊ＝１４Ｈｚ）、　　５．１７　　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５
Ｈｚ）、　　５．７１　　（ＩＨ。

ｄｄ、Ｊ＝５）１ｚ、　　９Ｈｚ）、　　６．８９　　
（ＬＨ，ｓ）、　　６．９４　　（１）１゜ｓ）、　　
７．００　　（Ｌ）！、ｔ、Ｊニア０Ｈｚ）、　　７．
３０　（２５Ｈ，ｍ）。

８．８６　　（ＩＨ，ｓ）、　　９．８１　　（ＬＨ，
ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ＞（３）７−［２−メトキシイミノ−２
−（２−ホルムアミドチアゾール−４−イル）アセトア
ミド］−３−（５−エトキシカルボニル−４−メチルチ
アゾール−２−イル）チオメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ベンズヒドリル（シン異性体）。

ＩＲ（スジョール）　　：　　１７８５．　１７００．
　１５４０　　ａｍ−１ＨＭＲ（ＤＭＳＯｄｓ、Ｓ　）
　’　１．２６　（３）１−　ｔ、Ｊ＝７Ｈｚ＞、２．
５７（３Ｈ，ｓ）、　３．７３　（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝２Ｈ
ｚ）、　４．２５　（２Ｈ，ｑ。

ＪニアＨｚ＞、　４．１７．４．５０　（２Ｈ，ＡＢｑ
、Ｊ＝１４Ｈｚ）。

５．２３　（ＩＨ，ｄ、Ｊ＝５）１ｚ）、　５．９２　
（ＩＨ，ｄｄ、Ｊ＝５）Ｔｚ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾１はアミノ基または保護されたアミノ基、 Ｒ＾２はハロゲン原子を有していてもよい低級アルキル
   基、 Ｒ＾３はカルボキシ基または保護されたカルボキシ基、 Ｒ＾４は式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾５は低級アルケニル基、ヒドロキシ（低級
   ）アルケニル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、低級
   アルコキシ（低級）アルキル基または低級アルキルチオ
   （低級）アルキル基を意味する｝で示される基または式
   ： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６は低級アルキル基、 Ｒ＾７は保護されたカルボキシ基を意味する）で示され
   る基を意味する］で示される新規セフェム化合物および
   その塩。 ２）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾３はカルボキシ基または保護されたカルボ
   キシ基、 Ｒ＾４は式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｛式中、Ｒ＾５は低級アルケニル基、ヒドロキシ（低級
   ）アルケニル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、低級
   アルコキシ（低級）アルキル基または低級アルキルチオ
   （低級）アルキル基を意味する｝で示される基または式
   ： ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾６は低級アルキル基、 Ｒ＾７は保護されたカルボキシ基を意味する）で示され
   る基を意味する］で示される化合物およびその塩。 ３）式： ▲数式、化学式、表等があります▼ ［式中、Ｒ＾５は低級アルケニル基、ヒドロキシ（低級
   ）アルケニル基、ヒドロキシ（低級）アルキル基、低級
   アルコキシ（低級）アルキル基または低級アルキルチオ
   （低級）アルキル基を意味する］で示される化合物およ
   びその塩。